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11-04-2023 дата публикации

EUV 컬렉터 검사 장치 및 검사 방법

Номер: KR20230048212A
Автор: 박종빈, 김정길, 마츠다요조, 이동협, 정도현, 정유진, 정은희, 주원돈, 최민석
Принадлежит:

... 본 발명의 일 실시예는, 검사 대상인 EUV 컬렉터(collector)의 전면을 덮어 외부광이 차단된 공간부를 제공하는 차광 커버; 상기 공간부 내에 배치되며, 상기 EUV 컬렉터의 중심축을 따라 연장된 기둥 형태를 가지고, 자외선(UV)에서 백색광(VIS) 대역의 조사광을 출력하는 광원; 및 상기 광원의 전면에 배치되며, 상기 조사광이 상기 EUV 컬렉터의 상기 전면에서 반사된 반사광의 스펙트럼을 검출하는 분광기(spectrometer)를 포함하며, 상기 스펙트럼에 기초하여 상기 EUV 컬렉터의 상기 전면의 오염 상태를 검사하는 EUV 컬렉터 검사 장치를 제공한다.

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Номер записи: 1
05-04-2023 дата публикации

기판 다이싱 방법 및 기판 다이싱 장치

Номер: KR20230045993A
Автор: 장성호, 서민환, 이장휘, 권영철, 배상우, 오쿠보 아키노리, 이정철, 주원돈
Принадлежит:

... 기판 다이싱 방법 및 기판 다이싱 장치가 제공된다. 상기 기판 다이싱 방법은, 타겟 기판 내 제1 개질 영역을 형성하기 위한 타겟 높이를 설정하되, 타겟 높이는 타겟 기판의 상면으로부터 제1 개질 영역까지의 거리이고, 제1 막 및 제1 막과 접하는 제2 막을 포함하는 제1 샘플 기판에 레이저 빔을 조사하여, 레이저 빔의 집광점을 제2 막과 접하는 제1 막의 상면에 형성하는 샘플 조건에 기초하여 타겟 조건을 설정하고, 타겟 조건에 따라 타겟 기판에 레이저 빔을 조사하여 타겟 기판 내 제1 개질 영역을 형성하는 것을 포함하고, 제2 막의 두께는 타겟 높이이다.

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Номер записи: 2
01-04-2024 дата публикации

광학 장치, 다이 본딩 시스템 및 다이 본딩 방법

Номер: KR20240041675A
Автор: 김형진, 서민환, 주원돈, 주지영, 배상우, 안성민, 오승열, 이준규
Принадлежит:

... 본 발명의 기술적 사상은, 제1 수평 방향으로 조명광을 조사하기 위한 조명기; 상기 제1 수평 방향으로 제1 면을 통해 입사된 상기 조명광을 편광시키는 편광 프리즘; 상기 편광 프리즘을 통과한 상기 조명광을 반사시키는 제1 반사부 및 제2 반사부; 상기 반사부로부터 반사된 상기 조명광을 집광시키는 제1 렌즈 및 제2 렌즈들을 포함하는 광학 장치를 제공할 수 있다.

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Номер записи: 3
31-03-2023 дата публикации

정렬 검사용 광학 어셈블리, 이를 포함한 광학 장치, 다이 본딩 시스템 및 이를 이용한 다이 본딩 방법

Номер: KR20230043387A
Автор: 주지영, 김형진, 서민환, 주원돈, 안성민, 김지영, 카즈야 오노, 이정철
Принадлежит:

... 정렬 검사용 광학 장치는, 제1 수평 방향으로 조명광을 조사하기 위한 조명기, 상기 제1 수평 방향으로 입사된 조명광을 2개의 제1 및 제2 조명광들로 분할하고 상기 제1 및 제2 조명광들을 동일한 길이의 제1 및 제2 광 경로들을 따라 수직 방향을 따라 서로 대향하도록 이격된 제1 및 제2 정렬 마크들 상에 각각 집광시키고 상기 제1 및 제2 정렬 마크들로부터 반사된 제1 및 제2 반사광들을 동일한 길이의 제3 및 제4 광 경로들을 따라 제2 수평 방향으로 출사시키기 위한 광학 어셈블리, 및 상기 광학 어셈블리로부터 출사된 상기 제1 및 제2 반사광들을 검출하기 위한 광 검출기를 포함한다.

