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09-02-2012 дата публикации

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: WO2012018181A2
Автор: YEO, Tae-Hoon, KIM, Byung-Uk, YOUN, Hyoc-Min, KOO, Ki-Hyuk, YUN, Joo-Pyo, KIM, Dong-Myung, SHIN, Hong-Dae, KIM, Jin-Sun, LEE, Sang-Hoon, WOO, Chang-Min
Принадлежит:

The present invention relates to a negative photosensitive resin composition which is sensitive to long wavelength ultraviolet rays, and more specifically, to a negative photosensitive resin composition comprising: a) one or a mixture of copolymers selected from i) an acrylic copolymer, ii) a polyimide-based copolymer, and iii) a siloxane-based copolymer; b) a photoinitiator; and c) an acridine-based photosensitizer having a specific structure. According to the present invention, the negative photosensitive resin composition has excellent resolution, transmittance, thermochromism resistance, adhesive force and the like, particularly, has excellent sensitivity at long wavelength ultraviolet rays of 405-435 nm, and thus is appropriate for use in an exposure device for the exclusive use of GH-line or a next generation digital exposure device.

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Номер записи: 1
03-11-2016 дата публикации

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

Номер: WO2016175627A1
Автор: PARK, Jeong Min, LEE, Jung-Soo, KIM, Ji-Hyun, PARK, Jun Hong, KIM, Byung-Uk, YOUN, Hyoc-Min, YEO, Tai-Hoon, KIM, Dong-Myung, KIM, Jin-Sun
Принадлежит:

A positive type photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention contains: a) a copolymer represented by chemical formula 1 below; b-1) an oxime-based photoacid generator; b-2) a triazine-based photoacid generator; c) an organic base; and d) a solvent. In chemical formula 1 above, R1 is any one of acetals and ketals, and x + y + z = 1.

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Номер записи: 2
23-03-2018 дата публикации

전자종이 격벽형성용 조성물

Номер: KR0101841665B1
Автор: 윤주표, 김병욱, 윤혁민, 구기혁, 여태훈, 신홍대, 이상훈, 김동명, 최상각, 최수연, 김진선
Принадлежит: 주식회사 동진쎄미켐

... 본 발명은 전자종이 격벽형성용 조성물에 관한 것으로, 특히 a) 알칼리 가용성 노볼락 수지; b) 광산 발생제; c) 가교 결합제; 및 d) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자종이 격벽형성용 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 전자종이 격벽형성용 조성물은 절연성, 내화학성, 내열성, 접착력이 우수하며, 감도 및 해상도가 뛰어나고, 버티컬 패턴 형성이 가능하여 20 um 이상의 전자종이 격벽을 형성하는데 특히 적합하다.

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Номер записи: 3
15-11-2022 дата публикации

광경화성 조성물, 이의 경화물, 및 이를 포함하는 표시장치

Номер: KR20220151562A
Автор: 이상훈, 윤혁민, 여태훈, 박종혁, 이재영, 김자영
Принадлежит:

... 본 발명은 광경화성 조성물, 이의 경화물, 이를 포함하는 광학 부재 및 표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 불소를 포함하는 제1 올레핀계 단량체, 25℃에서 절대점도가 7cP 이하인 제2 올레핀계 단량체, 광중합 개시제 및 아민 화합물을 포함하여, 우수한 저굴절률, 광투과성, 낮은 헤이즈 특성을 가진 광경화성 조성물, 이의 경화물, 이를 포함하는 광학 부재 및 표시장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 4
28-02-2023 дата публикации

감광성 수지 조성물 및 표시 소자

Номер: KR20230027438A
Автор: 윤혁민, 여태훈, 이상훈, 장재용, 황치용
Принадлежит:

... 본 발명은 우수한 광학 밀도 및 내광성을 가지면서도, 향상된 투과도, 광반응성 및 감도를 나타냄에 따라, 유기 전계 발광 소자 등 각종 표시 소자의 화소 분할층 패턴을 형성하는데 바람직하게 적용 가능한 감광성 수지 조성물과, 이를 사용하여 제조된 표시 소자에 관한 것이다.

