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12-08-2015 дата публикации

A chemical vapor device and a control method thereof

Номер: KR0101543274B1
Автор: 조상연, 김성배, 김용현, 박원모, 박원석, 박창균
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 지지벨트의 위치를 안정적으로 유지함으로써 공정 및 장치의 안정성을 확보할 수 있는 화학 증착 장비 및 그 제어방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 가요성 기판에 대한 증착공정이 이루어지는 공정챔버와; 상기 공정챔버 내부로 유입된 가요성 기판을 지지하는 지지벨트와; 상기 지지벨트부를 지지하는 지지롤러와;상기 지지벨트부의 옆에 마련되어 상기 지지벨트가 소정의 위치를 이탈하는지 여부를 감지하는 센서부와; 상기 지지롤러와 연결되어 상기 센서부의 감지 결과에 따라서 상기 지지롤러를 이동시켜 상기 지지벨트의 위치를 조절하는 위치조절장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 증착 장비를 제공한다.

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Номер записи: 1
06-08-2018 дата публикации

태양전지모듈-발광모듈로 구성되는 어셈블리

Номер: KR0101885763B1
Автор: 이준호, 권창구, 김정배, 윤영태, 이경국
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 태양전지모듈- 발광모듈로 구성되는 어셈블리에 관한 것으로서, 상세하게는 발광장치에 유입되는 전류 성분 중 돌입전류의 진입을 방지하여 발광장치를 보호하는 한편, 태양전지와 연결된 배터리의 충전상태를 용이하게 표시할 수 있는 태양전지모듈- 발광모듈로 구성되는 어셈블리에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 태양전지 모듈과; 상기 태양전지모듈과 결합되는 발광모듈과; 상기 태양전지모듈로부터 발생된 전기를 충전하는 배터리와; 상기 태양전지모듈로부터 발생한 전기 또는 상기 배터리에 충전된 전기를 상기 발광장치로 선택적으로 공급하는 스위치와; 상기 태양전지모듈 또는 상기 배터리에서 상기 발광모듈로 공급되는 돌입전류를 제한하는 돌입전압류제한부를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지모듈-발광모듈 어셈블리를 제공한다. 이러한 본 발명에 의하여 상기 태양전지 모듈 또는 상기 배터리에서 상기 발광모듈로 전력이 공급되는 경우, 초기 공급시 발생할 수 있는 돌입전류의 영향을 제한함으로써 상기 발광모듈이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 2
26-09-2022 дата публикации

기판 처리장치 및 그 작동방법

Номер: KR102446732B1
Автор: 이명진, 김종식, 이광호, 정석철, 한종국
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판 처리장치의 일 실시예는, 공정챔버; 상기 공정챔버 내부에 수용되고, 회전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 적어도 하나 배치되고, 상면에 기판이 안착되는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터 하부에 배치되고 상기 서셉터와 연결되며 자전중심이 상기 서셉터의 자전중심과 일치하도록 배치되는 회전체; 및 측면이 상기 회전체의 측면과 대향되도록 배치되고, 외주면에 직경방향으로 돌출형성되는 적어도 하나의 돌출부가 형성되고, 상기 돌출부가 상기 회전체의 외주면과 접촉하여 상기 회전체를 자전시키는 자전구동부를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 3
14-05-2024 дата публикации

챔버 세정 방법, 박막 증착 방법 및 기판 처리 장치

Номер: KR102665773B1
Автор: 김지훈, 신승철, 유진혁
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 챔버 세정 가스로 인하여 박막의 증착률에 대한 차이를 줄이고, 균일도를 향상시킬 수 있는 챔버 세정 방법 및 챔버 세정 후 박막을 증착하는 방법, 기판 처리 장치를 제공하는 것으로, 본 발명에 따른 챔버 세정 방법은 플루오린(F)를 포함하는 제 1 세정 가스로 챔버 내부로 분사하는 제 1 단계; H2O를 포함하는 제 2 세정 가스를 상기 챔버 내부로 분사하는 제 2 단계; 및 기판을 투입하기 전 박막을 증착하는 제 3 단계를 포함하여 박막의 증착률 및 균일도가 향상될 수 있다.

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Номер записи: 4
20-01-2016 дата публикации

ISOLATION VALVE AND METHOD FOR CONTROLLING THEREOF

Номер: KR0101587130B1
Автор: 조병섭
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 벨로우즈의 수명을 연장시킴과 아울러 손상을 방지할 수 있도록 한 아이솔레이션 밸브에 관한 것으로, 아이솔레이션 밸브는 진공 펌프에 접속되는 펌핑 라인과 공정 챔버에 접속되는 진공 라인을 가지는 제 1 하우징; 및 상기 제 1 하우징에 결합되어 상기 펌핑 라인 및 상기 진공 라인을 동시에 개폐하는 제 2 하우징을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 5
22-05-2017 дата публикации

기판 처리 방법

Номер: KR0101738544B1
Автор: 함무영
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은, 챔버; 상기 챔버의 내부에 위치하여 기판을 지지하는 지지부 및 상기 지지부에서부터 상기 챔버의 외부까지 연장되는 연장부로 이루어진 서셉터; 및 상기 챔버의 외부에 형성되어 있으면서, 상기 챔버의 내부에 모니터링 신호를 입력하고, 이어서 상기 챔버 내부로의 반응 전류를 측정한 후, 측정한 반응 전류를 미리 설정한 기준 반응 전류와 비교하여 공정 진행을 제어하는 공정 제어부를 포함하여 이루어진 기판 처리 장치, 및 그를 이용한 기판 처리 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 챔버의 외부에 형성되어 있는 공정 제어부를 통해서, 상기 챔버의 내부에 모니터링 신호를 입력하고 이어서 상기 챔버 내부로의 반응 전류를 측정한 후 측정한 반응 전류를 미리 설정한 기준 반응 전류와 비교하여 공정 진행을 제어함으로써, 챔버의 도어를 개방하지 않은 채로 기판의 크랙 발생 유무 또는 챔버 내부의 오염 정도 등과 같은 챔버 내부의 환경 변화를 용이하게 감지할 수 있어, 챔버 내부의 환경 변화에 보다 효율적으로 대처할 수 있는 장점이 있다.

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13-06-2017 дата публикации

태양전지 모듈의 배선방법 및 배선장치

Номер: KR0101744564B1
Автор: 유찬형
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 태양전지 패널에 버스 바 및 배선을 설치하는 태양전지 모듈의 조립방법 및 장치에 관한 것으로, 태양전지 패널의 배선방법은, 다수의 태양전지 셀을 포함하는 태양전지 패널을 준비하는 단계; 상기 태양전지 패널 상에 상기 다수의 태양전지 셀에 전기적으로 연결되기 위한 버스 바와 상기 버스 바와 전기적으로 연결되기 위한 배선을 위치시키는 단계; 상기 버스 바 및 상기 배선을 상기 태양전지 패널의 고정시키기 위해 테이프를 위치시키는 단계; 및 상기 버스 바 및 상기 배선에 의한 단차를 극복하기 위해 상기 테이프를 가압하여 상기 테이프를 상기 버스 바 및 상기 배선과 상기 태양전지 패널에 접착시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 7
30-10-2018 дата публикации

기판 이송 장치 및 그 제어 방법

Номер: KR0101913300B1
Автор: 김수웅, 이명진, 최승대
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 이송 장치의 제어방법에 관한 것이다. 본 발명은 챔버의 중앙에 배치되는 제1이송 장치; 및 상기 챔버의 가장자리에 배치되는 제2이송 장치;를 포함하고, 상기 제2이송 장치는 상기 제1이송 장치보다 높게 배치되어 기판이 기울어진 상태에서 인입 또는 인출되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면 복수 개의 기판 각각에 대해서 좌우 방향 및 전진 방향에 대해서 원하는 위치에 용이하게 배치시킬 수 있다.

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Номер записи: 8
03-07-2015 дата публикации

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING OF THIN FILM TYPE SOLAR CELL

Номер: KR0101533244B1
Автор: 마창수, 서정호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 태양전지의 효율을 향상시킴과 아울러 생산성을 증가시킬 수 있도록 한 박막형 태양전지의 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로, 박막형 태양전지의 제조방법은 기판에 전면전극을 형성하는 공정; 상기 전면전극의 소정영역을 제거하여 제 1 분리부를 형성하는 공정; 상기 전면전극을 포함한 상기 기판에 반도체층 및 투명도전층을 형성하는 공정; 상기 제 1 분리부와 인접한 상기 반도체층 및 투명도전층의 소정영역을 제거하여 콘택부를 형성하는 공정; 상기 콘택부를 포함한 상기 기판에 후면전극을 형성하는 공정; 및 상기 콘택부와 인접한 상기 후면전극과 상기 투명도전층 및 상기 반도체층을 포함하는 제 1 박막의 소정영역을 제거하여 제 2 분리부를 형성하는 공정을 포함하며, 상기 제 2 분리부는 상기 제 1 박막의 소정영역에 직접 조사되는 레이저에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 9
09-01-2017 дата публикации

가스분배수단 및 이를 포함한 기판처리장치

Номер: KR0101693673B1
Автор: 도재철, 전부일, 송명곤, 이정락
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 공정가스가 공급되고 플라즈마가 방전되는 방전부가 설치된 가스분배수단 및 이를 포함한 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 챔버리드 및 챔버몸체의 결합에 의해 반응공간을 제공하는 공정챔버; 상기 챔버리드와 결합되고 제 1 측면을 가지는 다수의 플라즈마 소스전극; 상기 챔버리드와 결합되고 상기 다수의 플라즈마 소스전극과 교번적으로 배열되며 상기 제 1 측면과 대향하는 제 2 측면을 가지는 다수의 플라즈마 접지전극; 및 상기 다수의 플라즈마 소스 및 접지전극 중 하나에 각각 형성되고, 제 1 공정가스를 수용하는 제 1 수용공간, 상기 제 1 측면에 형성되어 상기 제 1 수용공간과 유체 연통되는 다수의 제 1 관통홀, 및 상기 다수의 제 1 관통홀과 유체 연통되고 플라즈마 방전공간을 제공하는 매트릭스 형태의 제 1 방전부를 포함하는 다수의 제 1 가스분배수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 10
21-09-2017 дата публикации

THIN FILM TYPE SOLAR CELL

Номер: KR101780771B1
Автор: KIM, YOUNG GI, KIM, YONG HYUN, PARK, CHANG KYUN, MIN, KYUNG IN, LEE, JUNG KYUN
Принадлежит: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.

The present invention provides a thin film type solar cell capable of reducing module costs without a need for a high specification converter and a charging system because cell efficiency is not decreased without increasing a unit cell width and voltage is not increased. The thin film type solar cell comprises a plurality of cell sets connecting in parallel on a substrate. Each of a plurality of cell sets includes a plurality of unit cells connecting in series. The plurality of unite cells includes a first electrode, a semiconductor layer, and a second electrode. COPYRIGHT KIPO 2017 (AA) Second unit cell (BB) First unit cell (CC) First cell set (DD) Second cell set (EE) Third cell set ...

