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03-06-2010 дата публикации

MEASUREMENT PATTERN STRUCTURE, PROCESSING PATTERN STRUCTURE, SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD

Номер: KR2010062008A1
Автор: CHANG, Hong Young, LEE, Hun-Su
Принадлежит:

The present invention provides a measurement pattern structure, a processing pattern structure, a substrate treatment apparatus, and a substrate treatment method. The method comprises: a step for providing the measurement pattern structure that includes at least one unit measurement pattern; a step for treating a first substrate in a processing vessel wherein the first substrate is arranged on the measurement pattern structure; a step for selecting a uniform processing region of the first substrate depending on the position of the unit measurement pattern; a step for transferring the conformation of the measurement pattern structure to the processing pattern structure wherein the measurement pattern structure corresponds to the uniform processing region; and a step for treating a second substrate in the processing vessel using the processing pattern structure including a unit processing pattern.

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Номер записи: 1
30-10-2018 дата публикации

플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101913377B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 이윤성
Принадлежит: 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.

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Номер записи: 2
04-10-2012 дата публикации

PLASMA-GENERATING APPARATUS AND SUBSTRATE-TREATING APPARATUS

Номер: WO2012134199A3
Автор: CHANG, Hong-Young, SEO, Sang-Hun, LEE, Yun-Seong
Принадлежит:

The present invention relates to a plasma-generating apparatus and to a substrate-treating apparatus. The plasma-generating apparatus comprises: a plurality of grounding electrodes arranged within a vacuum container and extending in parallel with each other; and power electrodes arranged among the grounding electrodes. The space between each grounding electrode and power electrode contains a predetermined area, and the power electrodes are tapered in the direction opposite the substrate. The power electrodes are connected to an RF power source, and the height of each power electrode is higher than the height of the grounding electrode in the direction opposite the substrate.

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Номер записи: 3
19-04-2018 дата публикации

플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101836422B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 박기정
Принадлежит: 한국과학기술원

... 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 플라즈마를 형성하도록 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 제1 전극의 둘레에 배치되고 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받는 와셔 형태의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 및 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원을 포함한다.

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Номер записи: 4
15-05-2017 дата публикации

플라즈마 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101735296B1
Автор: 장홍영, 이진원
Принадлежит: 한국과학기술원, 주식회사 윈텔

... 본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다.

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Номер записи: 5
22-05-2017 дата публикации

축전 결합 플라즈마용 전극 구조체 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101738718B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 박기정, 이윤성
Принадлежит: 한국과학기술원

... 본 발명은 축전 결합 플라즈마 발생용 전극 구조체 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 전극 구조체는 RF 전원으로부터 임피던스 매칭 네트워크를 통하여 전력을 공급받고 진공 용기의 내부에 축전 결합 플라즈마를 형성하는 사각형 전극, 및 사각형 전극의 중심에 대하여 대칭적으로 배치되고 사각형 전극을 관통하는 적어도 4개의 트렌치를 포함한다.

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Номер записи: 6
04-08-2017 дата публикации

플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101765323B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 이윤성
Принадлежит: 한국과학기술원, 주성엔지니어링(주)

... 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 상판을 포함하는 진공 용기, 상판의 하부에 배치되고 공정 가스를 토출하는 복수의 노즐들을 포함하는 가스 분배부, 가스 분배부의 하부에 배치되고 제1 방향으로 나란히 연장되는 절연 지지부들, 가스 분배부의 하부에 배치되고 상기 제1 방향으로 나란히 연장되는 접지 전극들, 절연지지부의 하부에 배치되고 접지 전극들 사이에서 제1 방향으로 나란히 연장되는 전원 전극들, 및 가스 분배부 및 절연 지지부를 관통하여 전원 전극들에 RF 전력을 공급하는 전력 공급부를 포함한다.

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Номер записи: 7
18-04-2013 дата публикации

PLASMA APPARATUS AND SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS

Номер: WO2013055056A1
Автор: CHANG, Hong-Young, LEE, Jin-Won
Принадлежит:

The present invention provides a plasma-generating apparatus and a substrate-processing apparatus. The plasma-generating apparatus comprises: a plurality of dielectric tubes installed respectively in a plurality of through-holes formed in a vacuum chamber; antennas, which are divided into a first group and a second group based on the symmetrical disposition thereof in the vacuum chamber, and which are mounted on the outsides of the dielectric tubes, respectively; a first RF power source for supplying power to the first group of antennas; a second RF power source for supplying power to the second group of antennas; and a first power distribution unit, disposed between the first group of antennas and the first RF power source, for distributing power from the first RF power source to the first group of antennas.