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Номер записи: 5
13-02-2023 дата публикации

감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치

Номер: KR20230020836A
Автор: 윤혁민, 여태훈, 김동명, 이선희, 박아름, 장근석, 오누리, 송인호, 이석현
Принадлежит:

... 본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리아믹산, 폴리아믹에스터 및 폴리이미드를 포함하는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 구조를 포함하는 알칼리 가용성 수지, 2종 이상의 열가교성 화합물, 감광제 및 용매를 포함하여, 감도, 잔막율, 접착성, 내화학성, 및 내열성이 우수한 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 6
28-02-2023 дата публикации

감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치

Номер: KR20230028187A
Автор: 윤혁민, 여태훈, 김동명, 이선희, 박아름, 이석현, 오누리, 송인호, 장근석
Принадлежит:

... 본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 특정 구조를 가진 치환기를 포함하는 에스테르화된 퀴논디아지드 화합물, 폴리아믹산, 폴리아믹에스터 및 폴리이미드를 포함하는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 구조를 포함하는 알칼리 가용성 고분자수지 및 용매를 포함하여, 감도, 내화학성, 일광내성 및 구동신뢰성이 우수한 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 7
05-05-2011 дата публикации

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: WO2011052925A3
Автор: YUN, Joo-Pyo, KIM, Byung-Uk, YOUN, Hyoc-Min, KOO, Ki-Hyuk, YEO, Tae-Hoon, SHIN, Hong-Dae, LEE, Sang-Hoon, KIM, Dong-Myung, CHOI, Su-Youn, KIM, Jin-Sun, WOO, Chang-Min, KIM, Hong-Suk
Принадлежит:

The present invention relates to a photosensitive resin composition. More specifically, the present invention relates to a positive photosensitive resin composition for the formation of an organic interlayer dielectric layer, wherein the photosensitive resin composition comprises one or more kinds of compounds selected from the group consisting of a) a UV stabilizer, b) a radical scavenger, and c) an antioxidant. The photosensitive resin composition of the present invention is used as an organic interlayer dielectric layer of TFT-LCDs to be able to improve problems of the leaning phenomenon of liquid crystals in case of overexposure in a process for photoalignment of liquid crystals and to easily control resolution of patterns, and is particularly suitable for the formation of a flattened organic interlayer dielectric layer.

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Номер записи: 8
09-02-2012 дата публикации

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: WO2012018181A3
Автор: YEO, Tae-Hoon, KIM, Byung-Uk, YOUN, Hyoc-Min, KOO, Ki-Hyuk, YUN, Joo-Pyo, KIM, Dong-Myung, SHIN, Hong-Dae, KIM, Jin-Sun, LEE, Sang-Hoon, WOO, Chang-Min
Принадлежит:

The present invention relates to a negative photosensitive resin composition which is sensitive to long wavelength ultraviolet rays, and more specifically, to a negative photosensitive resin composition comprising: a) one or a mixture of copolymers selected from i) an acrylic copolymer, ii) a polyimide-based copolymer, and iii) a siloxane-based copolymer; b) a photoinitiator; and c) an acridine-based photosensitizer having a specific structure. According to the present invention, the negative photosensitive resin composition has excellent resolution, transmittance, thermochromism resistance, adhesive force and the like, particularly, has excellent sensitivity at long wavelength ultraviolet rays of 405-435 nm, and thus is appropriate for use in an exposure device for the exclusive use of GH-line or a next generation digital exposure device.

