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10-05-2018 дата публикации

ETCHING COMPOSITION

Номер: KR1020180047386A
Автор: KIM SEULKI, PARK SANGSEUNG, KIM IKJOON, KIM SEHOON
Принадлежит:

The present invention relates to an etching composition and an etching method using the same, wherein the etching solution of the present invention contains: hydrogen peroxide; a co-oxidant which is one or more ions selected from silver, iron, copper, nickel, manganese, and cerium or an organic or inorganic compound including the ions; a corrosion inhibitor; and an aliphatic cyclic ketone compound, a lactone compound, or a mixture thereof. The etching composition has excellent stability and improved etching characteristics. COPYRIGHT KIPO 2018 (AA) Zero days (BB) Five days ...

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Номер записи: 1
01-02-2023 дата публикации

금속막 식각 조성물 및 이를 이용한 식각 방법

Номер: KR102494016B1
Автор: 박상승, 김익준, 김희태, 이보연, 김세훈
Принадлежит: 주식회사 이엔에프테크놀로지

... 본 발명에 따른 금속막 식각 조성물은 과산화수소, 유기산, 글리콜계 고분자 및 물을 포함하며, pH 범위가 3.0 내지 4.4인 것으로, 실리콘막, 투명 전도막 등의 하부막 대비 구리, 몰리브덴 등의 금속막에 대한 높은 선택비 또는 무한 선택비를 갖고, 상대적으로 높은 pH 범위에서도 과수 안정성이 우수하며, 식각이 반복 수행되어 다수 번 재사용되더라도 초기 우수한 특성을 지속적으로 유지할 수 있다. 또한 식각 시 직선성이 우수한 테이프프로파일을 구현할 수 있을 뿐만 아니라, 시디로스(CD loss) 감소 및 잔사 발생 억제 특성이 우수한 효과가 있다. 또한 조성물이 높은 안정성을 가짐에 따라 사용 전 또는 후에도 초기 우수한 특성을 지속적으로 유지할 수 있는 향상된 보관 안정성을 갖고, 식각 시 석출물이 발생하지 않으며, 발열을 억제할 수 있는 효과가 있다.

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Номер записи: 2
31-01-2023 дата публикации

금속막 식각 조성물

Номер: KR102493061B1
Автор: 박상승, 김익준, 김희태, 이보연, 김세훈
Принадлежит: 주식회사 이엔에프테크놀로지

... 본 발명에 따른 금속막 식각 조성물은 과산화수소, 유기산, 글리콜계 고분자 및 물을 포함하며, pH 범위가 3.0 내지 4.4인 것으로, 실리콘막, 투명 전도막 등의 하부막 대비 구리, 몰리브덴 등의 금속막에 대한 높은 선택비 또는 무한 선택비를 갖고, 상대적으로 높은 pH 범위에서도 과수 안정성이 우수하며, 식각이 반복 수행되어 다수 번 재사용되더라도 초기 우수한 특성을 지속적으로 유지할 수 있다. 또한 식각 시 직선성이 우수한 테이프프로파일을 구현할 수 있을 뿐만 아니라, 시디로스(CD loss) 감소 및 잔사 발생 억제 특성이 우수한 효과가 있다. 또한 조성물이 높은 안정성을 가짐에 따라 사용 전 또는 후에도 초기 우수한 특성을 지속적으로 유지할 수 있는 향상된 보관 안정성을 갖고, 식각 시 석출물이 발생하지 않으며, 발열을 억제할 수 있는 효과가 있다.

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Номер записи: 3
26-08-2022 дата публикации

식각액 조성물

Номер: KR20220118706A
Автор: 은희천, 이보연, 박상승, 김익준, 정석일, 정민경, 김양령, 김세훈
Принадлежит:

... 본 발명은 은(Ag) 또는 은을 함유하는 막의 식각을 위한 식각액 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 식각액 조성물에 따르면, 은 또는 은을 포함하는 금속막의 식각 공정에 있어서, 하부막의 손상 없이 잔사를 개선하고, 석출물의 발생을 방지하고, 미세 배선 형성 시 바이어스의 불량을 최소화함에 따라 식각 특성을 개선할 수 있다.

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Номер записи: 4