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Номер записи: 11
19-01-2024 дата публикации

무선 수신 코일 일체형 OLED 장치 및 그 제조방법

Номер: KR102626592B1
Автор: 김정배, 금민종, 윤영태
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 유기발광소자(OLED) 제조 공정 중 금속 전극 형성 공정 시 무선 수신 코일을 함께 형성하여 무선 수신 코일을 OLED에 일체화함으로써 별도의 무선 수신 장치 및 AC -DC 변환기 없이도 무선 송신부에서 송신되는 교류 전력을 다이렉트로 수신하여 OLED를 구동 시킬 수 있는 무선 수신 코일 일체형 OLED 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 무선 수신 코일 일체형 OLED 장치 및 그 제조방법에 의하면, AC-DC 변환기를 제거하여 전체적인 사이즈를 감소시키고, 무선 송신부에서 전송되는 AC 전력을 다이렉트로 OLED 장치에 인가하여 OLED 소자를 발광시킴으로써 OLED 장치의 구동부가 단순해져서 제조 단가를 낮출 수 있고, 전원 공급 장치가 소비하는 전력만큼 전력 절감이 가능하며, OLED 장치의 최대 장점인 디자인 자유도를 극대화할 수 있는 장점이 있다.

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Номер записи: 12
24-08-2017 дата публикации

인젝터 어셈블리

Номер: KR0101771229B1
Автор: 김선기
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명에 따른 인젝터 어셈블리는 챔버 내에 가스를 분사하는 인젝터; 챔버 외측에 설치되며, 인젝터와 연결되어 인젝터의 가스 분사 위치를 조정하는 인젝터 홀더;를 포함하며, 인젝터 홀더는 인젝터와 결합되어 인젝터를 이동시키는 위치 조절부, 위치 조절부를 수평으로 구동시키는 수평구동부; 챔버 외측과 위치 조절부를 연결하며 인젝터의 단부를 둘러싸는 탄성부재로 이루어진 연결관을 포함한다. 본 발명에 따른 기판 처리장치는 내부 공간을 제공하는 챔버; 챔버의 내부에 설치되며 기판이 안착되는 기판 지지대; 챔버 내에 가스를 분사하는 인젝터; 및 챔버 외측에 설치되며, 인젝터와 연결되어 인젝터를 수평방향으로 이동시키는 인젝터 홀더;를 포함한다. 본 발명에 따르면, 인젝터의 분사구를 원하는 위치로 정밀하게 축방향이동시킬 수 있다. 특히 인젝터의 분사구를 수평방향으로 정밀하게 이동시킬 수 있다. 또한 기판 처리장치의 챔버 내부의 인젝터 분사구 위치를 육안으로 확인하지 않고도 원하는 지점으로 이동시킬 수 있기 때문에, 공정 수행 중에 인젝터 분사위치를 조정하기 위해 챔버의 진공상태를 해제하고 챔버를 개방할 필요가 없어 공정시간을 단축하고 효율적인 작업을 할 수 있다.

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Номер записи: 13
27-12-2016 дата публикации

박막 트렌지스터의 제조 방법

Номер: KR0101689691B1
Автор: 김재호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 상에 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극이 상하 방향으로 이격되어 형성되고, 게이트 전극과 소스 및 드레인 전극 사이에 게이트 절연막 및 활성층이 형성되며, 드레인 전극의 일부를 노출시키는 콘택홀이 형성되는 박막 트랜지스터의 제조 방법에 관한 것으로서, 게이트 전극, 소스 및 드레인 전극 중 적어도 하나는 프린팅(printing), 쉐도우 마스크(shadow mask)를 이용한 증착 방법 중 적어도 어느 하나의 방법으로 형성되고, 드레인 전극의 일부를 노출시키는 콘택홀은 레이저 스크라이빙(laser scribing) 및 반응성 이온 에칭(Reactive Ion Etching : RIE) 중 적어도 하나의 방법으로 형성된다. 따라서 본 발명에 실시예에 의하면 별도의 포토 공정을 거치지 않는 직접 패터닝 방법으로 게이트 전극, 소스 및 드레인 전극, 콘택홀을 형성함에 따라, 공정을 단순화할 수 있다. 또한 공정 시간 및 공정 비용을 감소시키는 효과가 있다.

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Номер записи: 14
01-09-2017 дата публикации

발광 소자

Номер: KR0101773544B1
Автор: 이형섭, 정종원
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 OLED와, OLED를 둘러싸도록 마련된 방열판과, OLED와 방열판 사이에 마련된 방열층을 포함하며, 방열층은 그래핀을 포함한 물질로 형성된 발광 소자를 제시한다.

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Номер записи: 15
21-11-2016 дата публикации

기판 처리장치에 구비되는 공정챔버

Номер: KR0101677661B1
Автор: 피중호, 구분회, 박광수
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 공정챔버의 일 실시예는, 상부판; 적어도 하나의 기판을 지지하고, 승하강이 가능하도록 구비되는 기판안착부; 상기 기판안착부를 수용하고, 상기 상부판에 의해 폐쇄되는 수용부; 상기 상부판에 장착되고, 공정가스를 상기 수용부에 공급하는 가스공급부; 및 상기 상부판의 하측에 배치되고, 상기 가스공급부의 일부분이 삽입되는 단열재를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 16
15-06-2016 дата публикации

Method of Cleaning Process Chamber

Номер: KR0101630234B1
Автор: 강성철, 조병하, 김주용
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 알루미늄 및 전이금속을 포함하는 질화물의 박막이 부착되어 있는 공정챔버를 세정하는 공정챔버의 세정방법에 관한 것으로, 공정챔버의 세정방법은 내벽에 부착된 알루미늄 및 전이금속을 포함한 질화물의 박막을 제거하는 공정챔버의 세정방법에 있어서, 붕소를 함유하는 제 1 가스 및 불소를 함유하는 제 2 가스를 포함하는 세정가스를 상기 공정챔버에 공급하여 상기 박막을 제거하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 17
27-01-2016 дата публикации

Method of Cleaning Process Chamber

Номер: KR0101589107B1
Автор: 전성진, 윤영수
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 금속질화물 박막을 증착하는 공정챔버를 세정하는 공정챔버의 세정방법에 관한 것으로, 공정챔버의 세정방법은, 내벽을 가지는 공정챔버를 준비하는 단계; 상기 공정챔버의 내부에 기판을 안치시키는 단계; 소스가스로써 전이금속을 포함한 금속 유기물의 전구체와 반응가스로써 질소를 포함한 물질이 반응하여 금속질화물을 형성할 수 있도록, 상기 기판은 제 1 온도를 유지하고, 상기 공정챔버의 상기 내벽은 상기 제 1 온도보다 낮은 제 2 온도를 유지시키는 단계; 상기 소스가스와 상기 반응가스를 공급하여, 상기 금속질화물을 상기 기판 상에 제 1 두께로 형성하고, 상기 내벽에 상기 제 1 두께보다 얇은 제 2 두께로 형성하는 단계; 상기 공정챔버의 외부로 상기 기판을 반출시키는 단계; 상기 공정챔버에 식각가스를 공급하여, 상기 내벽의 상기 금속질화물을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 18
14-02-2019 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR0101948282B1
Автор: 신승철, 김지훈, 유진혁
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 챔버의 구획된 공간으로 소스가스 및 반응가스를 각각 분사하는 소스가스 분사유닛의 분사부 및 반응가스 분사유닛의 분사부 중, 적어도 하나의 분사부가 독립적으로 제어되는 2개의 영역으로 구획 형성된다. 그러면, 소스가스 분사유닛의 분사구를 이용하여 소스가스가 적게 증착된 기판의 부위로 더 많은 소스가스를 분사하거나, 반응가스 분사유닛의 분사구를 이용하여 소스가스가 적게 증착된 기판의 부위로 더 많은 반응가스를 분사하여 더 많은 소스가스가 증착되게 할 수 있으므로, 기판의 전면(全面)에 균일한 박막을 형성할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

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Номер записи: 19
31-10-2022 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR102461199B1
Автор: 김상훈, 곽재찬
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판처리장치를 개시하며, 챔버 내에 구성되며, 적어도 하나의 공정 대상이 상면에 로딩되고, 공정을 위하여 회전하는 서셉터(Susceptor); 상기 서셉터의 회전 중심을 기준으로 서로 마주하도록 상기 서셉터의 상부에 구성되며, 상기 서셉터의 상부를 제1 공간과 제2 공간으로 분할하는 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 가스 분사 장치; 상기 제1 공간에 대응하는 상기 챔버의 제1 가장자리영역과 제1 중심영역의 소스가스를 각각 펌핑하는 소스가스 펌핑 장치; 및 상기 제2 공간에 대응하는 상기 챔버의 제2 가장자리영역과 제2 중심영역의 반응가스를 각각 펌핑하는 반응가스 펌핑 장치;를 포함한다.

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Номер записи: 20
26-09-2017 дата публикации

태양 전지 및 그 제조 방법

Номер: KR0101781044B1
Автор: 김형석, 김도형, 황철주, 전부일, 윤명수, 권기청
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 핑거 라인으로 수집되는 전하의 수집 효율을 증가시켜 광전 변환 효율을 증가시킬 수 있는 태양 전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 태양 전지는 본 발명에 따른 태양 전지는 제 1 반도체층; 상기 제 1 반도체층의 일면에 형성된 제 2 반도체층; 상기 제 2 반도체층에 형성된 제 1 투명 도전층; 상기 제 1 투명 도전층에 형성되어 상기 제 1 반도체층에서 생성되는 제 1 극성의 전하를 수집하는 핑거 라인; 상기 제 1 투명 도전층과 상기 핑거 라인의 계면에 형성된 제 1 라인 접합층; 상기 제 1 반도체층의 타면에 형성된 제 3 반도체층; 및 상기 제 3 반도체층에 형성되어 상기 제 1 반도체층에서 생성되는 제 2 극성의 전하를 수집하는 전하 수집부를 포함하여 구성될 수 있다.

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Номер записи: 21
15-07-2016 дата публикации

박막 증착 시스템 및 이를 이용한 박막 증착 방법

Номер: KR0101639732B1
Автор: 서동균, 조병하
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명에 따른 박막 증착 시스템은 원료물질을 제공하는 원료물질 공급부, 원료물질 공급부와 연결되어 상기 원료물질 공급부로부터 원료물질을 공급받아 기화시키는 기화기가 구비된 원료 가스 공급부, 원료 가스 공급부와 연결되어 기화된 원료물질을 공급받아 피처리물 상에 박막을 증착하는 박막 증착 장치, 일단이 기화기와 연결되고 타단이 배기펌프와 연결되어 상기 기화기 내부를 배기하는 배기배관 및 배기배관과 연결되도록 설치되어, 상기 배기배관의 압력을 조절함으로써, 상기 기화기 내부로 공급된 원료물질의 유속을 제어하는 압력 조절부를 포함한다. 따라서, 본 발명의 실시예들의 의하면 적어도 기화기 내로 액상의 원료물질을 공급하는 단계에서, 압력 조절부를 이용하여 기화기와 연결된 배기배관의 압력을 높인다. 이에, 기화기 내로 공급된 액상의 원료물질의 유속이 감소함에 따라, 상기 원료물질이 기화기 내에 머무는 시간이 증가한다. 이로 인해, 기화기 내로 공급된 원료물질이 기화되는 기화율이 상승하는 효과가 있다. 따라서, 충분한 양의 기화된 원료물질을 박막 증착 장치로 공급할 수 있어, 스텝커버리지(S/C)를 향상시킬 수 있다. 이에, 전기적 특성이 우수한 소자를 제작할 수 있다.