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Номер записи: 9
01-12-2017 дата публикации

감광성 수지 조성물

Номер: KR0101803957B1
Автор: 윤혁민, 김병욱, 구기혁, 여태훈, 윤주표, 신홍대, 이상훈, 김동명, 최수연, 김진선, 우창민, 김홍석
Принадлежит: 주식회사 동진쎄미켐

... 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 TFT-LCD용 층간 유기절연막 형성을 위한 감광성 수지 조성물에 있어서, UV 안정화제 또는 라디칼 스캐빈저를 0.01 내지 20 중량% 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 TFT-LCD의 층간 유기절연막 형성에 사용되어 광배향용 액정 공정에서 과노광 진행시 액정밀림현상을 개선할 수 있을 뿐만 아니라 패턴의 해상도 조절이 용이하며, 층간 유기 절연막의 평탄화막 형성에 특히 적합하다.

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Номер записи: 10
09-04-2024 дата публикации

포지티브형 감광성 수지 조성물

Номер: KR102655952B1
Автор: 이상훈, 윤혁민, 여태훈, 박종혁
Принадлежит: 주식회사 동진쎄미켐

... 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다. 포지티브형 감광성 조성물은 a) ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅱ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체 b) 하기 화학식 1로 표시되는 공중합체 c) 1,2-퀴논디아지드 화합물 d) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물: [화학식 1] 화학식 1에서, a, b, c는 각 모노머 간의 몰비(mole ratio)를 나타내는 것으로, a는 1 내지 10이고, b, c는 각각 0 내지 9이며, a+b+c=10 이다. n은 1 내지 10이며, R은 H 또는 CH3 이다.

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Номер записи: 11
20-06-2013 дата публикации

PHOTORESIST COMPOSITION

Номер: WO2013089403A1
Автор: YOUN, Hyoc-Min, YEO, Tae-Hoon, LEE, Sang-Hoon, KIM, Jin-Sun, YUN, Joo-Pyo, KIM, Dong-Myung, KIM, Jin-Woo, PARK, Kyoung-Jin, LEE, Sun-Hee, HWANG, Chi-Yong
Принадлежит:

The present invention relates to a photoresist composition, and more particularly, to a photoresist composition for forming a fine pattern for a substrate including a process for forming a halftone on a silicon nitride (SiNx) layer of the substrate. The photoresist composition of the present invention has excellent stability at room temperature, has little discoloration for good permeability, and has good adhesion of the silicon nitride layer so that even when an HMDS process is omitted, there is no possibility of the layer being washed away during the forming process of a fine pattern or of the pattern deteriorating in subsequent processes.

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Номер записи: 12
04-05-2015 дата публикации

METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE USING SAME

Номер: KR1020150047403A
Автор: SHIM, SEUNG BO, JUNG, YANG HO, JU, JIN HO, KONG, HYANG SHIK, PARK, JUN HONG, KIM, NAM YI, KIM, BYUNG UK, YEO, TAI HOON, YOUN, HYOC MIN, LEE, SANG HOON
Принадлежит:

A method for manufacturing a display substrate according to one embodiment of the present invention includes the steps of: forming a plurality of signal lines on a base substrate; forming an organic layer which is made of a photosensitive resin composition including a high boiling point glycolic solvent on the signal lines; forming a planarization layer by drying the organic layer; and forming a first electrode on the planarization layer. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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Номер записи: 13
29-07-2015 дата публикации

PHOTORESIST COMPOSITION

Номер: KR1020150086685A
Автор: CHUN, JUN, PARK, JEONG MIN, PARK, SUNG KYUN, KIM, JI HYUN, JU, JIN HO, YOUN, HYOC MIN, KIM, DONG MYUNG, KIM, JIN SUN, YEO, TAI HOON, KIM, BYUNG UK
Принадлежит:

According to an embodiment of the present invention, a photoresist composition includes: acid-reactive polymer which can be decomposed by a reaction with acids; photo-acid generator; 9 pKa or below 9 pKa of organic base; and solvent. COPYRIGHT KIPO 2015 (AA) Example 4 (BB) Comparative example 1 ...

