Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 20. Отображено 20.
27-09-2022 дата публикации

이종 복합물 및 상기 이종 복합물을 제조하는 방법

Номер: KR102447825B1
Автор: 김도연, 허필균, 황호종, 윤현, 이종민, 백철균
Принадлежит: 세메스 주식회사, 구진피티에프이 주식회사, 엘에프피(주)

... 이종 복합물 및 상기 이종 복합물을 제조하는 방법이 제공된다. 이종 복합물은 제1 재료가 압축되어 형성된 제1 압축 구조체, 및 상기 제1 재료와는 상이한 제2 재료가 압축되어 형성되고, 상기 제1 압축 구조체에 밀착하며 배치된 제2 압축 구조체를 포함하되, 상기 제1 압축 구조체의 적어도 일부 및 상기 제2 압축 구조체의 적어도 일부는 중심축을 기준으로 일정 반경을 갖고 원형으로 존재하는 경계면에서 서로 접한 상태로 상기 경계면의 양측에 배치된다.

Подробнее
Номер записи: 1
11-03-2025 дата публикации

기판 처리 장치 및 방법

Номер: KR102780656B1
Автор: 최해원, 신승민, 박상진, 신재원, 박지환, 이근택, 커랴킨, 원준호, 허필균
Принадлежит: 삼성전자주식회사, 세메스 주식회사

... 멀티 레벨 압력 제어를 통해 초임계 건조 용기 내 주입되는 CO2 유량을 제어하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공한다. 상기 기판 처리 방법은, 기판이 처리되는 공간을 제공하는 공정 챔버 내에 약액이 도포된 기판을 배치시키는 단계; 초임계 유체를 이용하여 기판을 건조시키는 단계; 및 기판이 건조되면, 기판을 공정 챔버 내에서 반출하는 단계를 포함하며, 건조시키는 단계는 초임계 유체 저장부와 공정 챔버의 전단을 연결하는 제1 배관 상에 설치되는 복수 개의 압력 제어용 밸브 및 공정 챔버의 후단과 연결되는 제2 배관 상에 설치되는 제2 배기 제어용 밸브를 제어하여 공정 챔버 내의 초임계 유체의 양을 조절하되, 초기에는 복수 개의 압력 제어용 밸브 중 일부의 밸브를 개방하여 초임계 유체를 공정 챔버 내에 제공하고, 공정 챔버의 내압이 최고압에 도달할 때까지는 일정 시간이 경과할 때마다 개방되는 밸브의 개수를 증가시키거나 직전보다 더 많은 유량을 제공하는 압력 제어용 밸브를 선택적으로 개방하여 초임계 유체를 공정 챔버 내에 제공하며, 공정 챔버의 내압이 최고압에 도달한 이후에는 제2 배기 제어용 밸브의 개폐를 반복하여 공정 챔버 내의 초임계 유체의 양을 조절한다.

Подробнее
Номер записи: 2
01-08-2022 дата публикации

기판 처리 장치 및 액 처리 장치의 부품

Номер: KR102427044B1
Автор: 원준호, 허필균, 김진규, 이몽룡, 신철용
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시예에 있어서, 기판 처리 장치는 처리 공간을 가지는 용기와; 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛과; 상기 기판으로 처리액을 공급하는 노즐 유닛과; 제어기를 포함하되, 상기 노즐 유닛의 표면은, 전극을 포함하는 전극층과; 상기 전극층의 상부에 제공되는 절연층을 포함하고, 상기 제어기는, 상기 전극에 인가되는 전력을 제어할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 3
27-09-2022 дата публикации

이종 복합물

Номер: KR102447822B1
Автор: 김도연, 허필균, 황호종, 윤현, 이종민, 백철균
Принадлежит: 세메스 주식회사, 구진피티에프이 주식회사, 엘에프피(주)

... 이종 복합물 및 상기 이종 복합물을 제조하는 방법이 제공된다. 이종 복합물은 제1 재료가 압축되어 형성된 제1 압축 구조체, 및 상기 제1 재료와는 상이한 제2 재료가 압축되어 형성되고, 상기 제1 압축 구조체에 밀착하며 배치된 제2 압축 구조체를 포함하되, 상기 제1 압축 구조체의 적어도 일부 및 상기 제2 압축 구조체의 적어도 일부는 중심축을 기준으로 일정 반경을 갖고 원형으로 존재하는 경계면에서 서로 접한 상태로 상기 경계면의 양측에 배치된다.