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Номер записи: 22
09-07-2015 дата публикации

Laminating System and Method

Номер: KR0101534023B1
Автор: 이창선, 이상돈
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 피처리재 상에 내구성 판재를 열 압착시키는 라미네이팅 시스템 및 방법에 관한 것으로, 라이네이팅 시스템은, 다수의 피처리재의 각각에 대하여 라미네이팅 공정을 수행하기 위해, 상부몸체와 하부몸체를 포함하는 다수의 라미네이터; 상기 다수의 라미네이터가 적재되는 라미네이팅 카세트; 상기 다수의 라미네이터의 상기 상부몸체를 상기 하부몸체와 분리 및 결합시키는 리프팅 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 23
30-10-2018 дата публикации

플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101913377B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 이윤성
Принадлежит: 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.

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19-07-2017 дата публикации

트레이와 이를 이용한 기판 처리 장치

Номер: KR0101753079B1
Автор: 최종용
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 많은 기판을 적재할 수 있도록 대면적화가 용이한 트레이와 이를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 기판이 적재되는 기판 지지 플레이트; 및 상기 기판 지지 플레이트를 승강 가능하게 지지하는 가이드 프레임을 포함하여 구성되며, 상기 기판 지지 플레이트는 서로 연결되는 결합부를 가지는 적어도 2개의 지지 플레이트; 인접한 2개의 지지 플레이트의 결합부에 형성된 복수의 결합 부재 삽입 홈; 및 상기 복수의 결합 부재 삽입 홈 각각에 삽입되어 상기 인접한 2개의 지지 플레이트를 결합시키는 복수의 결합 부재를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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02-02-2016 дата публикации

Appratus for treatmenting substrate

Номер: KR0101590476B1
Автор: 양철훈, 최규진, 전용한, 이의규
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 챔버 하부의 중심영역으로 공급되는 가열수단의 빛을 차폐 및 반사시키는 차폐수단을 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는, 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 반응공간에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치대; 상기 기판안치대를 가열시키기 위해, 상기 챔버의 하부에 위치하고, 중앙홀과 상기 중앙홀의 주변에 배치되는 램프를 포함하는 가열수단; 상기 램프의 출사광이 상기 중앙홀로 공급되는 것을 방지하기 위한 차폐수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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03-05-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법

Номер: KR0101854242B1
Автор: 이상돈, 한정훈
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 상에 분사되는 소스 가스와 반응 가스를 공간적으로 분리하여 기판에 증착되는 박막의 증착 균일도를 증가시킬 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 설치되어 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 챔버 리드에 방사 형태로 설치되어 상기 기판 지지부에 국부적으로 대향되며, 접지 전극들 사이에 마련된 적어도 하나의 가스 분사 공간에 공급되는 가스를 상기 기판 지지부 상에 국부적으로 분사하는 복수의 가스 분사 모듈을 가지는 가스 분사부를 포함하고, 상기 가스 분사 공간의 내측과 상기 가스 분사 공간의 외측의 가스 분사량은 상이한 것을 특징으로 한다.

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30-11-2018 дата публикации

발광장치 및 그 제조방법

Номер: KR0101924083B1
Автор: 이형섭, 고광만, 이승준
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광장치 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 출광되는 빛을 굴절시킴으로써 출광량을 증대시킬 수 있는 발광장치에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 빛이 투과하는 재질로 구성되는 기판과; 상기 기판상에 배치되는 제1전극과; 상기 제1전극상에 배치되는 발광부와상기 발광부 상에 배치되는 제2전극과;상기 기판에 마련되어 상기 발광부로부터 방출되어 상기 기판을 통과하는 빛을 굴절시키되, 상기 기판 상에 복수의 층으로 구성되는 렌즈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광장치 및 그 제조방법을 제공한다. 이와 같은 본 발명에 의하여 렌즈부의 배치밀도를 제고함으로써, 기판에서 출사되는 빛의 양이 종래보다 현저하게 증가할 수 있다.

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19-10-2015 дата публикации

METAL COMPOUND THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THERE OF AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE SAME

Номер: KR0101561549B1
Автор: 전성진
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 금속 화합물 박막, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 기판 상에 금속 탄화물이 제 1 함량으로 함유된 제 1 금속 화합물 박막을 형성하는 단계 및 상기 제 1 금속 화합물 박막 상에 상기 금속 탄화물이 상기 제 1 함량보다 적은 제 2 함량으로 함유된 제 2 금속 화합물 박막을 형성하는 단계를 포함하는 금속 화합물 박막 형성 방법 그리고, 이를 통해 제작된 금속 화합물 박막 및 이를 갖는 반도체 소자의 제조 방법을 제공한다. 이와 같이 본 발명은 질소 및/또는 탄소 함유 가스를 플라즈마화 하기 위한 RF 파워를 조절하거나, 증착 공정의 공정 온도를 조절하여 금속 화합물 박막 내의 금속 탄화물의 함량을 조절할 수 있다.

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24-01-2018 дата публикации

발광 장치

Номер: KR0101820669B1
Автор: 윤영태, 권창구, 김정배, 이경국, 이준호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광장치에 관한 것으로서, 상세하게는 보조전극의 위치를 보다 확실하게 고정시키며, 보조전극에 대한 절연상태를 안정적을 유지할 수 있는 발광장치에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 기판과;상기 기판 위에 배치되는 제1전극과;상기 제1전극 위에 배선형태로 마련되는 보조전극과; 상기 제1전극 및 상기 보조전극 위에 배치되는 발광부와; 상기 발광부 상부에 마련되는 제2전극을 포함하되,상기 보조전극 중 일부가 삽입되어 고정되도록 상기 제1전극에 형성되는 적어도 하나 이상의 고정홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광장치를 제공한다. 이러한 본 발명에 의하여 보조전극이 절연층 외측으로 노출되는 것이 방지되어 보조전극과 제2전극 간의 연결이 차단되고, 고정홀과 삽입부 간의 결합관계에 의하여 보조전극이 제1전극에 고정됨으로써, 보조전극이 보다 안정적으로 배치될 수 있다.

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23-07-2018 дата публикации

기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치

Номер: KR0101881408B1
Автор: 서정호, 권순범, 김기덕, 김종인, 박창균, 신원석, 임경진, 진법종
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판지지홀더 및 이를 사용한 기판처리장치는, 기판의 테두리부측 복수의 부위가 기판지지홀더에 지지된다. 그러면, 기판지지홀더와 접촉된 기판의 테두리부 복수의 부위를 제외한 기판의 전면(全面)이 균일하게 처리되므로, 기판의 막질이 향상되는 효과가 있을 수 있다. 그리고, 기판지지홀더에 지지되는 기판의 테두리부측이 비표시 영역 또는 더미 영역이면, 기판의 막질이 더욱 향상되는 효과가 있을 수 있다. 또한, 기판지지홀더의 프레임, 제1지지바, 제2지지바 및 지지부재의 직경 또는 부피가 상대적으로 크므로, 기판지지홀더를 용이하게 제작할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

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12-08-2015 дата публикации

Depositing Apparatus including Vaporizer

Номер: KR0101543272B1
Автор: 서동원, 전성진, 박상기
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기화기에 반응가스 또는 용제를 공급하여, 액체상태의 소오스 물질의 기화효율을 증가시킨 기화기를 가지는 증착장치에 관한 것으로, 액체상태의 소오스 물질과 반응가스가 공급되어 불완전 반응상태의 혼합가스로 기화되는 기화기; 상기 기화기로부터 상기 혼합가스를 공급받아, 상기 소오스 물질과 상기 반응가스의 완전한 반응에 의해 기판 상에 박막을 증착시키는 공정챔버;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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10-08-2017 дата публикации

박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

Номер: KR0101761804B1
Автор: 김재호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 게이트 전극과, 게이트 전극과 상하 방향으로 이격되고, 수평 방향으로 서로 이격된 소오스 전극 및 드레인 전극과, 게이트 전극과 소오스 전극 및 드레인 전극 사이에 형성된 게이트 절연막과, 게이트 절연막과 소오스 전극 및 드레인 전극 사이에 형성된 활성층을 포함하고, 활성층은 적어도 둘 이상의 도핑된 ZnO 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법이 제시된다.

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17-03-2023 дата публикации

리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치

Номер: KR102511875B1
Автор: 김도형, 오웅교, 유광수, 이용현
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 리프트핀용 지지유닛 및 이를 사용한 기판처리장치는, 지지유닛의 몸체의 관통공에 리프트핀이 설치되고, 몸체에 회전가능하게 설치된 지지부재의 일측 부위가 관통공에 위치되어 리프트핀의 외주면과 접촉한다. 그러므로, 지지부재와 리프트핀은 선접촉하는 형태가 되므로, 지지부재와 리프트핀의 접촉 면적은 작다. 따라서, 상호 접촉하는 지지부재의 외주면과 리프트핀의 내주면 사이의 간극을 상대적으로 덜 미세하게 설정하여도 되므로, 편리한 효과가 있을 수 있다.

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14-10-2022 дата публикации

플렉서블 태양전지의 제조방법

Номер: KR102454419B1
Автор: 이정균, 김성배, 김영기, 김용현, 박창균, 홍용규
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명의 실시예는 트레이 방식에서 레이저 장비 없이 지지 기판과 플라스틱 필름을 분리할 수 있는 플렉서블 태양전지의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 태양전지의 제조방법은 양면점착필름의 베이스 필름의 일면에 형성된 제1 점착층에 지지 기판을 점착하는 단계; 상기 양면점착필름의 상기 베이스 필름의 일면의 반대면인 타면에 형성된 제2 점착층에 플라스틱 필름을 점착하는 단계; 상기 플라스틱 필름상에 태양전지층을 형성하는 단계; 및 물리적인 힘을 가하여 상기 플라스틱 필름과 상기 제2 점착층을 분리하는 단계를 포함한다.

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27-03-2017 дата публикации

그래핀 성장 장치

Номер: KR0101717476B1
Автор: 윤선호, 구분회, 피중호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 실시예는 챔버; 상기 챔버 내부에 배치되고, 서셉터가 배치되며 밀폐 공간을 이루는 돔(dome); 상기 돔 내부에 배치되고, 상기 서셉터 방향으로 원료 기체를 공급하는 원료 공급부; 및 상기 돔을 가열하는 히터를 포함하고, 상기 원료 공급부는 상기 돔 외부로부터 원료 기체가 공급되는 헤드와 상기 헤드로부터 상기 서셉터 방향으로 원료 기체를 토출하는 분사구를 포함하고, 상기 분사구에서 상기 원재료가 토출되는 노즐은 상기 서셉터의 중앙에 대하여 비대칭으로 배치되는 그래핀 성장 장치를 제공한다.

