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03-01-2017 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101688842B1
Автор: 라성민, 김선욱, 박일흥
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서, 내부에 소정의 공간이 마련되며, 로드락 챔버는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디와, 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.

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Номер записи: 1
10-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR0101535547B1
Автор: 최규진, 양철훈, 전용한, 이의규, 이태완, 라성민
Принадлежит: 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 반응 공간을 갖는 챔버와, 상기 챔버 내에서 기판을 안치하는 기판 안치부와, 상기 챔버 하측에 위치하고 복사열을 이용하여 상기 기판 안치부를 가열하는 하측 가열 수단 및 상기 기판 안치부와 상기 하측 가열 수단 사이에 위치하여 상기 기판 안치부의 중심 영역과 가장자리 영역 별로 온도를 조절하는 복사열 가이드부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 이와 같이 본 발명은 복사열을 방출하는 가열 수단과 기판 안치부 사이에 복사열 가이드를 두어 기판 안치부의 온도 분포를 균일하게 할 수 있다. 즉, 적어도 기판 안치부의 가장자리 영역의 하측 공간에서 기판 안치부의 중심 영역으로 그리고, 기판 안치부의 중심 영역의 하측 공간에서 기판 안치부의 가장자리 영역으로 진행하는 복사열들을 차단하여 복사열이 일 영역으로 집중되는 것을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 2
11-09-2015 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020150103603A
Автор: PI, JOONG HO, KOO, BUN HEI, NA, SUNG MIN, PARK, KWANG SU, BAE, JIN MO
Принадлежит:

The present invention relates to a substrate processing substrate which can minimize a contamination region due to byproducts (for an example, particles) generated by the reaction of process gases in a process chamber. More particularly, the present invention relates to a substrate processing substrate. It includes a process chamber; a gas supply part which supplies a process gas into the process chamber; a substrate mounting part which is formed in the lower part of the gas supply part and has an upper part for mounting the substrate; and a discharge guide part which surrounds the substrate mounting part, limits the diffusion space of the process gas by using the gas supply part and the substrate mounting part, absorbs the gas of the diffusion space and discharges it to the outside of the process chamber. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 3
26-02-2019 дата публикации

기판 트레이 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Номер: KR1020190019101A
Автор: 임재용, 라성민
Принадлежит:

... 본 발명은 대형화가 용이하고 기판의 처짐 등에 의한 공정 불량을 방지할 수 있는 기판 트레이 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 트레이는 소정 거리를 가지도록 나란하게 배치된 제 1 및 제 2 프레임 부재와, 상기 제 1 및 제 2 프레임 부재 각각의 양 가장자리 부분에 결합된 제 3 및 제 4 프레임 부재를 포함하는 프레임; 복수의 기판을 수납하도록 상기 제 1 및 제 2 프레임 부재 사이에 일정한 간격으로 배치된 복수의 기판 수납 스트랩; 및 상기 제 1 및 제 2 프레임 부재 중 적어도 하나의 프레임 부재에 설치되어 상기 복수의 기판 수납 스트랩 각각의 장력을 일정하게 유지시키는 복수의 장력 유지 부재를 포함하며, 상기 복수의 기판 수납 스트랩 각각은 상기 기판의 두께보다 깊은 깊이를 가지도록 형성되어 기판을 수납하고 수납된 기판의 하면 일부를 하면 외부로 노출시키는 복수의 기판 수납부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 4