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Номер записи: 14
04-07-2013 дата публикации

POLYIMIDE-BASED POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR AMOLED

Номер: WO2013100537A1
Автор: YOUN, Hyoc-Min, YEO, Tae-Hoon, LEE, Sang-Hoon, KIM, Jin-Sun, YUN, Joo-Pyo, KIM, Dong-Myung, KIM, Jin-Woo, PARK, Kyoung-Jin, LEE, Sun-Hee, HWANG, Chi-Yong, KIM, Byung-Uk
Принадлежит:

The present invention relates to a polyimide-based positive photosensitive resin composition for an active-matrix organic light-emitting diode (AMOLED), and more specifically, to a polyimide-based positive photosensitive resin composition which uses a monomer having a rigid side chain, thereby enabling control of outgassing, and maintaining a taper angle to be 30-35 degrees by lowering a packing density while also maintaing heat resistance.

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Номер записи: 15
26-02-2016 дата публикации

PHOTORESIST RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS BY USING THE SAME

Номер: KR0101597767B1
Автор: 윤상현, 박정인, 이희국, 김병욱, 윤혁민, 구기혁, 여태훈, 최수연, 김진선
Принадлежит: 삼성디스플레이 주식회사, 주식회사 동진쎄미켐

... 본 발명의 한 실시예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 감광성 화합물, (B) 가교제, (C) 알칼리 가용성 수지, 그리고 (D) 용매를 포함한다. 또한 (E) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 더 포함할 수 있다. 이에 따라 노광시 감도를 높이며, 감광막 패턴의 프로파일을 용이하게 조절할 수 있다.

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Номер записи: 16
17-06-2010 дата публикации

POSITIVE PHOTOSENSITIVE ORGANIC-INORGANIC HYBRID INSULATOR COMPOSITION

Номер: KR2010068027A2
Автор: KIM, Byung-Uk, YOON, Hyoc-Min, KIM, Dong-Myung, KOO, Ki-Hyuk, YEO, Tae-Hoon, YUN, Joo-Pyo, SHIN, Hong-Dae, CHOI, Su-Youn, KIM, Jin-Sun, LEE, Sang-Hoon
Принадлежит:

The present invention relates to a positive photosensitive organic-inorganic hybrid insulator composition that comprises: i) a reactive silane containing 1-3 phenyl groups represented by chemical formula (1); and ii) a siloxane oligomer compound that is obtained by hydrolysis and condensation polymerization of a silane monomer of a tetra-functional silane represented by chemical formula (2) under a catalyst and has the average molecular weight (converted to polystyrene) of 1,000-2,0000. The positive photosensitive organic-inorganic hybrid insulator composition according to the present invention simplifies the process and reduces costs by forming a double structure of existing SiNx Passivation/acrylic photo-sensitive organic insulator into a mono-layer, improves sensitivity, resolution, process margin, transparency, and anti-thermochromism, reduces electric power consumption by obtaining an insulator having a low dielectric constant, and removes an afterimage, crosstalk, and a shift phenomenon ...

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Номер записи: 17
19-09-2018 дата публикации

POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: KR1020180103405A
Автор: LEE, SANG HOON, YOUN, HYOC MIN, YEO, TAI HOON, HWANG, CHI YONG
Принадлежит:

An objective of the present invention is to provide a photosensitive resin composition which is suitable for forming an interlayer insulating film, a pixel defining layer (PDL), a column spacer or the like of an LCD or OLED manufacturing process by having excellent resolution, curing process margin, heat-resistant discoloration, and heat resistance, particularly having excellent sensitivity and transparency, and remarkably improving adhesive strength. The present invention relates to a positive-type photosensitive resin composition, and more specifically, to a positive-type photosensitive resin composition comprising: a) a 1,2-quinone diazide compound of chemical formula 1 or 2; b) an acrylic copolymer; c) a silane coupling agent; and d) a solvent. R_1 of chemical formula 1 and R_3 of chemical formula 2 are each independently a hydrogen atom or a 1,2-quinone diazide-based sulfonic acid ester, R_2 of chemical formula 1 and R_4 of chemical formula 2 each independently represent a hydrogen ...