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Номер записи: 4
17-03-2017 дата публикации

CITY GAS PIPELINE TOTAL MANAGEMENT SYSTEM (CPMS)

Номер: KR101717621B1
Автор: KWON, JEONG ROCK, SONG, KI YOUN, YOON, YUNG KI, JOO, WEON DON, HYEONG, WEON JUNG, CHOI, HONG SEOK, CHOI, HEE JUN
Принадлежит: KOREA GAS SAFETY CORPORATION

The present invention relates to a system for managing city gas pipelines. The system includes: a city gas engineer terminal (100) connected to an Internet, for requesting a safety diagnosis for a city gas pipeline, and inputting pipeline information, a related drawing file, and a result of performing the safety diagnosis; a Korea gas safety corporation terminal (200) connected to an Internet, for setting and inputting a diagnosis range for the request with respect to the safety diagnosis inputted through the city gas engineer terminal (100), and inputting a supplementary request information for the pipeline information or a result of performing the safety diagnosis inputted from the city gas engineer terminal (100); and a pipeline management server (300) connected to the city gas engineer terminal (100) and the Korea gas safety corporation terminal (200) via the Internet, for generating a predetermined safety diagnosis processing form based on the diagnosis range set through the Korean ...

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Номер записи: 5
15-02-2024 дата публикации

플라즈마 센싱 장치, 이를 포함하는 플라즈마 모니토링 시스템 및 플라즈마 공정 제어 방법

Номер: KR102636879B1
Автор: 박헌용, 배상우, 이슬기, 주원돈
Принадлежит: 삼성전자주식회사

... 플라즈마 모니토링 시스템은, 플라즈마 공정을 수행하는 플라즈마 챔버, 제1 플라즈마 센싱 장치, 제2 플라즈마 센싱 장치 및 제어부를 포함한다. 제1 플라즈마 센싱 장치 및 제2 플라즈마 센싱 장치는 모니토링 플라즈마 평면의 중심을 기준으로 직교하는 수평 방향들에 각각 배치된다. 제1 플라즈마 센싱 장치는 제1 수평 방향으로 방사되는 제1 입사 빔에 기초하여 상기 모니토링 플라즈마 평면에 대한 제1 검출 신호를 발생하고, 제2 플라즈마 센싱 장치는 제1 수평 방향에 수직인 제2 수평 방향으로 방사되는 제2 입사 빔에 기초하여 모니토링 플라즈마 평면에 대한 제2 검출 신호를 발생한다. 제어부는 제1 검출 신호 및 제2 검출 신호에 기초한 컨볼루션 연산을 수행하여 모니토링 플라즈마 평면에 대한 이차원 플라즈마 분포 정보를 검출한다. 검출 신호들의 직교성을 이용하여 이차원 또는 삼차원의 플라즈마 분포 정보를 실시간으로 제공함으로써 플라즈마 공정의 생산성을 향상시킬 수 있다.

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Номер записи: 6
19-09-2017 дата публикации

MASKLESS LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING ACCUMULATED LIGHT AMOUNT USING SAME

Номер: KR1020170105247A
Автор: CHU, JI YOUNG, KRISHNA SHIVA RAM, KIM, TAE HYUN, BAE, SANG WOO, JANG, SANG DON, JOO, WON DON
Принадлежит:

Provided are a maskless lithographic apparatus and a method for measuring an accumulated light amount using the same. The maskless lithographic apparatus comprises: a light source emitting light; a stage on which a substrate is arranged; an optical system converting light into a beam spot array including a plurality of rows and a plurality of columns and emitting the same on the stage; a slit on which the beam spot array is emitted and which passes heat in the n^th (n is natural number) row of the beam spot array; an optical sensor sensing the n^th row of the beam spot array having passed through the slit; and a measuring unit measuring the accumulated light amount in the n^th row of the beam spot array sensed by the optical sensor. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 7
28-04-2017 дата публикации