Подробнее
Номер записи: 4
30-01-2023 дата публикации

기판처리 장치 및 방법

Номер: KR20230014146A
Автор: 김응수, 이장진, 최해원, 김민우, 신재원, 허필균, 성진영, 원준호, 강형석, 안톤
Принадлежит:

... 기판처리 장치 및 방법을 제공한다. 기판처리 장치는 개구부 개폐를 위한 저층셔터모듈이 구비되는 저층챔버; 개구부 개폐를 위한 중층셔터모듈이 구비되며, 상기 저층챔버에 상층으로 위치되는 중층챔버; 개구부 개폐를 위한 상층셔터모듈이 구비되며, 상기 중층챔버에 상층으로 위치되는 상층챔버; 상기 저층챔버내에 구비되며, 투입된 기판의 가공을 수행하는 저층초임계베슬; 상기 중층챔버내에 구비되며, 투입된 기판의 가공을 수행하는 중층초임계베슬; 상기 상층챔버내에 구비되며, 투입된 기판의 가공을 수행하는 상층초임계베슬; 및 상기 저층챔버 내지 상기 상층챔버에 대하여 기판을 투입 또는 회수하는 기판취급유닛을 포함하되, 상기 기판취급유닛은, 상기 저층챔버 내지 상기 상층챔버는 경유하되 외부 연통을 통한 기류가 유입되어 내부의 화학성분이 배출되도록 하는 경유영역상에 구비되며, 상기 저층셔터모듈 내지 상기 상층셔터모듈은 셔터모듈클로즈를 통하여 상기 경유영역 내의 기류가 상기 저층챔버 내지 상기 상층챔버로 유입되어 상기 저층초임계배슬 내지 상기 상층초임계베슬의 내부 온도편차가 발생되는 것을 방지할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 5
24-04-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR101729125B1
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит: SEMES CO., LTD.

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises: a support plate on which a substrate is placed; and a chuck pin placed on the support plate, and supporting a side portion of the substrate. The chuck pin has an external body and an internal body inserted into the external body and provided with a material different from the external body. The external body and the internal body are individually provided with a first material or a second material, and any one of the first material and the second material is provided with higher heat conductivity than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

Подробнее
Номер записи: 6
10-01-2018 дата публикации

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

Номер: KR1020180003678A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN, KANG, BYUNG MAN
Принадлежит:

The present invention provides a substrate processing device capable of efficiently processing a substrate. According to an embodiment of the present invention, the substrate processing device comprises: a spin head; a support axis connected to a lower part of the spin head, and supporting the spin head; a pin located on an upper surface of the spin head to support the substrate, and having an internal space; and a nozzle member supplying a liquid to the substrate located in the spin head. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

Подробнее
Номер записи: 7
10-09-2018 дата публикации

기판 처리 장치

Номер: KR0101895933B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균, 강병만
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 내측에 공간이 형성되어 있는 핀; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함한다.

Подробнее
Номер записи: 8
08-07-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD

Номер: KR1020150077536A
Автор: HEO, PIL KYUN, CHOI, YONG HYOUN, KIM, KI BONG
Принадлежит:

The present invention provides a substrate treating apparatus. The substrate treating apparatus includes a dry chamber which dries a substrate by solving an organic solvent on the substrate by a fluid which is supplies as a supercritical fluid, a supply unit which supplies the fluid to the dry chamber, a reproducing unit which includes a buffer tank which stores the fluid discharged from the dry chamber, reproduces the fluid by separating the organic solvent from the fluid, and supplies the reproduced fluid to the supply unit, and a circulation line which successively connects the dry chamber, the supply unit, and the reproducing unit. The supply unit includes a condenser, a feeding tank which receives and stores the fluid which is liquefied in the condenser, a pump which is installed on the circulation line between the condenser and the feeding tank and supplies the fluid to the feeding tank, and a connection line which supplies the fluid supplied through the pump to the buffer tank. The ...

Подробнее
Номер записи: 9
17-05-2024 дата публикации

약액 히팅 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템

Номер: KR20240068600A
Автор: 사윤기, 김도연, 허필균
Принадлежит:

... 광원을 매개체로 하는 발열체를 이용하여 약액을 히팅하는 약액 히팅 장치 및 이를 구비하는 기판 처리 시스템을 제공한다. 상기 약액 히팅 장치는, 기판을 처리하는 데에 이용되는 약액이 통과하는 경로로 제공되는 유로; 유로의 적어도 일부를 둘러싸도록 배치되는 발열체; 및 발열체에 광을 조사하는 광원을 포함하며, 발열체는 광자 여기를 이용하여 발열되며, 약액을 가열한다.

Подробнее
Номер записи: 10
26-07-2017 дата публикации

스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법

Номер: KR0101757813B1
Автор: 이지환, 최중봉, 허찬영, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 스핀 헤드와 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 스핀 헤드는 기판을 놓이는 지지판과 상기 지지판에 위치하고 기판의 측부를 지지하는 척핀을 포함하며 상기 척핀은 외체와 상기 외체에 삽입되며 상기 외체와 서로 상이한 재질로 제공되는 내체를 포함하고 상기 외체와 상기 내체는 각각 제1재질 또는 제2재질 중 어느 하나로 제공되고 상기 제1재질과 상기 제2재질 중 어느 하나는 다른 하나보다 열전도율이 높고, 내열성이 좋은 재질로 제공되는 스핀 헤드를 포함한다.