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Номер записи: 18
21-07-2016 дата публикации

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE RESIN COMPOSITION

Номер: KR1020160087092A
Автор: YEO, TAE HOON, KIM, BYUNG UK, YOUN, HYOC MIN, LEE, SANG HOON, HWANG, CHI YONG, BYEON, JEONG HYEON, LEE, KI CHAN, PARK, HYUN KYUNG, JEON, SEUNG HAN
Принадлежит:

The present invention relates to a positive type photosensitive siloxane resin composition and, more specifically, to a positive type photosensitive siloxane resin composition containing: i) a reactive silane represented by chemical formula 1, (R_1)_nSi(R_2)_(4-n); and ii) a siloxane-based copolymer obtained by performing hydrolysis and condensation polymerization of tetrachlorosilane under a catalyst and removing unreacted monomers and the catalyst, wherein the siloxane-based copolymer has a polystyrene-converted weight average molecular weight (Mw) of 1,000-20,000. The positive type photosensitive siloxane resin composition according to the present invention has excellent performances such as sensitivity, resolution, adhesive strength, permeability, heat-resistant discoloration, and the like, allows low outgassing through excellent heat resistance, and maintains a low moisture absorption rate, thereby ensuring excellent panel reliability. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 19
29-12-2020 дата публикации

METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD OFMANUFACTURING DISPLAY APPARATUS USING THE SAME

Номер: KR102194981B1
Автор: 심승보, 정양호, 주진호, 공향식, 박준홍, 김남이, 김병욱, 여태훈, 윤혁민, 이상훈
Принадлежит: 삼성디스플레이 주식회사, 주식회사 동진쎄미켐

... 본 발명의 일 실시예에 따른 표시기판 제조방법은 베이스 기판 상에 복수 개의 신호배선들을 형성하는 단계, 상기 신호배선들 상에 고비점 글리콜계 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물로 구성된 유기층을 형성하는 단계, 상기 유기층을 건조시켜 평탄화층을 형성하는 단계, 및 상기 평탄화층 상에 제1 전극을 형성하는 단계를 포함한다.

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Номер записи: 20
17-06-2010 дата публикации

POSITIVE PHOTOSENSITIVE ORGANIC-INORGANIC HYBRID INSULATOR COMPOSITION

Номер: WO2010068027A3
Автор: KIM, Byung-Uk, YOON, Hyoc-Min, KIM, Dong-Myung, KOO, Ki-Hyuk, YEO, Tae-Hoon, YUN, Joo-Pyo, SHIN, Hong-Dae, CHOI, Su-Youn, KIM, Jin-Sun, LEE, Sang-Hoon
Принадлежит:

The present invention relates to a positive photosensitive organic-inorganic hybrid insulator composition that comprises: i) a reactive silane containing 1-3 phenyl groups represented by chemical formula (1); and ii) a siloxane oligomer compound that is obtained by hydrolysis and condensation polymerization of a silane monomer of a tetra-functional silane represented by chemical formula (2) under a catalyst and has the average molecular weight (converted to polystyrene) of 1,000-2,0000. The positive photosensitive organic-inorganic hybrid insulator composition according to the present invention simplifies the process and reduces costs by forming a double structure of existing SiNx Passivation/acrylic photo-sensitive organic insulator into a mono-layer, improves sensitivity, resolution, process margin, transparency, and anti-thermochromism, reduces electric power consumption by obtaining an insulator having a low dielectric constant, and removes an afterimage, crosstalk, and a shift phenomenon ...

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Номер записи: 21
09-07-2020 дата публикации

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: WO2020141854A1
Автор: KIM, Dong Myung, YOUN, Hyoc Min, YEO, Tai Hoon, SHIN, Kyoung Soon, LEE, Gi Seon, HWANG, Hyun Min, PARK, Ah Rum
Принадлежит:

A positive photosensitive resin composition of the present invention comprises: a siloxane-based polymer obtained by polymerization of one or more reactive silanes; an olefin-based polymer comprising repeating units comprising one or more hydroxyphenyl groups or phenyl groups; a 1,2-quinone diazide compound; and a solvent. The positive photosensitive resin composition of the present invention has excellent performance in terms of sensitivity, thermochromic resistance, and the like, and in particular, has excellent heat resistance such that, when used in display panels, excellent panel reliability may be secured due to the improvement in cracks and heat resistance.