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Номер записи: 36
02-10-2018 дата публикации

발광장치

Номер: KR0101903373B1
Автор: 조승현, 임혁
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광장치에 관한 것으로서, 상세하게는 휘도가 균일하게 구현될 수 있는 발광장치에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판과; 상기 기판에 배치되는 제1전극과; 상기 제1전극에 마련되는 발광부와; 상기 발광부에 마련되는 제2전극과; 상기 제1전극과 통전가능하게 마련되며 양전원을 공급하는 제1전원공급부와, 상기 제2전극과 통전가능하게 마련되며 음전원을 공급하고, 제1전원공급부의 배치방향과 동일한 방향에 배치되는 제2전원공급부를 포함하고, 상기 제1전원공급부와 상기 발광부사이의 전하의 이동경로는 상기 제2전원공급부와 상기 발광부 사이의 전하의 이동경로를 우회하여 배치되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 37
30-03-2016 дата публикации

DEVICE FOR GATHERING SAP

Номер: KR0101607074B1
Автор: 정석철, 김정국, 유찬형, 이양수, 오준환
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 나무(특히, 고무나무)의 표피를 대각선으로 절개하여 수액이 흘러나오도록 함으로써 수액을 자동으로 채취하는 수액 채취장치 및 수액 채취시스템에 관한 것으로서, 나무의 길이방향에 평행한 제1 축을 따라 설치되고, 제1 이동부재를 상기 제1 축을 따라 직선이동시키는 제1 위치조절부; 상기 제1 이동부재에 결합되고, 상기 제1 축에 소정 각도 경사진 제2 축을 따라 설치되며, 제2 이동부재를 상기 제2 축을 따라 직선이동시키는 제2 위치조절부; 상기 제2 이동부재에 결합되고, 나무의 표피를 소정 깊이 절개하며, 자축을 중심으로 회전하는 컷팅부; 및 태양광을 이용하여 전력을 생산하는 태양전지모듈을 포함하고, 상기 전력을 상기 제1 위치조절부, 상기 제2 위치조절부 및 상기 컷팅부에 공급하며, 상기 나무에서 상기 제1 위치조절부의 상부에 설치되는 전원공급부;를 포함하는 수액 채취장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 38
18-03-2016 дата публикации

Substrate treatment appratus and method of treating substrate using the same

Номер: KR0101604844B1
Автор: 허승회, 우인근, 김성국, 허성민
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명에 따른 챔버 세정 방법은 챔버 내에 세정가스를 공급하고, 기판 지지부에 전류를 인가하는 단계, 기판 지지부에 인가되는 전류를 실시간으로 검출하여, 시간 경과에 따른 전류 변화를 검출하는 단계, 시간 경과에 따른 전류값을 미분하는 단계 및 미분된 값이 최소가 되는 시점을 판독하여, 상기 시점을 세정 종료 기준점으로 설정하는 단계를 포함한다. 따라서, 본 발명에 의하면 정확하게 검출된 세정 종료 기준점을 기준으로 세정공정이 종료되는 공정 종료 시점을 정확하게 결정할 수 있다. 따라서, 챔버 내부에 잔류하는 불순물에 의한 소자의 불량이 발생하는 것을 줄일 수 있다. 또한, 챔버 내부의 세정이 과도하게 이루어져, 세정공정에 이용되는 세정가스 및 전력이 과도하게 소비되거나 세정공정을 위한 공정시간이 길어지는 문제를 방지할 수 있다.

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Номер записи: 39
09-02-2018 дата публикации

마스크 고정 장치, 이를 구비하는 처리 장치 및 마스크 고정 방법

Номер: KR0101827515B1
Автор: 김승호, 민천규, 박상일, 양지범, 윤영태, 이성희, 이준호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 마스크의 주변 영역에 대응되는 영역에 마련된 복수의 주변 고정부와, 마스크의 중앙 영역에 대응되는 영역에 마련된 적어도 하나의 메인 고정부를 포함하고, 주변 고정부에 의해 마스크의 주변 영역이 먼저 고정된 후 메인 고정부에 의해 마스크의 중앙 영역이 고정되도록 하는 마스크 고정 장치, 이를 구비하는 처리 장치 및 마스크 고정 방법을 제공한다.

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Номер записи: 40
09-01-2019 дата публикации

화학 기상 증착 장치

Номер: KR0101936078B1
Автор: 이규범, 서동원, 박상기
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 세정 주기를 연장시켜 생산성을 향상시킬 수 있도록 한 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 반응 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 내부에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 기판 지지부에 대향되는 상기 챔버 리드의 하면에 착탈 가능하게 결합되어 상기 기판 상에 공정 소스를 분사하는 소스 분사 모듈을 포함하고, 상기 소스 분사 모듈은 상기 챔버 리드의 하면에 착탈 가능하게 결합된 쉴드 플레이트; 및 상기 쉴드 플레이트의 하면에 일정한 간격을 가지도록 일체화되어 상기 쉴드 플레이트를 통해 공급되는 공정 소스를 상기 반응 공간에 분사하는 소스 분사 부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 41
10-06-2015 дата публикации

Thin film type Solar Cell and Method for manufacturing the same

Номер: KR0101528455B1
Автор: 신용우
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 상에 형성된 전면전극층; 상기 전면전극층 상에 차례로 형성된 P형 반도체층, I형 반도체층, 및 N형 반도체층; 및 상기 N형 반도체층 상에 형성된 후면전극층을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 I형 반도체층은 상기 P형 반도체층 위에 형성된 제1 I형 반도체층 및 상기 제1 I형 반도체층 위에 형성된 제2 I형 반도체층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지, 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 비정질 실리콘으로 I형 반도체층을 형성할 경우에는 우선 저속으로 비정질 실리콘을 증착하고 그 후에 고속으로 비정질 실리콘을 증착함으로써 I형 반도체층의 열화율이 증가되지 않으면서도 증착시간을 단축할 수 있어 생산성을 증가되는 효과가 있고, 비정질 실리콘 및 미세결정질 실리콘으로 I형 반도체층을 형성할 경우에는 광흡수율이 증가되어 고효율을 달성할 수 있고 종래 탠덤 구조에 비하여 전체 증착공정시간이 단축되고 증착장비수도 감소되며, 버퍼층이 요하지 않고 전류 매칭 등의 문제가 발생하지 않는 장점이 있다.

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Номер записи: 42
07-03-2018 дата публикации

발광 장치

Номер: KR0101834277B1
Автор: 윤영태, 권창구, 김정배, 김헌도, 이승준, 이준호, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 유기 발광 다이오드 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 유기발광부의 수명을 증대시키고 제품 안정성을 확보할 수 있는 유기발광 다이오드 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 기판과; 상기 기판 위에 마련되는 제1전극과; 제1전극 위에 배선형태로 마련되는 보조전극과; 상기 제1전극 및 상기 보조전극 위에 마련되는 발광부와; 상기 발광부 상부에 마련되는 제2전극을 포함하되, 상기 보조전극은 전류가 유입되는 복수의 제1배선과, 상기 제1배선과 연결되어 상기 제1배선을 통해 유입되는 전류가 유출되는 제2배선과; 상기 제1배선과 상기 제2배선이 연결되는 연결점에 대한 전류의 집중을 방지하기 위하여 상기 제1배선과 상기 제2배선을 별도로 연결하는 전류 분산 배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 장치를 제공한다. 이와 같은 본 발명에 의하여 전류가 유출입되는 연결점 또는 노드에 대한 전류의 집중을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 43
20-12-2024 дата публикации

Lift pin assembly and substrate processing apparatus having the same

Номер: KR102215641B9
Автор: 김영록, 강태훈, 유인서, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 적어도 일부가 기판의 하면을 지지하며, 승하강 가능한 제 1 리프트 핀과, 제 1 리프트 핀의 승하강을 가이드하며, 기판 지지대를 통하여 승하강 가능한 제 2 리프트 핀을 포함하는 리프트 핀 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.

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Номер записи: 44
04-05-2018 дата публикации

태양전지 및 그 제조방법

Номер: KR0101854237B1
Автор: 이정현, 김민규
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은, 소정 극성을 갖는 반도체 웨이퍼: 상기 반도체 웨이퍼의 후면에 형성된 제1 버퍼층; 상기 제1 버퍼층 상에 형성된 제1 반도체층; 상기 제1 반도체층 상에 형성된 제2 버퍼층; 상기 제2 버퍼층 상에서 상기 제1 반도체층과 대향하도록 형성된 제1 전극; 상기 반도체 웨이퍼의 후면에서 상기 반도체 웨이퍼의 내부까지 형성된 제2 반도체층; 및 상기 제1 전극과 교번적으로 형성되며, 상기 제2 버퍼층 및 제1 버퍼층을 뚫고 연장되어 상기 제2 반도체층과 연결되어 있는 제2 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 제1 전극 및 제2 전극 모두가 태양광이 입사하지 않는 반도체 웨이퍼의 후면에 형성되어 있기 때문에 태양광의 투과율이 증진되고 그에 따라 전지효율이 향상될 수 있고, 또한, 본 발명은 레이저 조사에 의해서 제2 반도체층과 제2 전극을 형성하기 때문에, 포토 공정 및 식각 공정을 이용하는 별도의 분리공정(isolation) 없이도 반도체 웨이퍼와 제2 반도체층/제2 전극의 전기적 연결을 구성할 수 있어 공정이 매우 단순해지고, 비용이 절감되는 효과가 있다.

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Номер записи: 45
13-07-2018 дата публикации

박막 트랜지스터 및 그 제조방법

Номер: KR0101878161B1
Автор: 문진욱, 김윤회, 김재호, 이규범, 이재완
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 상에 형성된 게이트 전극; 상기 게이트 전극을 포함한 상기 기판의 전면에 형성된 게이트 절연막; 상기 게이트 절연막 상에 상기 게이트 전극과 대응되게 형성되는 제 1 액티브층; 상기 제 1 액티브층의 상부 또는 하부에 형성되는 제 2 액티브층 및 상기 제 1 액티브층 또는 제 2 액티브층과 연결되도록 일정한 간격을 갖고 형성되는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터를 제공한다. 또한 본 발명은 기판 상에 게이트 전극을 형성하고, 상기 게이트 전극의 상부에 게이트 절연막을 형성하는 게이트 절연막 형성단계; 상기 게이트 절연막 상부에 제 3 액티브층을 형성하는 단계와, 상기 제 3 액티브층 상부에 제 1 액티브층을 형성하는 단계와, 상기 제1액티브층 상부에 제 2 액티브층을 형성하는 단계를 포함하는 액티브층 형성단계; 상기 제1 액티브층 내지 제 3 액티브층을 포함한 기판의 전면에 식각방지층을 형성하는 단계 및 상기 액티브층과 연결되며, 상기 식각방지층 상에서 일정한 간격을 갖도록 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터의 제조방법을 제공한다.

