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09-11-2022 дата публикации

보호막을 구비하는 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조방법

Номер: KR102465013B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... [과제] 보호막을 구비하는 박막 트랜지스터 기판으로서, 높은 구동 안정성을 부여할 수 있는 박막 트랜지스터 기판을 제공한다. [해결 수단] 박막 트랜지스터와, 박막 트랜지스터를 피복하는 실록산 조성물의 경화물로 이루어진 보호막을 포함하여 이루어진 박막 트랜지스터 기판으로서, 박막 트랜지스터가 산화물 반도체로 이루어진 반도체층을 갖고, 실록산 조성물이, 폴리실록산과, 불소 함유 화합물과, 용제를 함유하는 것을 특징으로 하는, 박막 트랜지스터 기판이다.

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29-07-2015 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 조성물

Номер: KR1020150087392A
Принадлежит:

... (I) 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 수용액에 대한 용해 속도가 다른 적어도 2종류 이상의 폴리실록산, (II) 프리베이크 후의 막의 2.38중량% TMAH 수용액에 대한 용해 속도가 50 내지 1000Å/초인 실란올 이외의 TMAH 수용액 가용성 기를 갖는 폴리실록산, (III) 디아조나프토퀴논 유도체, 및 (IV) 용제를 함유하는 포지티브형 감광성 실록산 조성물.

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02-12-2016 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 조성물

Номер: KR0101681919B1

... (I) 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 수용액에 대한 용해 속도가 다른 적어도 2종류 이상의 폴리실록산, (II) 프리베이크 후의 막의 2.38중량% TMAH 수용액에 대한 용해 속도가 50 내지 1000Å/초인 실란올 이외의 TMAH 수용액 가용성 기를 갖는 폴리실록산, (III) 디아조나프토퀴논 유도체, 및 (IV) 용제를 함유하는 포지티브형 감광성 실록산 조성물.

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22-11-2017 дата публикации

감광성 조성물 및 색 변환 필름

Номер: KR1020170128366A
Принадлежит:

... 본 발명은 적어도 하나의 나노사이즈 형광 재료 및 폴리실록산을 포함하는 감광성 조성물, 색 변환 필름, 그리고 광학 디바이스에서의 색 변환 필름의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 색 변환 필름을 포함하는 광학 디바이스 및 색 변환 필름 및 광학 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.

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26-08-2015 дата публикации

금속 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체 및 그의 제조 방법, 및 그 복합체를 사용하여 제조한 복합 재료

Номер: KR1020150097783A
Принадлежит:

... [과제] 경화 과정에서 금속 산화물의 응집 등이 일어나지 않고, 금속 산화물이 균일하게 분산된 고품질의 경화막을 형성시킬 수 있는, 금속 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체의 제공. [해결수단] 말단에 실라놀기를 갖는 실세스퀴옥산 중합체 또는 실란 단량체와, 표면에 수산기 또는 알콕시기를 갖는 금속 산화물 나노 입자를, 수성 용매 중, 상간 이동 촉매의 존재 하에 반응시키는, 금속 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체의 제조 방법, 및 그것에 의해 제조된 복합체.

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28-06-2017 дата публикации

실록산 수지 함유 도포 조성물

Номер: KR0101751714B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... [과제] 본 발명은 경시 열화에 의한 증점이 없고, 도포성이 뛰어난 도포 조성물과, 이를 이용한 경화막의 형성 방법을 제공한다. [해결 수단] 본 발명에 의하면, 실란올기 또는 알콕시실릴기를 갖는 실록산 수지와, 에테르 결합을 갖고 있어도 좋은, 탄소수 2 내지 5의 직쇄 탄화수소쇄의 양 말단에 수산기를 갖는 폴리올을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 도포 조성물이 제공된다. 이 도포 조성물을 이용함으로써, 투명성 및 절연성이 높고, 비유전율이 낮은 경화막을 형성시킬 수 있다.

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10-01-2018 дата публикации

광기능성 막 및 이의 제조방법

Номер: KR1020180004213A
Принадлежит:

... [과제] 광 반사가 적고, 투과율의 파장 의존성이 작은 광기능성 막, 및 이의의 제조방법의 제공. [해결 수단] 상기 광기능성 막의 한 표면 A의 광에 대한 굴절률(nA)이 반대측 표면 B의 광에 대한 굴절률(nB)보다 크고, 상기 표면 A로부터 상기 표면 B까지 광에 대한 굴절률이 점진적으로 감소하는, 광기능성 막. 상기 광기능성 막은 기판 상에 폴리실록산과 용매를 포함하는 2종류의 조성물을 사용하여 다층 코팅하고, 2개 층의 접촉 부분들을 상용화시킨 후, 이들을 가열하여 경화시킴으로써 제조될 수 있다.