PLASMA LIGHT-SOURCE APPARATUS AND LIGHT-SOURCE SYSTEM COMPRISING SAME

Номер: KR1020170045949A
Автор: KIM, WOOK RAE, PARK, YOUNG KYU, LEE, JUNG CHUL, JEON, BYEONG HWAN, CHO, SUNG HWI, JOO, WON DON, AHN, JIN WOO
Принадлежит:

According to an inventive concept of the present invention, provided is a plasma light-source apparatus having high efficiency and high luminance, which collects laser beams efficiently, receives the same, efficiently collects and emit plasma light, and can be efficiently cooled. The plasma light-source apparatus comprises: a first laser generator which generates a first laser beam; a second laser generator which generates a second laser beam; and a chamber which accommodates and seals a medium material for plasma ignition. In the chamber, the plasma is ignited by the first laser beam, and maintained by the second laser beam, and two curved mirrors form an inner surface thereof and face each other. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 8
19-03-2018 дата публикации

DEFECT INSPECTION SYSTEM AND METHOD THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING METHOD OF DEFECT INSPECTION SYSTEM

Номер: KR1020180028787A
Автор: CHO, SEONG KEUN, BAE, SANG WOO, JOO, WON DON, JANG, SANG DON
Принадлежит:

A technical idea of the present invention provides a defect inspection system and a method capable of detecting defects of an inspection object at high speed while detecting defects of an inspection object accurately. The defect inspection system comprises: a light source; a linear polarizer for linearly polarizing light from the light source; a compensator for circularly polarizing or elliptically polarizing the light from the linear polarizer; a stage in which the inspection object is disposed; a polarization analyzer for selectively passing the light reflected from the inspection object; and a first camera for collecting the light from the polarization analyzer. The light passing through the compensator is obliquely incident on the inspection object. The reference light, which corresponds to the reflected light in a state that there is no defect in the light reflected from the inspection object, is blocked by the polarization analyzer and detects the defects of the inspection object.

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Номер записи: 9
07-03-2023 дата публикации

배선 기판 테스트 방법 및 이를 수행하기 위한 장치

Номер: KR102506803B1
Автор: 임미현, 김성열, 조성근, 주원돈, 김재홍, 김택진, 이경민, 이상민
Принадлежит: 삼성전자주식회사

... 배선 기판 테스트 방법에 따르면, 기준 광학적 특성을 갖는 프로브로부터 반사된 기준광의 차단 조건을 설정할 수 있다. 복수개의 회로들을 갖는 실제 배선 기판으로부터 방출된 전계를 상기 프로브로 인가하여, 상기 프로브의 상기 기준 광학적 특성을 실제 광학적 특성으로 변화시킬 수 있다. 상기 실제 광학적 특성을 갖는 상기 프로브로 광을 조사할 수 있다. 상기 실제 광학적 특성을 갖는 상기 프로브로부터 반사된 반사광에서 상기 차단 조건에 따라 상기 기준광을 차단할 수 있다. 상기 기준광을 제외한 상기 반사광의 나머지를 검출할 수 있다. 따라서, 검출된 반사광의 나머지로부터 배선 기판의 회로들의 불량 여부를 정확하게 파악할 수 있다.

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Номер записи: 10
12-07-2018 дата публикации

광원 장치 및 광 생성 방법

Номер: KR0101877468B1
Автор: 고우석, 양유신, 조수진, 주원돈, 김민국, 이상길, 전병환
Принадлежит: 삼성전자주식회사

... 광대역 광원 장치는 고압 가스만으로 채워져 있고 구 형상을 갖는 챔버가 구비된다. 상기 챔버 외부에는 레이저 방출기가 구비된다. 상기 챔버와 이격되면서 상기 챔버를 둘러싸도록 타원경이 배치된다. 상기 챔버 중심부의 플라즈마 영역으로부터 방출되어 상기 타원경에서 반사된 광을 수집하는 로드 렌즈가 구비된다. 상기 챔버 내부에 고압 가스들을 이온화시키기 위하여 제공되는 에너지 공급부를 포함한다. 상기 광대역 광원 장치는 챔버 내에 전극이 구비되지 않으므로, 생성된 광은 균일한 조도를 가지며, 입사각별로 광량이 균일하다.

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Номер записи: 11