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Номер записи: 8
14-11-2016 дата публикации

테슬러 코일을 이용한 미세먼지 차단 시스템

Номер: KR0101675491B1
Автор: 장홍영, 배인식
Принадлежит: 한국과학기술원

... 본 개시는, 풍력발전기에 테슬러 코일 원리를 이용한 미세먼지 차단시스템에 관한 것으로서, 타워, 타워의 상부에 설치된 나셀 및 날개를 포함하는 풍력발전기; 메인전원, 제1 캐패시터, 상기 타워의 하부에 설치된 1차 코일 및 스파크 갭을 포함한 1차LC회로; 및 상기 1차 코일과 자기적으로 결합하며, 타워의 상부까지 타워를 권취하도록 설치된 2차 코일, 상기 2차 코일로부터 소정 간격 이격되어 그 상부에 설치된 제2 캐패시터를 포함하는 2차LC회로로 이루어진 미세먼지 차단시스템을 제공한다.

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Номер записи: 9
22-08-2017 дата публикации

PLASMA GENERATING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер: KR1020170095173A
Автор: CHANG, HONG YOUNG, SEO, SANG HUN, LEE, SEONG YUN
Принадлежит:

The present invention provides a plasma generating apparatus and a substrate processing apparatus. The plasma generating apparatus includes a vacuum container including an upper plate; a gas distributor disposed on the lower side of the upper plate and including a plurality of nozzles for discharging process gas; insulating support units disposed on the lower side of the gas distributor and extended in parallel in the first direction; ground electrodes disposed on the lower side of the gas distributor and extended in parallel in the first direction; power supply electrodes disposed on the lower side of the insulating support unit and extended between the ground electrodes in the first direction; and a power supply unit for supplies RF power to the power supply electrodes by passing through the gas distributor and the insulating support unit. Accordingly, the present invention can generate uniform plasma and reduce lattice defect density of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2017 (AA) First direction ...

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Номер записи: 10
25-07-2013 дата публикации

PLASMA GENERATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS

Номер: WO2013109025A1
Автор: CHANG, Hong-Young, SEO, Sang-Hun, PARK, Gi-Jung
Принадлежит:

The present invention provides a plasma generating apparatus and a substrate treating apparatus. The plasma generating apparatus comprises: a disk-type first electrode for receiving first RF power of a first frequency so as to form plasma; a washer-type second electrode arranged around the circumference of the first electrode and receiving second RF power of a second frequency; an insulation spacer interposed between the first electrode and the second electrode; a first RF power source for supplying power to the first electrode; and a second RF power source for supplying power to the second electrode.

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Номер записи: 11
20-11-2017 дата публикации

PLASMA PROCESSING APPARATUS USING ELECTRON BEAM AND CAPACITIVELY COUPLED PLASMA

Номер: KR1020170126578A
Автор: CHANG, HONG YOUNG, BAE, IN SHIK, PARK, GI JUNG
Принадлежит:

The present invention provides a plasma processing apparatus. The plasma processing apparatus includes: a vacuum container including an electron emitting region with first pressure and a processing region which is maintained with pressure higher than the first pressure and in which plasma is generated and a substrate is arranged; a thermal electron emitting means which is arranged in the electron emitting region and emits a thermal electron; a grid electrode which is grounded and extracts the electrons emitted from the thermal electron emitting means into the processing region; a substrate holder which is arranged on the lower side of the vacuum container, is arranged in the processing region and mounts the substrate; an RF power source which generates the plasma by applying RF power to the substrate holder; a first vacuum pump connected to the electron emitting region; and a second vacuum pump connected to the processing region. Accordingly, the present invention can etch a pattern with ...

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Номер записи: 12
18-04-2013 дата публикации

HELICON PLASMA APPARATUS

Номер: WO2013054960A1
Автор: CHANG, Hong-Young, AN, Sanghyuk
Принадлежит:

The present invention relates to a helicon plasma apparatus. The helicon plasma apparatus includes: a plurality of dielectric tubes mounted on a vacuum chamber; antennas disposed around each of the dielectric tubes; permanent magnets which have a toroidal shape and which are vertically spaced apart from the antennas; a moving part fixing a portion or the entirety of the permanent magnets so as to vertically move the plane on which the fixed permanent magnets are disposed; and an RF power source for supplying power to the antennas. The vertical distance between the antennas and the permanent magnets may be adjusted using the moving part.

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Номер записи: 13
19-09-2017 дата публикации

축전 결합 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치

Номер: KR0101774809B1
Автор: 장홍영, 서상훈, 이윤성
Принадлежит: 한국과학기술원

... 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 일면의 중심에 제1 주파수의 제1 RF 전력을 공급받는 원판형의 제1 전극, 일면의 복수의 위치에서 제2 주파수의 제2 RF 전력을 공급받고 제1 전극의 주위에 배치된 와셔 형상의 제2 전극, 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치된 와셔 형상의 절연 스페이서, 제1 전극에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 전극에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 RF 전원의 전력 및 제2 RF 전원의 전력을 조절하는 제어부를 포함한다.

