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13-10-2015 дата публикации

Coating Apparatus For Core-Shell Nanoparticles Using Atomic Layer Deposition Technology

Номер: KR0101559204B1
Автор: 박성호, 채원석, 한만소
Принадлежит: 대진대학교 산학협력단

... 본 발명은 코팅 공정이 이루어지는 공정 통로를 구비한 코팅 챔버와, 공정 통로에 나노 입자를 공급하는 입자 공급수단과, 공정 통로에 캐리어 가스와 쉘 물질의 소스인 반응성 가스를 공급하는 가스 공급수단, 및 공정 통로의 압력을 저압으로 형성하는 저압 형성수단을 포함한다. 코팅 챔버는 공정 통로에 다공성 물질이나 격자형 그리드로 이루어진 속도조절부재를 설치하며, 속도조절부재를 통과하는 나노 입자는 유동저항 또는 충돌에 의해 이동속도가 저하됨에 따라 반응성 가스로서 공급된 제1 및 제2전구체가 나노 입자보다 상대적으로 빠르게 이동하여 나노 입자에 쉘 물질을 박막 코팅하는 것을 특징으로 한다.

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Номер записи: 1
07-12-2018 дата публикации

고순도 코어-쉘 나노입자의 대면적 코팅장치 및 방법

Номер: KR0101925967B1
Автор: 박성호, 정재학, 정홍인, 채원석, 한만소
Принадлежит: 대진대학교 산학협력단, (주)씨엔원

... 마이크로파 플라즈마를 이용하며 기존 반도체공정과 상호호환이 가능하도록 균일한 나노입자를 대면적 기판에 균일하게 증착하는 고순도 코어-쉘 나노입자의 대면적 코팅장치 및 방법에 관한 것으로, 대면적의 기판을 이송하는 기판 이송부, 마이크로파 플라즈마를 생성하는 마이크로파 플라즈마 발생부, 코어로서 나노입자 전구체 및 쉘로서 나노 코팅 전구체를 전달하기 위한 전구체 전달부, 상기 전구체 전달부에서 전달된 나노입자 전구체와 상기 마이크로파 플라즈마 발생부에서 발생된 마이크로파 플라즈마를 반응시키는 플라즈마 반응부, 상기 기판 이송부에 의해 이송된 기판에 상기 플라즈마 반응부에서 분사된 나노입자 전구체를 증착하는 나노입자 증착 챔버, 상기 나노입자 증착 챔버에서 기판에 증착된 나노입자 전구체에 상기 전구체 전달부에서 전달된 나노 코팅 전구체를 코팅하는 원자층 증착 챔버를 포함하는 구성을 마련하여, 기존 반도체 공정을 후속 공정으로 진행할 수 있어 나노입자의 고유 특성을 이용하여 다양한 디바이스를 제조할 수 있다.

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Номер записи: 2
05-10-2018 дата публикации

LARGE AREA COATING DEVICE OF HIGH PURITY CORE-SHELL NANOPARTICLES AND METHOD THEREOF

Номер: KR1020180108937A
Автор: PARK, SUNG HO, JUNG, JAE HACK, JUNG, HONG IN, CHAE, WON SEOK, HAN, MAN SO
Принадлежит:

The present invention relates to a large area coating device of high purity core-shell nanoparticles, which uniformly deposits uniform nanoparticles on a large area substrate to be compatible with a conventional semiconductor process by using microwave plasma, and to a method thereof. The large area coating device comprises: a substrate transfer unit for transferring a large area substrate; a microwave plasma generation unit for generating microwave plasma; a precursor delivery unit for delivering a nanoparticle precursor as a core and a nanocoated precursor as a shell; a plasma reaction unit for causing a reaction between the nanoparticle precursor delivered from the precursor delivery unit and the microwave plasma generated from the microwave plasma generation unit; a nanoparticle deposition chamber for depositing the nanoparticle precursor injected from the plasma reaction unit on the substrate transferred by the substrate transfer unit; and an atomic layer deposition chamber for coating ...

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Номер записи: 3