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Номер записи: 46
04-06-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101863652B1
Автор: 황철주, 김태형, 조병하
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 하나의 공정 공간 내에서 기판 상에 상이한 재질로 이루어진 제 1 및 제 2 박막층을 연속적으로 또는 반복적으로 형성할 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 공정 공간을 제공하는 공정 챔버; 적어도 하나의 기판을 지지하도록 상기 공정 챔버 내에 설치되며, 소정 방향으로 회전하도록 구성된 기판 지지부; 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 기판 지지부에 국부적으로 대향되도록 상기 챔버 리드에 설치되어 상기 공정 공간 내에서 상기 기판 상에 상이한 재질로 이루어진 제 1 및 제 2 박막층을 형성하기 위한 가스를 국부적으로 분사하는 가스 분사부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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29-12-2016 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101690971B1
Автор: 곽재찬, 이상돈, 조병하
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판에 증착되는 박막의 증착 균일도를 증가시키고, 증착 효율을 향상시킬 수 있도록 한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 반응 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 반응 공간에 설치되어 적어도 하나의 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 기판 지지부에 국부적으로 대향되도록 상기 챔버 리드에 설치된 복수의 가스 분사 모듈을 가지는 가스 분사부를 포함하며, 상기 복수의 가스 분사 모듈 각각은 상기 기판과의 간격보다 상대적으로 좁은 간격을 가지도록 서로 대향되는 접지 전극과 플라즈마 전극 간에 플라즈마를 형성하고, 상기 접지 전극에 형성된 가스 분사 부재를 통해 상기 플라즈마가 형성되는 영역에 소스 가스를 경사지게 분사하는 것을 특징으로 한다.

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14-05-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101844325B1
Автор: 임재용, 김성국, 하윤규
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 플라즈마 방전이 기판까지 전달되는 것을 방지하여 플라즈마 방전에 의한 기판이 손상과 막질 저하를 최소화할 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 반응 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 내부에 배치되어 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 기판 지지부와 마주보도록 상기 공정 챔버의 상부에 설치된 챔버 리드; 및 상기 챔버 리드의 하면에 설치되며, 제 1 및 제 2 가스가 분리되어 공급되도록 공간적으로 분리된 제 1 및 제 2 가스 버퍼 공간을 포함하여 이루어져 상기 제 2 가스를 활성화시켜 상기 기판에 분사하는 가스 분사 모듈을 포함하여 구성되고, 상기 가스 분사 모듈은 상기 기판의 상면으로부터 이격되면서 서로 나란하도록 교대로 배치된 접지 전극과 플라즈마 전극을 포함하여 구성되고, 상기 기판과 상기 플라즈마 전극 사이의 거리는 상기 접지 전극과 플라즈마 전극 사이의 거리보다 더 큰 것을 특징으로 한다.

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05-04-2017 дата публикации

그래핀 성장 장치

Номер: KR0101723521B1
Автор: 피중호, 구분회, 윤선호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 실시예는 챔버; 상기 챔버 내부에 배치되고, 서셉터가 배치되며 밀폐 공간을 이루는 돔(dome); 상기 돔 내부에 배치되고, 상기 서셉터 방향으로 원료 기체를 공급하는 원료 공급부; 상기 돔을 가열하는 히터; 및 상기 챔버의 내부에 에어(air)를 공급하는 에어 공급부를 포함하고, 상기 챔버의 하부 영역에 에어 입구가 형성되고, 상기 챔버의 상부 영역에 에어 출구가 형성되는 그래핀 성장 장치를 제공한다.

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05-07-2017 дата публикации

발광 소자

Номер: KR0101753822B1
Автор: 임혁, 윤석원, 김영은
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 서로 이격된 양극 및 음극과, 양극 및 음극 사이에 마련된 홀 전달층, 발광층 및 전자 전달층을 포함하며, 발광층은 전하 전달 도펀트가 도핑된 발광 소자를 제시한다.

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08-01-2019 дата публикации

대면적 기판처리장치, 대면적 가스공급장치 및 샤워 헤드 지지유닛

Номер: KR0101935881B1
Автор: 최원조, 우인근, 이종찬, 조준희
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명의 일 측면은 대형화된 기판처리장치에 있어서 샤워 헤드의 처짐을 방지할 수 있고, 샤워 헤드의 중심부와 가장자리부에 있어서 처리 가스들이 균일하게 확산되도록 하는 대면적 기판처리장치, 대면적 가스공급장치 및 샤워 헤드 지지유닛을 제공하는 것에 있으며, 이러한 본 발명의 실시예에 따른 대면적 기판처리장치는 본 발명의 실시예에 따른 대면적 기판처리장치는 챔버;와, 챔버의 내부에 위치하는 서셉터;와, 서셉터의 상부에서 처리 가스를 분사하기 위한 복수의 분사구를 가지는 샤워 헤드;와, 샤워 헤드와의 사이에서 가스 확산공간을 형성하는 디퓨저 커버;와, 디퓨저 커버를 관통하여 샤워 헤드에 체결되어 샤워 헤드를 지지하되 횡방향으로 상기 가스가 유입되는 빈 공간을 구비하는 샤워 헤드 지지유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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16-03-2023 дата публикации

기판 처리장치

Номер: KR102510956B1
Автор: 김종식, 이명진
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판 처리장치의 일 실시예는, 공정챔버; 상기 공정챔버 내부에 수용되고, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 적어도 하나 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 디스크 하부에 결합하고, 상기 디스크를 상하이동 및 회전시키는 구동부; 상기 서셉터와 결합하고, 상기 서셉터 하부에 배치되며, 상기 서셉터와 함께 공전 및 자전하는 제1커플링부재; 및 상기 공정챔버에 결합하고, 상기 제1커플링부재와 측방향으로 대향되도록 구비되는 제2커플링부재를 포함할 수 있다.

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04-01-2023 дата публикации

박막 형성 방법

Номер: KR102483915B1
Автор: 박광수, 구분회, 최진우, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 박막 형성 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 상에 불순물이 도핑된 반도체 박막을 형성하기 위한 박막 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 실시 예에 따른 박막 형성 방법은 기판에 박막을 성장시키는 박막 성장 단계; 및 플라즈마를 이용하여 상기 박막에 불순물을 도핑하는 플라즈마 도핑 단계;를 포함하고, 상기 박막 성장 단계 및 플라즈마 도핑 단계를 포함하는 공정 사이클은 복수 회 반복하여 수행된다.

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17-08-2022 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR102433305B1
Автор: 오웅교, 김도형, 유광수, 이용현
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 챔버의 측면을 향하는 접지스트랩의 일측면이 서셉터의 테두리면 내측에 위치되고, 서셉터의 테두리면과 접하는 가상의 연장면 상에 위치되지 않는다. 그러면, 접지스트랩의 일측면과 챔버 월의 측면 사이의 거리가 상대적으로 멀므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 챔버의 측면의 영향을 받지 않고 접지스트랩의 상측 부위를 상대적으로 신속하게 통과한 후, 서셉터의 하면 중앙부측으로 이동할 수 있다. 그리고, 접지스트랩의 일측면이 가상의 연장면 상에 위치되지 않으므로, 서셉터의 테두리면을 타고 흐르는 플라즈마가 접지스트랩의 상측 부위로 유입되기가 상대적으로 어렵다. 그러므로, 접지스트랩의 상측 부위가 플라즈마에 의하여 손상되는 것을 억제할 수 있는 효과가 있을 수 있다.

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Номер записи: 55
10-03-2023 дата публикации

공정챔버 내부에 배치되는 기판 처리장치 및 그 작동방법

Номер: KR102508025B1
Автор: 김기범, 사승엽, 우람, 이명진, 최승대, 최종성, 허호범
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판 처리장치의 일 실시예는, 자전 가능하도록 구비되는 디스크; 상기 디스크에 배치되고, 상면에 기판이 안착되며, 상기 디스크가 자전함에 따라 자전 및 상기 디스크의 중심을 축으로 공전하는 적어도 하나의 서셉터; 상기 서셉터의 하부에 결합하고, 중심이 상기 서셉터의 중심과 일치하도록 배치되는 금속링; 및 상기 디스크 하부에 상기 디스크의 중심을 기준으로 방사상으로 배치되고, 적어도 일부가 상기 금속링과 상하방향으로 대향되도록 구비되는 마그네트를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 56
20-05-2024 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR102666641B1
Автор: 이진호, 신현식
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 제1 내지 제4 측벽을 구비하고 전기적으로 접지되며 상기 제1 측벽에 기판이 출입하도록 개구부를 포함하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버의 내측 상부에 배치되고 외부로부터 공정 가스를 제공받아 가스를 분사하고 플라즈마를 형성하는 상부 전극; 상기 상부 전극에 대향하여 상기 공정 챔버의 내부에 배치되고 상하 구동하는 기판 홀더; 상기 제1 측벽과 상기 기판 홀더를 전기적으로 연결하는 제1 접지 스트랩; 및 상기 제2 내지 4 측벽 각각과 상기 기판 홀더를 전기적으로 연결하는 제2 내지 4 접지 스트랩을 포함한다. 상기 제1 접지 스트랩은 상기 제1 측벽의 제1 높이에서 연결되고, 상기 제2 내지 4 접지 스트랩은 상기 제2 내지 4 측벽의 제2 높이에서 연결된다. 상기 제1 높이는 상기 제2 높이와 상이하고, 상기 개구부의 높이보다 낮다.

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31-07-2018 дата публикации

태양전지모듈-발광모듈을 구비하는 어셈블리 및 그 제조방법

Номер: KR0101883322B1
Автор: 임혁, 윤석원, 최병권
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광모듈로 구성되는 어셈블리에 관한 것으로서, 상세하게는 태양전지의 발전량 손실없이 실내 조명을 위한 태양광의 투과율을 늘릴 수 있는 발명에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 상호 이격되는 복수의 단위셀을 포함하는 태양전지 모듈과 상기 태양전지 모듈에 부착되게 마련되는 발광모듈을 포함하고, 상기 발광모듈은;발광부와; 상기 단위셀의 배치패턴 및 상기 단위셀 간의 이격거리에 대응되게 상기 발광부상에 상호 이격되게 마련되는 전극과; 상기 전극과 전극을 도통가능하게 연결하고, 상기 전극보다 광투과율이 큰 연결전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광모듈 어셈블리 및 그 제작방법을 제공한다.

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Номер записи: 58
07-07-2017 дата публикации

태양전지 모듈 및 그의 제조방법

Номер: KR0101753757B1
Автор: 유찬형, 차성호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 전면 및 후면기판 중 하나의 주변영역을 경사 또는 곡면처리하고, 접착제를 개재하여 전면 및 후면기판을 합착하는 태양전지 모듈 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 태양전지 모듈은 전면기판; 및 상기 전면기판 상의 다수의 태양전지 셀; 접착제를 개재하여 상기 다수의 태양전지 셀을 포함하는 상기 전면기판과 합착되는 후면기판;을 포함하고, 상기 전면 및 후면기판은 수광영역과 주변영역을 포함하고, 상기 전면 및 후면기판 중 하나의 상기 주변영역이 경사 또는 곡면처리되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 59
30-11-2017 дата публикации

태양전지의 제조 방법 및 제조 시스템

Номер: KR0101802236B1
Автор: 정병욱, 김정식, 이상두, 정래욱, 진법종
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명의 일 실시예에 따르면, 데미지층과 부산물층을 별도의 공정단계에서 별도의 공정장비로 제거하지 않고, 하나의 공정단계에서 하나의 공정장비로 제거하기 때문에, 종래에 비하여 공정이 단순해지고 공정 장비도 줄어드는 효과가 있고, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나의 반응성 이온 에칭 장비를 이용하여 반도체 기판의 일면을 식각하는 공정과 상기 반도체 기판의 일면에 형성된 데미지층 및 반응물을 제거하는 공정을 연속 공정으로 수행할 수 있기 때문에, 종래에 비하여 요구되는 장비 수가 줄어들어 그만큼 비용이 절감되는 효과가 있다.