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Номер записи: 14
22-11-2012 дата публикации

PLASMA GENERATION DEVICE

Номер: WO2012157844A1
Автор: CHANG, Hong-Young, AN, Sanghyuk, LEE, Jinwon
Принадлежит:

The present invention provides a plasma generation device. Said plasma generation device comprises: a vacuum container; a plurality of dielectrics which are connected to through holes formed in the vacuum container; a plurality of RF coils of the same structure, which are disposed in the vicinity of each of the dielectrics, and are electrically connected in parallel; an RF power source which supplies power to the RF coils; an impedance matching circuit which is disposed between the RF power source and the RF coils; and a power distribution unit which is disposed between the impedance matching circuit and one end of the RF coils, and distributes the power of the RF power source to the RF coils. The power distribution unit comprises a power distribution line, and a conductive outer cover that encloses the power distribution line. A distance between an input end of the power distribution unit and said RF coils is the same, and the other end of the RF coils is connected to the conductive outer ...

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Номер записи: 15
24-06-2016 дата публикации

ULTRA-FINE PARTICULATE MATTER BARRIER SYSTEM USING TESLA COIL

Номер: KR1020160072930A
Автор: CHANG, HONG YOUNG, BAE, IN SHIK
Принадлежит:

The present disclosure relates to an ultra-fine particulate matter barrier system using a tesla coil principle in a wind generator. This ultra-fine particulate matter barrier system includes: a wind generator that has a tower and a nacelle and a blade disposed in an upper portion of the tower; a primary LC circuit that has a main power source, a first capacitor, and a primary coil and a spark gap disposed in a lower portion of the tower; and a secondary LC circuit that has a secondary coil and a second capacitor. The secondary coil is magnetically coupled with the primary coil and is disposed to be wound around the tower up to the upper portion of the tower. The second capacitor is disposed at a predetermined distance above the secondary coil. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 16
14-06-2012 дата публикации

PLASMA GENERATOR

Номер: WO2012077843A1
Автор: CHANG, Hong-Young, SEO, Sang-Hun, IN, Jung Hwan, LEE, Hun-Su, LEE, Yun-Seong
Принадлежит:

The present invention relates to a plasma generator, which includes: a vacuum container; a plurality of ground electrodes extending in parallel to each other within the vacuum container; a plurality of power source electrodes disposed between the ground electrodes and within the vacuum container; and a plurality of electrode dielectrics disposed between the power source electrode and the ground electrode, and within the vacuum container. The power source electrodes are connected to an RF power source.

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Номер записи: 17
04-10-2012 дата публикации

PLASMA-GENERATING APPARATUS AND SUBSTRATE-TREATING APPARATUS

Номер: WO2012134199A2
Автор: CHANG, Hong-Young, SEO, Sang-Hun, LEE, Yun-Seong
Принадлежит:

The present invention relates to a plasma-generating apparatus and to a substrate-treating apparatus. The plasma-generating apparatus comprises: a plurality of grounding electrodes arranged within a vacuum container and extending in parallel with each other; and power electrodes arranged among the grounding electrodes. The space between each grounding electrode and power electrode contains a predetermined area, and the power electrodes are tapered in the direction opposite the substrate. The power electrodes are connected to an RF power source, and the height of each power electrode is higher than the height of the grounding electrode in the direction opposite the substrate.

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Номер записи: 18
18-01-2018 дата публикации

전자빔과 축전결합 플라즈마를 이용한 플라즈마 처리 장치

Номер: KR0101820238B1
Автор: 장홍영, 배인식, 박기정
Принадлежит: 한국과학기술원

... 본 발명은 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 처리 장치는 제1 압력을 가지는 전자 방출 영역과 상기 제1 압력보다 높은 압력으로 유지되고 플라즈마가 생성되고 기판이 배치되는 처리 영역을 구비한 진공 용기; 상기 전자 방출 영역에 배치되고 열전자를 방출하는 열전자 방출 수단; 접지되고 상기 열전자 방출 수단에서 방출된 전자를 상기 처리 영역으로 추출하는 그리드 전극; 상기 진공 용기의 하부에 배치되고 상기 처리 영역에 배치되고 상기 기판을 장착하는 기판 홀더; 상기 기판 홀더에 RF 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 RF 전원; 상기 전자 방출 영역과 연결되는 제1 진공 펌프; 및 상기 처리 영역에 연결되는 제2 진공 펌프를 포함한다.

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Номер записи: 19