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Номер записи: 22
05-05-2011 дата публикации

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: KR2011052925A2
Автор: YUN, Joo-Pyo, KIM, Byung-Uk, YOUN, Hyoc-Min, KOO, Ki-Hyuk, YEO, Tae-Hoon, SHIN, Hong-Dae, LEE, Sang-Hoon, KIM, Dong-Myung, CHOI, Su-Youn, KIM, Jin-Sun, WOO, Chang-Min, KIM, Hong-Suk
Принадлежит:

The present invention relates to a photosensitive resin composition. More specifically, the present invention relates to a positive photosensitive resin composition for the formation of an organic interlayer dielectric layer, wherein the photosensitive resin composition comprises one or more kinds of compounds selected from the group consisting of a) a UV stabilizer, b) a radical scavenger, and c) an antioxidant. The photosensitive resin composition of the present invention is used as an organic interlayer dielectric layer of TFT-LCDs to be able to improve problems of the leaning phenomenon of liquid crystals in case of overexposure in a process for photoalignment of liquid crystals and to easily control resolution of patterns, and is particularly suitable for the formation of a flattened organic interlayer dielectric layer.

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Номер записи: 23
10-11-2016 дата публикации

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR DISPLAY DEVICE, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

Номер: KR1020160130046A
Автор: PARK, JEONG MIN, LEE, JUNG SOO, KIM, JI HYUN, PARK, JUN HONG, KIM, BYUNG UK, YOUN, HYOC MIN, YEO, TAI HOON, KIM, DONG MYUNG, KIM, JIN SUN
Принадлежит:

According to an embodiment of the present invention, a positive photosensitive resin composition comprises: a) a copolymer represented by chemical formula 1; b-1) an oxime-based photoacid generator; b-2) a triazine-based photoacid generator; c) an organic base; and d) a solvent. In chemical formula 1, R_1 is one from acetyl and ketal groups, and x+y+z=1. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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Номер записи: 24
23-01-2024 дата публикации

감광성 수지 조성물, 경화막 및 이를 포함하는 표시장치

Номер: KR20240009689A
Автор: 윤혁민, 여태훈, 김동명, 이선희, 장근석, 이석현, 오누리, 박아름
Принадлежит:

... 유연성 및 감도 성능이 동시에 개선되는 감광성 수지 조성물이 제공된다. 본 발명에 따른 일반식 1 및 2에서 R1 및 R2 중 적어도 어느 하나는, 상기 일반식 3으로 표시되는 분자구조를 포함한다.

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Номер записи: 25
12-04-2017 дата публикации

SHIP STRUCTURE

Номер: KR1020170039899A
Автор: KIM, JUN HEE, CHANG, BONG JUN, YEO, TAE HOON, CHUNG, SEOK HO
Принадлежит:

According to one embodiment of the present invention, a ship structure comprises: a piping unit perpendicularly provided on a deck to discharge exhaust gas; and a guide unit provided to a structure on the deck to be spaced from the piping unit to guide a flow of air in the direction of the piping unit in the structure to enable the exhaust gas to flow in the direction getting away from the structure. According to the present invention, the ship structure reduces a recirculation area to prevent the exhaust gas from being introduced to an intake unit and a cabin by the flow of the air to improve a work environment of crews. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 26
26-09-2022 дата публикации

포지티브형 감광성 수지 조성물, 절연막 및 이를 포함하는 표시장치

Номер: KR20220130042A
Автор: 여태훈, 윤혁민, 김동명, 이선희, 박아름, 장근석, 이석현, 오누리, 송인호
Принадлежит:

... 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 조성물, 절연막 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 하이드록실기를 포함하는 폴리머를 포함하여, 감도가 우수하고, 내화학성, 내열성, 및 흡습성이 우수한 포지티브 감광성 수지 조성물, 절연막 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 27
16-10-2014 дата публикации