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Номер записи: 60
12-02-2018 дата публикации

섀도우 마스크, 증착 장치 및 증착 방법

Номер: KR0101827804B1
Автор: 이성희, 민천규, 양지범, 임수민
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명의 일 측면은 섀도우 마스크로 기판 표면에 패턴을 형성함과 동시에 얼라인 마크를 형성하는 증착 장치 및 증착 방법을 제공하는 것에 있으며, 이러한 본 발명의 실시예에 따른 증착 장치는 증착원을 가지는 공정 챔버;와, 상기 증착원에 의해 증착되도록 상기 공정 챔버 내에 배치되는 기판;과, 상기 기판 표면에 패턴을 형성하기 위한 영역을 한정하는 패턴 개구부와, 상기 기판 표면에 얼라인 마크를 형성하기 위한 영역을 한정하는 얼라인 마크 개구부를 가지는 섀도우 마스크;와, 상기 얼라인 마크 개구부에 의해 상기 기판에 얼라인 마크가 형성되면 상기 기판의 얼라인 마크와 상기 섀도우 마스크의 얼라인 홀을 정렬시키는 얼라인먼트 장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 61
20-07-2015 дата публикации

Appratus for treatmenting substrate

Номер: KR0101537215B1
Автор: 이의규, 최규진, 전용한, 양철훈, 이태완
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판안치대의 온도편차를 극복하기 위하여, 기판안치대에서 열축적 또는 열손실이 있는 부분과 대응하는 위치에 광학렌즈를 설치하는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 반응공간에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치대; 상기 챔버의 하부에 위치하며, 상기 기판안치대를 가열시키기 위한, 램프, 상기 램프의 출사광을 반사시키는 반사판, 및 상기 램프 상에 위치한 광학렌즈를 포함하는 가열수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 62
09-08-2018 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101887072B1
Автор: 한정훈, 서승훈, 이상돈, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판에 증착되는 박막의 증착 균일도를 증가시킬 수 있도록 한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 공정 공간을 제공하는 공정 챔버; 적어도 하나의 기판을 지지하도록 상기 공정 챔버 내에 설치된 기판 지지부; 상기 기판 지지부를 소정 방향으로 회전시키는 구동부; 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드; 및 상기 기판 지지부에 국부적으로 대향되도록 상기 챔버 리드에 설치되어 공정 가스를 상기 기판 지지부 상에 국부적으로 분사하는 가스 분사부; 및 상기 기판 지지부의 중심부에 형성되어 공정 가스를 외부로 펌핑하는 제 1 펌핑부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 63
03-08-2018 дата публикации

발광장치 및 그 제조방법

Номер: KR0101885242B1
Автор: 이성희, 민천규, 임수민
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광장치 및 그 제조방법에 관한 것으로, 개구율을 높여서 발광 면적을 증대시킬 수 있는 발명에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 베이스가 되는 기판과; 상기 기판에 마련되며 서로 이격되어 마련되는 복수의 게이트 전극과, 상기 게이트 전극 상부에 마련되며 서로 이격되는 복수의 게이트 절연막과; 상기 게이트 절연막 상부에 마련되며 서로 이격되는 복수의 소스 전극 및 복스의 드레인 전극과; 상기 소스 전극 및 드레인 전극 상부에 마련되며 서로 이격되는 복수의 반도체층을 포함하되, 상기 복수의 게이트 전극간의 거리 또는 복수의 게이트 절연막 또는 복수의 소스 전극 및 복수의 드레인 전극간의 거리 또는 복수의 반도체층 간의 거리 중 적어도 하나는 하나의 마스크에 복수의 패턴을 동시에 인접하게 형성하였을 때 쇼트를 방지하는 복수의 패턴 간의 거리가 한계 거리 범위에 속하는 것을 특징으로 하는 발광장치 및 그 제조방법을 제공한다. 이러한 본 발명에 의하여 픽셀 내에서 발광면적의 상대 비율이 높아짐으로써 개구율이 개선될 수 있다.

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Номер записи: 64
20-01-2021 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR102205349B1
Автор: 허승회, 한정훈
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 공정 챔버, 상기 공정 챔버에 회전 가능하게 설치되고, 복수의 기판이 탑재 지지되는 기판 지지부, 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드, 및 상기 챔버 리드에 일정한 간격으로 설치된 복수의 전극 모듈을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 65
20-12-2024 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR102205349B9
Автор: 허승회, 한정훈, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 공정 챔버, 상기 공정 챔버에 회전 가능하게 설치되고, 복수의 기판이 탑재 지지되는 기판 지지부, 상기 기판 지지부에 대향되도록 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드, 및 상기 챔버 리드에 일정한 간격으로 설치된 복수의 전극 모듈을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 66
17-02-2021 дата публикации

DEVICE FOR DEPOSITING THIN FILM AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM USING THE SAME

Номер: KR102215755B1
Автор: 강성철, 김태형, 조병하, 조수일
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 박막증착장치 및 박막증착방법에 관한 것으로서, 다량의 소스가스를 반응챔버 내에 안정적으로 공급하여 단차피복성(step coverage)을 향상시킨 박막증착장치 및 박막증착방법에 관한 것이다. 본 발명은, 액상의 소스물질을 저장하는 소스물질 저장부; 상기 소스물질 저장부의 하류에 연결되고, 하류에서 배기수단을 구비하며, 상기 액상의 소스물질을 기상의 소스가스로 기화시키는 기화부; 상기 기화부의 하류에 연결되는 반응챔버;를 포함하고, 상기 기화부는, 적어도 하나 이상의 소스가스 공급관을 통하여 상기 반응챔버 내부로 상기 소스가스를 공급하며 상기 소스가스 공급관과 상기 소스물질 저장부 사이에서 서로 병렬로 배치되는 복수 개의 기화기를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 67
03-12-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101573453B1
Автор: 최선홍, 이승호, 이태완
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 챔버와, 상기 챔버 내측에 위치하고 공전하는 메인 디스크와 상기 메인 디스크에 배치되어 자전하는 복수의 서브 기판 홀더를 구비하는 기판 안치부와, 상기 기판 안치부의 상기 메인 디스크를 회전시키는 디스크 공전 제어부 및 상기 챔버에 고정되고 상기 기판 안치부의 상기 복수의 서브 기판 홀더의 자전을 제어하는 자전 제어부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이 본 발명은 기판 안치부의 중심 상에 챔버에 고정된 자전 제어부를 두어 별도의 회전 수단을 사용하지 않고도 기판 안치부의 서브 기판 홀더를 자전시킬 수 있고, 기판 안치부의 메인 디스크와 서브 기판 홀더 사이에 부상 가스를 분사하여 둘 사이의 접촉 저항을 줄일 수 있다.

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Номер записи: 68
30-01-2018 дата публикации

박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

Номер: KR0101812702B1
Автор: 김재호, 오동건, 최도현
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 게이트 전극과, 게이트 전극과 상하 방향으로 이격되고, 수평 방향으로 서로 이격된 소오스 전극 및 드레인 전극과, 게이트 전극과 소오스 전극 및 드레인 전극 사이에 형성된 게이트 절연막과, 게이트 절연막과 소오스 전극 및 드레인 전극 사이에 형성된 활성층을 포함하고, 활성층은 IGZO 박막을 이용하여 형성하며, IGZO 박막은 화학적 증착 공정을 이용하여 적어도 이중 구조로 형성하는 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법이 제시된다.

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Номер записи: 69
25-05-2018 дата публикации

유기 발광 다이오드 장치

Номер: KR0101861257B1
Автор: 이준호, 민천규, 윤영태, 이성희
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 유기 발광 다이오드 장치에 관한 것이다. 상기 유기 발광 다이오드 장치는, 기판; 상기 기판 상에 형성되고, 서로 절연된 제1 구역과 제2 구역이 주변부를 따라 교대로 형성된 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상의 유기발광체; 상기 유기발광체 상의 제2 전극층; 을 포함하고, 상기 제1 구역에는 제1 전원이 공급되고, 상기 제2 구역에는 상기 제1 전원과 반대 극성의 제2 전원이 공급되고, 상기 제1 전극층의 적어도 하나의 변은 상기 제1 구역과 상기 제2 구역을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 따르면, 유기 발광 다이오드 장치에서 에지 부분과 중앙 부분의 휘도 차이를 줄일 수 있는 새로운 전류 공급 방식을 갖는 유기 발광 다이오드 장치를 제공할 수 있다.

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Номер записи: 70
04-05-2017 дата публикации

태양전지 패널을 조립하는 프레임

Номер: KR0101731460B1
Автор: 유찬형
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 태양전지 패널을 조립하기 위한 프레임에 관한 것으로, 다수의 고정수단; 및 태양전지 패널의 주변영역을 수용하는 삽입부와, 상기 다수의 고정수단이 삽입되는 체결부를 가지는 다수의 부재;를 포함하고, 상기 다수의 고정수단 각각은, 서로 수직으로 만나는 제 1 및 제 2 본체; 상기 제 1 및 제 2 본체 사이에 설치되고, 상기 제 1 및 제 2 본체가 상기 다수의 부재에 삽입될 때, 상기 다수의 부재를 상기 고정수단의 중앙부에 위치시키는 정렬부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 71
15-11-2016 дата публикации

마스크 장치와 이를 이용한 박막 패턴의 제조 장치 및 제조 방법

Номер: KR0101676367B1
Автор: 민천규, 전형일, 이병춘, 이준호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 이중 구조의 마스크 장치를 이용하여 반도체 소자 및 디스플레이 장치를 구성하는 박막 패턴의 제조 공정을 단순화함과 아울러 마스크의 열팽창을 최소화하여 대면적 기판에 박막 패턴을 형성할 수 있도록 한 마스크 장치와 이를 이용한 박막 패턴의 제조 장치 및 제조 방법에 관한 것으로, 마스크 장치는 개구부와 단부를 가지는 마스크 프레임; 및 상기 개구부에 삽입되어 상기 단부에 의해 지지되며, 기판 상에 박막 패턴을 형성하기 위한 개구 패턴을 가지는 섀도우 마스크를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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10-01-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101806251B1
Автор: 최선홍, 이승호, 이태완
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 챔버와, 상기 챔버 내측에 위치하고 공전하는 메인 디스크와 상기 메인 디스크에 배치되어 자전하는 복수의 서브 기판 홀더를 구비하는 기판 안치부와, 상기 기판 안치부의 상기 메인 디스크를 회전시키는 디스크 공전 제어부 및 상기 챔버에 고정되고 상기 기판 안치부의 상기 복수의 서브 기판 홀더의 자전을 제어하는 자전 제어부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이 본 발명은 기판 안치부의 중심 상에 챔버에 고정된 자전 제어부를 두어 별도의 회전 수단을 사용하지 않고도 기판 안치부의 서브 기판 홀더를 자전시킬 수 있고, 기판 안치부의 메인 디스크와 서브 기판 홀더 사이에 부상 가스를 분사하여 둘 사이의 접촉 저항을 줄일 수 있다.

