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09-11-2015 дата публикации

미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR1020150125694A
Автор: 야마모토 가즈마, 미야모토 요시히로, 세키토 다카시, 나가하라 다쓰로
Принадлежит:

... [과제] 표면 거칠음, 브리지(bridge) 결함, 또는 미해상(未解像) 등의 불량이 없는, 미세한 네가티브형 포토 레지스트 패턴을 형성할 수 있는 조성물과, 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 화학 증폭형 레지스트 조성물을 사용하여 형성한 네가티브형 레지스트 패턴에 적용하여 레지스트 패턴을 굵게 함으로써 패턴을 미세화하기 위해 사용되는 미세 패턴 형성용 조성물. 이 조성물은, 반복 단위 중에 아미노기를 함유하는 중합체 또는 중합체 혼합물과, 용제를 함유하여 이루어지고, 추가로 특정 량의 산을 함유하거나, 특정의 pH를 나타낸다. 그리고, 중합체 혼합물은, 한센 용해도 파라미터로부터 결정되는 HSP 거리가 3 이상인 복수의 중합체를 함유한다. 유기 용제 현상액으로 현상하여 수득되는 네가티브형 포토 레지스트 패턴에 그 조성물을 도포하고, 가열함으로써 미세한 패턴을 형성시킨다.

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Номер записи: 1
21-12-2018 дата публикации

현상 가능한 하층 반사방지 코팅 형성용 조성물

Номер: KR0101931096B1
Автор: 나카스기 시게마사, 야마모토 가즈마, 아키야마 야스시, 미야자키 신지, 파드마나반 무니라트나, 차크라파니 스리니바산
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... 본 발명은, 하층 반사방지 코팅 형성용 조성물을 제공하며, 또한 상기 조성물을 사용하는 포토레지스트 패턴 형성 방법을 제공한다. 상기 조성물은 반도체 장치를 제조하기 위한 리소그래피 공정에서 사용되는 하층 반사방지 코팅을 제공하며, 상기 코팅은 포토레지스트용 현상액으로 현상할 수 있다. 상기 조성물은 용매, 축합된 폴리사이클릭 방향족 그룹을 갖는 중합체 및 말레이미드 유도체 또는 말레산 무수물 유도체를 갖는 화합물을 함유한다. 상기 조성물은 광산 발생제 또는 가교결합제를 추가로 함유할 수 있다.

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Номер записи: 2
10-06-2015 дата публикации

미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR1020150064150A
Автор: 야마모토 가즈마, 이시이 마사히로, 세키토 다카시, 야나기타 히로시, 나카스기 시게마사, 노야 고
Принадлежит:

... [과제] 드라이 에칭 내성이 높은 패턴을 형성할 수 있는 미세 패턴 형성용 조성물과, 이를 사용한 제조 과정에서의 배관 막힘이 적은 패턴 형성 방법의 제공. [해결수단] 화학증폭형 레지스트 조성물을 사용하여 네거티브형 레지스트 패턴을 형성시키는 방법에서 레지스트 패턴을 굵게 함으로써 패턴을 미세화하기 위해 사용되는, 하이드록시아릴기를 갖는 반복 단위를 포함하는 중합체와, 상기 네거티브형 레지스트 패턴을 용해시키지 않는 유기 용제를 포함하여 이루어지는 미세 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법. 패턴 형성 방법에 있어서, 레지스트 조성물의 도포와 이의 미세 패턴 형성용 조성물을 동일한 도포 장치로 도포함으로써, 배관 막힘을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 3
20-06-2017 дата публикации

레지스트 패턴 처리용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR1020170069268A
Автор: 야마모토 가즈마, 나가하라 다쓰로
Принадлежит:

... [과제] 레지스트 패턴의 표면 거칠기를 개량할 수 있는 조성물과 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 특정의 함질소 화합물과, 설포기를 포함하는 음이온성 계면 활성제와, 물을 포함하는 조성물과, 이를 현상 후의 건조된 레지스트 패턴에 적용하는 공정을 포함하는 패턴 형성 방법.