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE ORGANIC-INORGANIC HYBRID INSULATING FILM COMPOSITION

Номер: WO2014168393A1
Автор: YEO, Tae-Hoon, YOUN, Hyoc-Min, LEE, Sang-Hoon, KIM, Jin-Sun, YUN, Joo-Pyo, KIM, Dong-Myung, HWANG, Chi-Yong, KIM, Nam Yi, BYEON, Jeong-Hyeon
Принадлежит:

The present invention relates to a negative type photosensitive organic-inorganic hybrid insulating film composition. The negative type photosensitive organic-inorganic hybrid insulating film composition according to the present invention can achieve process simplification and production cost reduction by forming an existing double structure having a SiNx passivation and an acryl-based photosensitive organic insulating film into one layer; can exhibit excellent capabilities in sensitivity, resolution, process margin, transparency, heat discoloration resistance, flatness, and the like; can lower the power consumption by enabling the formation of a low-dielectric insulating film; and can remove afterimage, crosstalk, and threshold voltage shift phenomena. Further, the composition according to the present invention enables low outgassing due to excellent heat resistance, thereby ensuring superior panel reliability, and thus can be usefully applied to a passivation insulating film, a gate insulating ...

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Номер записи: 28
03-08-2015 дата публикации

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE

Номер: KR1020150088478A
Автор: PARK, SUNG KYUN, PARK, JEONG MIN, LEE, JUNG SOO, KIM, JI HYUN, CHUN, JUN, CHO, KI HYUN, YOUN, HYOC MIN, YEO, TAI HOON, KIM, JIN SUN, KIM, BYUNG UK
Принадлежит:

A disclosed photoresist composition comprises, with respect to 100 parts by weight of an acrylic-copolymer: about 0.1 to 30 parts by weight of a photo-initiator; about 1 to 50 parts by weight of a first acrylate monomer having five or more functional groups; and about 1 to 50 parts by weight of a second acrylate monomer having four or less functional groups. The photoresist composition may prevent failures due to impurities generated by fumes or outgas by reducing fumes or outgas caused in a heating process such as a pre-baking process or a hard-baking process. In addition, when the photoresist composition is used for forming an organic insulation layer of a display panel or the like, a residue in a contact hole may be reduced, and a greenish effect caused by a near ultraviolet ray in the process of curing a sealant may be reduced. Moreover, the present invention may enhance an adhesive strength of a photoresist pattern, and form a photoresist layer having a high transmittance. COPYRIGHT ...

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26-01-2024 дата публикации

감광성 수지 조성물 및 표시장치

Номер: KR20240011853A
Автор: 심승보, 주진호, 박귀현, 박광우, 우준혁, 김병욱, 여태훈, 윤혁민, 이상훈, 황치용
Принадлежит:

... 본 발명의 일 실시예는 화학식 1 내지 6으로 표현되는 반복단위들 중 적어도 하나를 포함하는 아크릴계 공중합체, 퀴논디아지드계 술폰산 에스테르 화합물을 포함하는 감광성 화합물(photo active compound), 실란 커플링제 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.

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Номер записи: 30
23-11-2017 дата публикации

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE

Номер: KR1020170128678A
Автор: SHIM, SEUNG BO, JU, JIN HO, PARK, GWUI HYUN, PARK, KWANG WOO, WOO, JUN HYUK, KIM, BYUNG UK, YEO, TAI HOON, YOUN, HYOC MIN, LEE, SANG HOON, HWANG, CHI YONG
Принадлежит:

According to an embodiment, the present invention provides a photosensitive resin composition which comprises: an acrylic copolymer comprising at least one of repeating units represented by chemical formulas 1 to 6; a photoactive compound containing a quinone diazide-based sulfonic acid ester compound; a silane coupling agent; and a solvent. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 31
17-08-2022 дата публикации