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28-01-2016 дата публикации

Appratus for treating substrate

Номер: KR0101589109B1
Автор: 송명곤, 이정락, 도재철, 전부일
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 플라즈마의 소스 및 접지전극에 가스분사수단을 설치한 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는, 리드 및 몸체의 결합에 의해 반응공간을 제공하는 공정챔버; 상기 반응공간과 대응되는 상기 리드 상에 형성되는 다수의 플라즈마 소스전극; 상기 다수의 플라즈마 소스전극 사이의 상기 리드 상에 형성되는 다수의 돌출부; 상기 다수의 플라즈마 소스전극 및 상기 다수의 돌출부에 설치되는 가스분사수단; 상기 반응공간에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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30-10-2015 дата публикации

substrate processing apparatus

Номер: KR0101564582B1
Автор: 김주용
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 반도체 소자의 제조를 위한 기판처리장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판처리장치는 기판안치수단 하부에 회전가능한 방사형의 가스공급수단을 설치하고, 이를 통해 퍼지가스를 공급함으로써 기판안치수단의 하부영역을 균일하게 퍼지한다. 따라서, 불순물의 발생에 의한 장비 효율의 저하나 장비의 손상을 막을 수 있다.

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Номер записи: 75
23-11-2017 дата публикации

유기 발광 소자

Номер: KR0101800658B1
Автор: 윤영태, 권창구, 김정배, 이준호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 휘도의 불균일성을 개선하기 위한 유기 발광 소자에 관한 것이다. 상기 유기 발광 소자는 기판; 상기 기판 상에 형성되고, 제1 전원이 공급되는 제1 전극층; 상기 제1 전극층 상의 유기발광체; 상기 유기발광체 상에 형성되고, 상기 제1 전원과 반대 극성의 제2 전원이 공급되는 제2 전극층; 상기 제2 전극층과 이격되어 상기 제2 전극층 상에 인접하게 위치되고 상기 제2 전원과 반대 극성의 제3 전원이 공급되는 하나 이상의 전도체; 를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 따르면, 유기 발광 소자에서 휘도가 감소되는 부분에 전계를 형성함으로써 휘도의 불균일성을 개선할 수 있는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.

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16-08-2022 дата публикации

태양전지의 제조 방법 및 제조 시스템

Номер: KR102432550B1
Автор: 권순범, 김기덕, 서정호, 임경진, 진법종
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은, 반응가스를 이용하여 웨이퍼의 상면을 식각하여 상기 웨이퍼의 상면에 요철구조를 형성하는 공정; 및 상기 웨이퍼의 상면의 요철구조에 잔존하는 불순물을 제거하는 공정을 포함하여 이루어지고, 상기 불순물을 제거하는 공정은 건식 식각 공정으로 이루어진 웨이퍼형 태양전지의 제조방법 및 제조 시스템을 제공한다.

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15-01-2019 дата публикации

기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법

Номер: KR0101938267B1
Автор: 한정훈, 이상돈
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 공정 챔버에 설치된 기판 지지부에 적어도 하나의 기판을 안착시키는 단계; 상기 기판이 안착된 기판 지지부를 회전시키는 단계; 및 상기 공정 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드에 방사 형태로 배치되고 적어도 하나의 가스 분사 공간을 가지는 복수의 가스 분사 모듈을 통해 상기 가스 분사 공간에 공급되는 가스를 상기 기판 지지부 상에 국부적으로 분사하는 단계를 포함하며, 상기 단계에서, 상기 기판 지지부가 1 회전하는 1 공정 싸이클 주기에 상기 복수의 가스 분사 모듈 중 일부의 가스 분사 모듈은 플라즈마화된 가스 분사를 1 공정 싸이클 주기 단위로 구동과 비구동을 반복하고, 상기 복수의 가스 분사 모듈 중 일부의 가스 분사 모듈은 플라즈마화된 가스 분사를 1 공정 싸이클 주기 단위로 지속적으로 구동하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 78
20-09-2016 дата публикации

리프트 핀

Номер: KR0101657175B1
Автор: 한진희, 강태훈, 김영록, 오세용, 황지현
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판의 손상을 방지하고 수명이 향상된 리프트 핀을 제공하는 것이다. 구체적으로, 본 발명은, 반응챔버 내부에서 기판을 하부면으로부터 들어올리는 리프트 핀으로서, 상기 기판의 하부면에 접촉하는 헤드부; 일단부가 상기 헤드부의 하부에 연결되는 연결부; 상기 연결부의 하부에서 상기 연결부의 타단부에 연결되며, 상기 헤드부를 지지하는 몸체부;를 포함하고, 상기 헤드부는 상기 몸체부에 대해 상기 헤드부의 수직 중심축에 대해 피봇(pivot) 회동가능하고 동시에 상기 몸체부에 대해 소정 각도로 틸트(tilt) 회동가능하도록 연결되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀에 관한 것이다.

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05-09-2017 дата публикации

태양전지 및 그 제조방법

Номер: KR0101769777B1
Автор: 최현곤, 이정현
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은, 소정의 전기전도 극성을 갖는 반도체 웨이퍼: 상기 반도체 웨이퍼의 일면 상에 형성된 제1 반도체층; 상기 제1 반도체층 상에 형성된 제1 도전층; 상기 제1 도전층 상에 형성된 제1 전극; 상기 반도체 웨이퍼의 타면 상에 형성되며, 상기 제1 반도체층과 상이한 극성을 갖는 제2 반도체층; 상기 제2 반도체층 상에 형성된 제2 도전층; 및 상기 제2 도전층 상에 형성된 제2 전극을 포함하여 이루어지며, 이때, 상기 제1 도전층 및 제2 도전층 중 적어도 하나의 도전층은 중앙부 및 상기 중앙부에서 연장되는 주변부로 이루어지고, 상기 주변부의 전기전도도는 상기 중앙부의 전기전도도보다 낮은 것을 특징으로 하는 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 제1 도전층 및 제2 도전층 중 적어도 하나의 도전층의 주변부의 전기전도도 특성이 열악하기 때문에, 비록, 제1 도전층과 제2 도전층이 반도체 웨이퍼의 측면에서 서로 접한다 하더라도 태양전지의 동작에 문제가 발생하지 않게 되며, 따라서, 종래와 같이, 제1 도전층과 제2 도전층의 연결을 차단하기 위해서 제1 도전층 또는 제2 도전층의 가장자리 영역에 분리부를 형성할 필요가 없다.

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24-10-2018 дата публикации

박막, 박막 증착 장치 및 방법

Номер: KR0101911413B1
Автор: 강성철
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 실시예는 피처리물의 안치 수단이 구비된 챔버; 상기 챔버에 원료 물질을 공급하는 원료 물질 공급부; 상기 챔버에 수소를 함유하는 제1 반응 가스를 공급하는 제1 반응 가스 공급부; 및 상기 챔버에 제2 반응 가스를 공급하는 제2 반응 가스 공급부를 포함하고, 상기 제1 반응 가스 공급부와 상기 제2 반응 가스 공급부는 각각 밸브를 포함하고, 상기 각각의 밸브는 서로 교번으로 개폐되어 상기 챔버에 상기 제1 반응 가스와 상기 제2 반응 가스를 공급하는 박막 증착 장치를 제공한다.

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12-04-2017 дата публикации

산화막 증착 방법 및 이를 이용한 비아 콘택 형성 방법

Номер: KR0101725765B1
Автор: 강승모, 한정훈, 유경한, 이주호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 산화막 증착 방법 및 이를 이용한 비아 콘택 형성 방법에 관한 것으로, 종횡비(종:횡)가 1:3 이상의 콘택홀을 갖는 피증착물을 마련하는 단계 및 상기 피증착물의 상기 콘택홀의 내측면에 산화막을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 산화막은 25 내지 200도의 온도의 챔버 내에 염소 함유 실리콘 소스와 반응 물질을 공급하여 증착하되, 85%이상의 스텝 커버리지 특성과, 150Å/min 이상의 증착율을 갖는 산화막 증착 방법 및 이를 이용한 비아 콘택 형성 방법을 제공한다. 이와 같이 200도 이하의 저온에서 기화된 액상의 염소(Chlorine)가 함유된 실리콘 원료 물질과 액상의 반응 물질을 이용한 화학 기상 증착법을 통해 150Å/min이상의 높은 증착율과 85%이상의 우수한 스텝커버리지 특성을 갖는 산화막을 증착할 수 있다.

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Номер записи: 82
30-10-2015 дата публикации

Appratus for treatmenting substrate

Номер: KR0101564584B1
Автор: 김광식
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 상에 균일하게 가스를 분사할 수 있는 가스분사장치를 포함하는 기판처리장치에 관한 것으로, 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 반응공간에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치대; 상기 기판안치대 상에서, 다수의 분사홀을 가지고 종축을 기준으로 원주방향으로 회전하는 가스분사관; 상기 가스분사관에 가스를 공급하는 가스공급장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 83
14-03-2023 дата публикации

기판처리장치

Номер: KR102510489B1
Автор: 김종식, 서동원, 황철주
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판처리장치는, 하나의 기판처리장치에서 공정가스를 분사하는 공정과 공정가스를 플라즈마 상태로 생성하는 공정을 선택적으로 수행하거나, 동시에 수행하면서 기판에 박막을 증착할 수 있다. 그러면, 하나의 기판처리장치를 이용하여 공정가스를 기판으로 분사하면서 열을 이용하여 기판에 박막을 증착하거나, 공정가스를 플라즈마 상태로 생성하여 기판에 박막을 증착하거나, 열 및 플라즈마를 동시에 이용하여 기판에 박막을 증착할 수 있으므로, 원가가 절감되는 효과가 있을 수 있다.

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Номер записи: 84
03-04-2023 дата публикации

챔버 세정 장치 및 챔버 세정 방법

Номер: KR102516778B1
Автор: 이동환, 김재호, 김현일, 윤호진, 이재완, 임병관
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 챔버 세정 장치 및 챔버 세정 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 상에 박막을 증착하는 과정에서 오염되는 챔버를 세정할 수 있는 챔버 세정 장치 및 챔버 세정 방법에 관한 것이다. 본 발명의 실시 예에 따른 챔버 세정 방법은, 아연 산화물을 증착하는 챔버를 세정하는 방법으로서, 상기 챔버 내에 염소(Cl) 함유 가스 및 수소(H) 함유 가스를 공급하는 단계; 상기 분리 공급된 가스를 상기 챔버 내에서 활성화시키고, 반응시켜 반응 가스를 생성하는 단계; 및 상기 챔버를 상기 반응 가스로 1차 세정하는 단계;를 포함한다.

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Номер записи: 85
14-04-2023 дата публикации

기판 처리장치 및 이를 이용한 기판 처리방법

Номер: KR102521397B1
Автор: 김승환, 구분회, 박광수
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 기판 처리방법의 일 실시예는, 제1박막을 목적기판 상에 배치하는 전사단계; 전사막을 상기 제1박막으로부터 이탈시키는 전사막 이탈단계; 및 상기 제1박막상에 존재하고 상기 전사막으로부터 유래하는 폴리머 재질의 잔류물에 자외선을 조사하여, 상기 잔류물을 모노머로 변환하고 상기 잔류물을 상기 제1박막으로부터 이탈시키는 자외선 조사단계를 포함할 수 있다.