Подробнее
Номер записи: 11
07-03-2025 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR20250032161A
Автор: 허필균, 김민우, 강형석, 커랴킨, 이준희
Принадлежит:

... 본 발명은 초임계 유체를 이용하여 기판을 처리하는 장치 및 기판을 처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 챔버; 및 상기 처리 공간으로 처리 유체를 공급하는 처리 유체 공급 유닛을 포함하고,상기 처리 유체 공급 유닛은, 상기 처리 유체를 저장하는 탱크; 상기 저장 탱크 내의 상기 처리 유체를 제1상태에서 제2상태로 변환시키도록 상기 처리 유체를 가열하는 가열 유닛; 상기 제1상태의 처리 유체를 상기 탱크로 유입하는 유입 라인; 상기 탱크로부터 상기 제2상태의 처리 유체를 상기 챔버로 공급하는 공급 라인; 상기 탱크 내의 처리 유체를 순환시키는 순환 라인; 상기 순환 라인에 설치된 제1밸브; 그리고 상기 순환 라인에 설치되어 상기 순환 라인을 흐르는 처리 유체의 온도를 강하시키는 온도 강하 부재를 포함할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 12
22-09-2022 дата публикации

기판 처리 방법 및 기판 처리 장치

Номер: KR20220128750A
Автор: 최해원, 커랴킨, 원준호, 김민우, 최기훈, 김응수, 김태희, 허필균, 이장진, 성진영
Принадлежит:

... 본 발명은 기판을 처리하는 방법을 제공한다. 기판을 처리하는 방법은, 가압 단계와; 유동 단계와; 그리고, 감압 단계를 포함하고, 상기 가압 단계는, 바디의 내부 공간에 반입된 기판의 하부 영역으로 처리 유체를 공급하여 상기 내부 공간의 압력을 높이는 하부 공급 공정과; 그리고, 상기 내부 공간에 반입된 상기 기판의 상부 영역으로 상기 처리 유체를 공급하여 상기 내부 공간의 압력을 높이는 상부 공급 공정을 포함할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 13
21-04-2023 дата публикации

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Номер: KR20230053158A
Автор: 손원식, 오세훈, 정인기, 허필균
Принадлежит:

... 본 발명의 실시예는 처리 공간을 가지는 처리 용기; 상기 처리 공간에서 상기 기판을 지지하고, 상기 기판을 회전시키는 지지 유닛; 상기 지지 유닛에 지지된 상기 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛; 및 상기 기판을 가열하는 가열 유닛을 포함하고, 상기 지지 유닛은, 스핀 척; 상기 스핀 척을 회전시키는 회전 구동기; 상기 스핀 척과 함께 회전되도록 상기 스핀 척 상에 설치되는 척 핀; 및 상기 척 핀을 상기 기판의 측부와 접촉하는 접촉 위치 및 상기 기판의 측부와 이격되는 개방 위치 간에 이동시키는 척 핀 이동 유닛을 포함하고, 상기 척 핀 이동 유닛은 상기 스핀 척에 의해 상기 기판이 회전되는 도중에 상기 척 핀을 이동시킬 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

Подробнее
Номер записи: 14
11-04-2017 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD

Номер: KR1020170039467A
Автор: JANG, SOO ILL, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

An embodiment of the present invention provides an apparatus and a method for liquid-treating a substrate. The substrate treating apparatus includes a substrate support unit for supporting a substrate and a liquid supply unit for supplying a treatment liquid onto the substrate supported by the substrate support unit. The substrate support unit includes a body, a rotating shaft for rotating the body, and a chuck pin projecting upward from the body and supporting a side of the substrate. The liquid supply unit includes a nozzle for discharging the treatment liquid and a heat treatment member for thermally treating a region of the substrate in contact with the chuck pin. As a result, reactivity due to the treatment liquid can be uniformly provided between one region of the substrate which is in contact with the chuck pin and another region. COPYRIGHT KIPO 2017 (520) Power source unit (600) Controller ...

