Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 1. Отображено 1.
14-01-2016 дата публикации

Halbleiterchip, Halbleiterbauteil und Verfahren zu deren Herstellung

Номер: DE102005052563B4
Автор: OTREMBA RALF DIPL ING, KRAFT DANIEL DR ING, KOMPOSCH ALEXANDER DIPL ING, EDER HANNES DIPL ING DR, GANITZER PAUL DR, WÖHLERT STEFAN DR, OTREMBA, RALF, DIPL.-ING., KRAFT, DANIEL, DR.-ING., KOMPOSCH, ALEXANDER, DIPL.-ING., EDER, HANNES, DIPL.-ING. DR., GANITZER, PAUL, DR., WÖHLERT, STEFAN, DR.
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Halbleiterchip (1) mit einer haftvermittlungsschichtfreien Dreischichtmetallisierung (2) bestehend aus einer Aluminiumschicht (4), die direkt auf dem Halbleiterchip (1) aufgebracht ist, einer Diffusionssperrschicht (5), die direkt auf der Aluminiumschicht (4) aufgebracht ist, einer Lotschicht (6), die direkt auf die Diffusionssperrschicht (5) aufgebracht ist, wobei, die Diffusionssperrschicht (5) Ti, Ni, Pt oder Cr ist, und die Lotschicht (6) eine Diffusionslotschicht ist, die AuSn, AgSn oder CuSn aufweist, und wobei der Halbleiterchip (1) eine aktive Oberseite (16) und eine passive Rückseite (3) aufweist, und wobei alle drei Schichten in einer Prozessabfolge auf der passiven Rückseite (3) aufgesputtert sind.

Подробнее
Номер записи: 1