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Номер записи: 4
27-02-2019 дата публикации

린스 조성물, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법

Номер: KR1020190020079A
Автор: 야마모토 가즈마, 마쓰우라 유리코, 야시마 도모야스, 나가하라 다쓰로
Принадлежит:

... 본 발명은 신규한 린스 조성물, 린스 조성물을 사용하는 레지스트 패턴의 형성, 및 포토리소그래피 방법으로 상기 린스 조성물을 사용하는 반도체 디바이스 제작 방법에 관한 것이다.

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Номер записи: 5
04-07-2018 дата публикации

미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR0101873727B1
Автор: 나가하라 다쓰로, 세키토 다카시, 야마모토 가즈마, 고바야시 마사카즈, 사타케 노보루, 이시이 마사히로
Принадлежит: 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘.

... [과제] 표면 거칠음이 적은, 미세한 네가티브형 포토 레지스트 패턴을 형성할 수 있는 조성물과, 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 화학 증폭형 포지티브형 포토 레지스트 조성물을 사용하여 포지티브형 레지스트 패턴을 형성시키는 방법에 있어서, 레지스트 패턴을 굵게 함으로써 패턴을 미세화하기 위해 사용되는 미세 패턴 형성용 조성물로서, 반복 단위 중에 아미노기를 함유하는 중합체와, 용제와, 산을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 조성물. 현상 후의 포지티브형 포토 레지스트 패턴에 그 조성물을 도포하고 가열함으로써 미세한 패턴을 형성시킬 수 있다.

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Номер записи: 6
22-05-2017 дата публикации

미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR0101738376B1
Автор: 야마모토 가즈마, 이시이 마사히로, 세키토 다카시, 야나기타 히로시, 나카스기 시게마사, 노야 고
Принадлежит: 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘.

... [과제] 드라이 에칭 내성이 높은 패턴을 형성할 수 있는 미세 패턴 형성용 조성물과, 이를 사용한 제조 과정에서의 배관 막힘이 적은 패턴 형성 방법의 제공. [해결수단] 화학증폭형 레지스트 조성물을 사용하여 네거티브형 레지스트 패턴을 형성시키는 방법에서 레지스트 패턴을 굵게 함으로써 패턴을 미세화하기 위해 사용되는, 하이드록시아릴기를 갖는 반복 단위를 포함하는 중합체와, 상기 네거티브형 레지스트 패턴을 용해시키지 않는 유기 용제를 포함하여 이루어지는 미세 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법. 패턴 형성 방법에 있어서, 레지스트 조성물의 도포와 이의 미세 패턴 형성용 조성물을 동일한 도포 장치로 도포함으로써, 배관 막힘을 방지할 수 있다.

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Номер записи: 7
21-09-2018 дата публикации

미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR0101900660B1
Автор: 야마모토 가즈마, 미야모토 요시히로, 세키토 다카시, 나가하라 다쓰로
Принадлежит: 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘.

... [과제] 표면 거칠음, 브리지(bridge) 결함, 또는 미해상(未解像) 등의 불량이 없는, 미세한 네가티브형 포토 레지스트 패턴을 형성할 수 있는 조성물과, 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 화학 증폭형 레지스트 조성물을 사용하여 형성한 네가티브형 레지스트 패턴에 적용하여 레지스트 패턴을 굵게 함으로써 패턴을 미세화하기 위해 사용되는 미세 패턴 형성용 조성물. 이 조성물은, 반복 단위 중에 아미노기를 함유하는 중합체 또는 중합체 혼합물과, 용제를 함유하여 이루어지고, 추가로 특정 량의 산을 함유하거나, 특정의 pH를 나타낸다. 그리고, 중합체 혼합물은, 한센 용해도 파라미터로부터 결정되는 HSP 거리가 3 이상인 복수의 중합체를 함유한다. 유기 용제 현상액으로 현상하여 수득되는 네가티브형 포토 레지스트 패턴에 그 조성물을 도포하고, 가열함으로써 미세한 패턴을 형성시킨다.

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Номер записи: 8