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Номер записи: 86
27-01-2016 дата публикации

Apparatus for treating substrate

Номер: KR0101582212B1
Автор: 강호철
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 균일한 플라즈마 분포를 가지는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 반응공간을 제공하고, 제 1 측면과 상기 제 1 측면과 대향하는 제 2 측면을 가지는 챔버; 상기 제 1 측면에 연결된 모듈; 상기 반응공간에 위치하는 상부전극; 상기 상부전극과 대향하고 기판이 안치되는 기판 안치대; 상기 기판의 중앙에 위치한 제 1 지점으로부터 상기 제 1 측면의 방향으로 이격된 제 2 지점과 대응되는 상기 상부전극에 연결되고 RF 전원을 인가하기 위한 피딩 라인;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 87
28-05-2018 дата публикации

유기 발광 다이오드 장치 및 이에 사용되는 전류 공급 장치

Номер: KR0101860381B1
Автор: 이준호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 유기 발광 다이오드 장치 및 이에 사용되는 전류 공급 장치에 관한 것이다. 상기 전류 공급 장치는, 제1 전원 공급부; 제2 전원 공급부; 중앙부와, 상기 중앙부의 주변을 따라 배치된 주변부를 갖는 절연 프레임; 상기 주변부의 위에 상기 주변부를 따라 배치되고 상기 제1 전원 공급부와 전기적으로 연결된 제1 전원 공급 라인과, 상기 제1 전원 공급 라인을 따라 분지된 복수의 제1 접속 패드를 포함하는 제1 전원부; 상기 주변부의 아래에 상기 주변부를 따라 배치되고 상기 제2 전원 공급부와 전기적으로 연결된 제2 전원 공급 라인과, 상기 제2 전원 공급 라인을 따라 분지된 복수의 제2 접속 패드를 포함하는 제2 전원부; 제1 전원 공급 라인과 상기 제1 접속 패드의 사이 또는 제2 전원 공급 라인과 상기 제2 접속 패드의 사이에 연결되어, 상기 제1 접속 패드 또는 상기 제2 접속 패드로 공급되는 전류값을 조절하는 복수의 저항수단; 을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 따르면, 유기 발광 다이오드 장치에서 에지 부분과 중앙 부분의 휘도 차이를 줄일 수 있는 새로운 전류 공급 방식을 갖는 유기 발광 다이오드 장치 및 이에 사용되는 전류 공급 장치를 제공할 수 있다.

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Номер записи: 88
14-07-2017 дата публикации

태양전지 및 그 제조방법

Номер: KR0101758197B1
Автор: 심경식, 차성호
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 보호시트에 의한 태양광 흡수율 저하를 방지하고, 태양광 발전시 발생하는 온도 상승을 억제할 수 있는 태양전지 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 웨이퍼로 구성되는 단위 셀과; 상기 단위 셀의 상부와 하부에 마련되는 기판과; 상기 단위 셀과 기판 사이에 마련되되, 상기 단위 셀의 수광면에 대응되는 타공부를 구비하는 보호시트와; 상기 단위 셀이 수용되되, 상기 단위 셀을 지지하는 지지시트를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지를 제공한다.

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Номер записи: 89
04-05-2018 дата публикации

공정 챔버, 이를 포함하는 반도체 제조 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101854165B1
Автор: 이용현, 이명진, 차안기
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 반도체 제조 장치의 일 실시예는, 복수 개의 기판; 및 상기 복수 개의 기판을 로드락 챔버 내로 반송하고, 상기 로드락 챔버에서 상기 복수 개의 기판을 트랜스퍼 챔버 내로 반송하며, 상기 트랜스퍼 챔버에서 상기 복수 개의 기판을 공정 챔버 내로 반송하는 기판 반송부를 포함하고, 상기 복수 개의 기판은 상기 로드락 챔버, 상기 트랜스퍼 챔버 및 상기 공정 챔버로 반송될 때까지 동일한 얼라인 패턴인 것일 수 있다.

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Номер записи: 90
31-08-2017 дата публикации

기화기를 갖는 증착장치 및 증착방법

Номер: KR0101773038B1
Автор: 조병하, 서정화, 김태형, 서동균, 조수일
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 액상의 원료 물질을 기화시켜 피처리물 상에 증착하기 위한 기화기를 갖는 증착장치 및 증착방법에 관한 것이다. 상기 기화기를 갖는 증착장치는, 원료 물질을 공급하는 원료물질 공급부; 상기 원료물질 공급부로부터 원료 물질을 공급받아 기화시키는 기화기; 상기 기화기와 연결되어, 기화된 원료 물질이 피처리물 상에 증착되는 반응공간을 제공하는 반응 챔버; 상기 기화기와 상기 반응 챔버 사이의 연결배관에 잔류하는 이물질을 제거하기 위해 상기 연결배관으로 퍼지 가스를 공급하는 제1 퍼지가스 공급부; 상기 기화기와 연결되어, 상기 연결배관으로 공급된 퍼지 가스를 펌핑하는 배기장치; 를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 따르면, 제1 퍼지가스 공급부에 의해 퍼지 가스가 연결배관으로 공급되어, 연결배관 및 기화기 내의 이물질들을 제거하므로, 증착장치 내에 이물질들이 존재하여 공정상의 문제를 야기하는 것을 미연에 방지할 수 있다.

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Номер записи: 91
24-05-2018 дата публикации

기판 이송 장치

Номер: KR0101860382B1
Автор: 김수웅
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 공정 챔버의 기판 이송 장치 및 그 이송 장치를 포함하는 공정 챔버에 관한 것이다. 본 발명은 공정 챔버 외부에 설치되고, 회전력을 발생시키는 구동부; 공정 챔버 내부에 설치되어 밀폐된 수용 공간을 형성하는 하우징; 상기 하우징 내에 수용되고, 상기 구동부의 회전력을 전달하는 구동 전달부; 및 상기 구동 전달부에서 전달받은 회전력에 의해서 회전되는 복수 개의 롤러;를 구비하고, 상기 복수 개의 롤러는 공정 챔버의 내부에 노출되는 것을 특징으로 하는 공정 챔버의 기판 이송 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면 이송 장치가 공정 챔버 내에서 소스 가스 등에 의해서 영향을 적게 받도록 하기 위한 밀폐를 수행하기 위한 비용이 절감된다.

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Номер записи: 92
02-10-2015 дата публикации

Gas injector and apparatus for manufacturing thin film therewith

Номер: KR0101556356B1
Автор: 이주일, 이동규
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 박막 제조를 위한 가스 분사시 회전하는 구동축과 이를 감싸는 하우징 사이의 마그네틱 시일이 열에 의해 변질되는 것을 방지하고, 손상 여부를 감지할 수 있는 가스 분사 장치 및 이를 구비하는 박막 제조 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 93
26-06-2017 дата публикации

박막 트랜지스터의 제조 방법 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법

Номер: KR0101750290B1
Автор: 민천규, 전형일, 이준호, 이병춘
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 보다 구체적으로, 박막 패턴 또는 박막 트랜지스터의 제조 공정을 단순화하여 제조 단가를 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있도록 한 박막 패턴의 제조 방법과 이를 이용한 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 박막 패턴의 제조 방법은 개방 영역과 차단 영역을 가지는 섀도우 마스크를 기판 상에 정렬하는 단계; 상기 섀도우 마스크를 이용한 증착 공정을 통해 상기 개방 영역에 대응되는 상기 기판 상에 박막 패턴을 형성하는 단계; 상기 섀도우 마스크를 제거하는 단계; 및 상기 박막 패턴의 형성 단계에서 생성된 상기 박막 패턴의 테일(Tail)부를 제거하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 94
07-08-2015 дата публикации

Apparatus for treatmenting substrate

Номер: KR0101542352B1
Автор: 하헌식
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 가스분배판과 기판안치대 사이의 간격을 일정하게 유지하는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 상부에 위치하는 상부리드; 상기 챔버 내부에 설치되는 후방 플레이트; 상기 후방 플레이트와 연결되어 다수의 분사홀을 가지는 가스분배판; 상기 후방 플레이트와 상기 가스분배판을 체결하는 결합수단; 상기 상부리드와 상기 후방 플레이트의 간격을 측정하는 측정장치; 상기 가스분배판의 하부에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치대;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 95
03-01-2017 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101688842B1
Автор: 라성민, 김선욱, 박일흥
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서, 내부에 소정의 공간이 마련되며, 로드락 챔버는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디와, 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.

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Номер записи: 96
22-08-2017 дата публикации

발광 장치 및 그 제조 방법

Номер: KR0101769855B1
Автор: 김승호, 윤석원
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 발광 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 기판과, 기판 상에 형성되어 적어도 한층의 유기물층을 포함하는 발광부와, 발광부 내에 형성되며 유기물층의 소정 영역이 개질되어 소정의 문양을 표시하는 패턴부를 포함하는 발광 장치 및 그 제조 방법을 제공한다.

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Номер записи: 97
10-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101535547B1
Автор: 최규진, 양철훈, 전용한, 이의규, 이태완, 라성민
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 반응 공간을 갖는 챔버와, 상기 챔버 내에서 기판을 안치하는 기판 안치부와, 상기 챔버 하측에 위치하고 복사열을 이용하여 상기 기판 안치부를 가열하는 하측 가열 수단 및 상기 기판 안치부와 상기 하측 가열 수단 사이에 위치하여 상기 기판 안치부의 중심 영역과 가장자리 영역 별로 온도를 조절하는 복사열 가이드부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이 본 발명은 복사열을 방출하는 가열 수단과 기판 안치부 사이에 복사열 가이드를 두어 기판 안치부의 온도 분포를 균일하게 할 수 있다. 즉, 적어도 기판 안치부의 가장자리 영역의 하측 공간에서 기판 안치부의 중심 영역으로 그리고, 기판 안치부의 중심 영역의 하측 공간에서 기판 안치부의 가장자리 영역으로 진행하는 복사열들을 차단하여 복사열이 일 영역으로 집중되는 것을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 98
18-08-2016 дата публикации

태양전지의 제조방법 및 제조 시스템

Номер: KR0101648729B1
Автор: 유진혁, 김동곤
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 조면화 공정 후 발생하는 자연 산화막의 제거 및 반도체층을 진공의 단절없이 연속 공정으로 진행하는 태양전지 제조에 대한 방법 및 시스템에 관한 것으로, 태양전지의 제조방법은 반도체 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 산화막을 형성하는 단계; 공정챔버에서 상기 산화막을 제거하는 공정과 상기 반도체 기판 상에 반도체층을 형성하는 공정을 진공의 단절없이 연속적으로 수행하는 단계; 및 상기 반도체층 상에 전면전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 99
05-12-2018 дата публикации

기판의 패시베이션층 또는 절연층 증착장치 및 증착방법

Номер: KR0101924843B1
Автор: 김영훈, 한정훈
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판의 패시베이션층 또는 절연층 증착장치 및 증착방법에 관한 것으로서, 상세하게는 기판에 패시베이션층을 저온에서 증착할 수 있으며, 동시에 우수한 막질을 가지는 패시베이션층을 증착할 수 있는 기판의 패시베이션층 증착장치 및 증착방법에 관한 것이다.

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Номер записи: 100