Подробнее
Номер записи: 15
11-05-2015 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND RECYCLING METHOD USING SAME

Номер: KR1020150051110A
Автор: JUNG, EUN SUN, LEE, YOUNG IL, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

Provided is a substrate treating apparatus. The substrate treating apparatus includes: a process chamber which dissolves an organic solvent on a substrate by using fluid provided as supercritical fluid and dries the substrate, a reproduction unit which reproduces the fluid by separating the organic solvent from the fluid discharged from the process chamber, a circulation line which connects the process chamber and the reproduction unit and circulates the fluid, and a concentration measuring unit which measures the concentration of the organic solvent included in the reproduced fluid. The concentration measuring unit includes: a measuring pipe which is branched from the circulation line, a concentration measuring device which is connected to the measuring pipe, a valve installed to the measuring pipe, and a controller which controls the concentration measuring device. The controller can control the concentration measuring device to start measuring concentration after the fluid flows through ...

Подробнее
Номер записи: 16
10-01-2024 дата публикации

회수 용기 승강 조립체 및 기판 처리 장치

Номер: KR102623522B1
Автор: 손원식, 허필균, 황호종
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 좁은 공간에 설치 가능하면서도 제어가 용이한 회수 용기 승강 조립체를 제공하기 위한 것으로, 실시예에서, 기판 지지부를 둘러싸며 배치되는 제 1 회수 용기와 상기 제 1 회수 용기와 동심으로 상기 제 1 회수 용기 내측에 배치되는 제 2 회수 용기를 포함하는 회수 용기; 및 상기 제 1 및 제 2 회수 용기와 연결되며 상기 제 1 및 제 2 회수 용기를 승강시키는 승강 구동부;를 포함하며, 상기 승강 구동부는 모터; 상기 모터에 연결되어 제 1 방향으로 회전되는 구동축; 상기 제 1 회수 용기와 연결되며 상기 제 1 방향에 수직한 제 2 방향으로 연장하는 제 1 샤프트; 상기 제 2 회수 용기와 연결되며 상기 제 2 방향으로 연장하는 제 2 샤프트; 상기 구동축과 상기 제 1 샤프트를 연결하는 제 1 클러치; 및 상기 구동축과 상기 제 2 샤프트를 연결하는 제 2 클러치를 포함하는 회수 용기 승강 조립체를 제공한다.

Подробнее
Номер записи: 17
25-05-2017 дата публикации

SPIN HEAD, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING SPIN HEAD

Номер: KR1020170057805A
Автор: LEE, JI HWAN, CHOI, JUNG BONG, HEO, CHAN YOUNG, HEO, PIL KYUN
Принадлежит:

The present invention relates to a spin head, and an apparatus and a method for treating a substrate including the spin head. According to an embodiment of the present invention, the spin head comprises a supporting plate where a substrate is placed and a chuck pin placed on the supporting plate and supporting a lateral portion of the substrate, wherein the chuck pin includes an outer body and an inner body inserted into the outer body and provided with a different material from the outer body, wherein each of the outer body and the inner body is provided with any one of a first material or a second material, and wherein one material of the first material and the second material is provided with a material having lower heat conductivity and better thermal resistance than the other one. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

Подробнее
Номер записи: 18
14-07-2017 дата публикации

기판 처리 장치 및 방법

Номер: KR0101757821B1
Автор: 장수일, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명의 실시예는 기판을 액 처리하는 장치 및 방법을 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지 유닛 및 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 기판 지지 유닛은 몸체, 상기 몸체를 회전시키는 회전축, 그리고 상기 몸체로부터 위로 돌출되어 기판의 측부를 지지하는 척핀을 포함하고, 상기 액 공급 유닛은 처리액을 토출하는 노즐 및 상기 척핀과 접촉된 기판의 영역을 열 처리하는 열 처리 부재를 포함한다. 이로 인해 척핀과 접촉되는 기판의 영역 및 이와 다른 영역 간에는 처리액에 의한 반응성을 균일하게 제공할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 19
17-05-2016 дата публикации

SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND RECYCLING METHOD

Номер: KR0101621485B1
Автор: 정은선, 이영일, 허필균
Принадлежит: 세메스 주식회사

... 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 초임계유체로 제공되는 유체를 이용하여 기판 상의 유기용제를 용해하여 상기 기판을 건조시키는 공정챔버, 상기 공정챔버로부터 배출된 유체로부터 상기 유기용제를 분리하여 상기 유체를 재생하는 재생 유닛, 상기 공정 챔버와 상기 재생 유닛을 연결하고 상기 유체를 순환시키는 순환 라인 그리고 상기 재생된 유체에 함유된 상기 유기용제의 농도를 측정하는 농도 측정 유닛을 포함하되, 상기 농도 측정 유닛은, 상기 순환라인으로부터 분기되는 측정 배관, 상기 측정 배관에 연결되는 농도 계측기, 상기 측정 배관에 설치된 밸브, 그리고 상기 농도 계측기를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는 상기 농도를 측정할 때 상기 유체가 상기 농도 계측기로 설정시간 동안 흐른 이후에 농도 측정을 시작하도록 상기 농도 계측기를 제어할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 20