포지티브형 감광성 수지 조성물

Номер: KR102433199B1
Автор: 이상훈, 윤혁민, 여태훈, 황치용
Принадлежит: 주식회사 동진쎄미켐

... 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 감광성 수지 조성물에 있어서, a) 하기 화학식 1 또는 2의 1,2-퀴논디아지드 화합물; b) 아크릴계 공중합체; c)실란 커플링제; 및 d)용매;를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물: [화학식 1] [화학식 2] 상기 화학식 1의 R1, 화학식 2의 R3는 각각 독립적으로 수소원자 또는 1,2-퀴논디아지드계 술폰산 에스테르이고 화학식 1의 R2, 화학식 2의 R4는 각각 독립적으로 수소원자 또는 탄소수 1 내지 20의 탄화수소기를 나타내며, 상기 R1, R3의 각각 적어도 하나는 1,2-퀴논디아지드계 술폰산 에스테르이다.

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Номер записи: 32
06-02-2024 дата публикации

경화막, 이를 형성하는 감광성 수지 조성물 및 표시장치

Номер: KR20240015965A
Автор: 윤혁민, 여태훈, 김동명, 이선희, 박아름, 장근석, 이석현, 오누리, 박기현, 강석민, 구자용
Принадлежит:

... 신규한 파라미터를 도출하여 소자의 신뢰성을 개선하는 경화막이 제공된다. 본 발명의 일 실시예는 감광성 수지 조성물로 제조된 경화막으로, 상기 감광성 수지 조성물은, 알칼리 가용성 수지 및 광활성 화합물(photoactive compound; PAC)을 포함하고, 퍼지앤트랩(Purge & Trap) 분석법으로 측정된 상기 경화막에서, 전체 아웃가스(outgas) 중 페놀계 가스의 함량이 30%(v/v) 이하인, 경화막을 제공한다.

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25-05-2018 дата публикации

HIGH RESOLUTION POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

Номер: KR1020180055340A
Автор: KIM, DONG MYUNG, YOUN, HYOC MIN, YEO, TAI HOON, KIM, SUN HYUNG
Принадлежит:

The present invention relates to a high resolution positive photosensitive resin composition. More specifically, the present invention relates to a positive photosensitive resin composition which can be applied to devices accompanied with processes of wet-etching a display, a semiconductor, an MEMS, an E-paper or the like and is particularly suitably used in a large area high resolution display such as a TFT-LCD, an OLED or an O-TFT since the positive photosensitive resin composition is excellent in sensitivity, resolution, pattern profile, PED margin and the like, is excellent in heat resistance and repulsive force with respect to penetration of an etchant particularly due to a lipophilic bulky chromophore structure of the composition, and has excellent wet etching adhesive force, heat resistance and distribution by applying, to the composition, a photoacid generator facilitating control of acid diffusion rate due to an acid structure including a long alkyl chain. The positive photosensitive ...

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14-07-2016 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치

Номер: KR1020160084556A
Автор: 심승보, 김정원, 우준혁, 주진호, 박광우, 김병욱, 여태훈, 윤혁민, 이상훈
Принадлежит:

... 본 발명의 일 실시예에 따른 포지티브형 감광성 실록산 수지 조성물은 a) ⅰ) 하기 화학식 1로 표시되는 반응성 실란 1종 이상, 및 ⅱ) 하기 화학식 2로 표시되는 4관능 반응성 실란 1종 이상을 촉매 하에 가수 분해 및 축합 중합하여 얻어진 폴리스티렌 환산중량평균분자량(Mw)이 1,000 내지 20,000인 실록산계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함한다. (R1)nSi(R2)4-n [화학식 1] Si(R3)4 [화학식 2] 상기 R1은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지10의 알킬기, 탄소수 6 내지15의 아릴기중 어느 하나이며, 상기 R2는 탄소수 1 내지4의 알콕시기, 페녹시, 또는 아세톡시이며, 상기 R3는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 페녹시, 또는 아세톡시기중 어느 하나이며, n은 1 내지 3의 자연수이다.

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Номер записи: 35