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20-11-2017 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 조성물

Номер: KR0101799260B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... 화학식 1 로 표시되는 실란 화합물과 화학식 2 로 표시되는 실란 화합물 (상기 화학식 1 및 2에서, R은, 임의의 메틸렌이 산소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 직쇄상, 분기상 또는 환상 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 20으로 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 아릴기이고, R1은, 탄소수 1 내지 5의 알킬기이다)을 염기성 촉매의 존재하에서 가수분해·축합시켜 수득되고, 프리베이크 후의 막의 5중량% TMAH 수용액에 대한 용해도가 1,000Å/초 이하인 폴리실록산(Ia)와, 적어도 상기 화학식 1로 표시되는 실란 화합물을 산성 또는 염기성 촉매의 존재하에서 가수분해·축합시켜 수득되고, 프리베이크 후의 막의 2.38중량% TMAH 수용액에 대한 용해도가 100Å/초 이상인 폴리실록산(Ib), 디아조나프토퀴논 유도체 및 용제를 함유하는 포지티브형 감광성 실록산 조성물.

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26-10-2017 дата публикации

실록산 수지 조성물의 경화 피막 형성 방법

Номер: KR0101790493B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... [과제] 실록산 수지 조성물을 사용하고, 투명성이 우수하고, 높은 긁기 경도, 고절연성, 저유전율을 가지며, 또한 평탄성이 우수하고, 소성시의 막 감소가 없고, 두꺼운 막으로 해도 균열의 발생이 없고, 또한 기판 계면에서의 막 박리가 없고, 밀착성이 우수한 소성 경화막을 형성한다. [해결 수단] 실란올기 또는 알콕시실릴기 함유 실록산 수지 조성물을 기재에 도포하고, 프리베이크 처리한 후, 알칼리 수용액으로 처리한 후 린스, 소성을 실시함으로써, 실란올기 또는 알콕시실릴기 함유 실록산 수지 조성물의 소성 경화 피막을 형성한다. [선택도] 없음 ...

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11-06-2018 дата публикации

감광성 조성물 및 색 변환 필름

Номер: KR1020180063188A
Принадлежит:

... 본 발명은 감광성 조성물 및 색 변환 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 색 변환 필름 제조 공정에서 감광성 조성물의 용도 및 광학 디바이스에서의 색 변환 필름의 용도에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 색 변환 필름을 포함하는 광학 디바이스 및 그 색 변환 필름 및 광학 디바이스를 제조하는 방법에 관한 것이다.

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30-08-2017 дата публикации

감광성 실록산 수지 조성물

Номер: KR0101772856B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... [과제] 알칼리 가용성 및 감도가 우수한 감광성 실록산 수지 조성물과 그것을 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 실란올기 또는 알콕시실릴기를 갖는 실록산 수지와, 크라운에테르와, 감광제와, 유기 용제를 포함하여 이루어지는 감광성 실록산 수지 조성물. 상기 감광성 조성물을 기재 위에 도포하고, 상양(像樣) 노광하고, 알칼리 수용액으로 처리하고, 소성함으로써 패턴을 형성시킨다.

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23-01-2024 дата публикации

감광성 실록산 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법

Номер: KR102626990B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... [목적] 원하는 테이퍼 각도 및 원하는 선폭을 갖는 패턴을 형성할 수 있는 감광성 실록산 조성물의 제공. [수단] 본 발명은 화학식 (ia')로 표시되는 구조(여기서, L은 알킬렌 또는 페닐렌이다)를 갖는 폴리실록산, 광활성제, 및 용매를 포함하는 감광성 실록산 조성물을 제공한다. 화학식 (ia') ...

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10-08-2015 дата публикации

THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE HAVING PROTECTION LAYER, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME

Номер: KR1020150091265A
Принадлежит:

The present invention relates to a thin film transistor substrate having a protection layer with high driving stability. In a thin film transistor substrate which includes a thin film transistor, and a protection layer made of the hard material of a photoresist siloxane compound for covering the thin film transistor, the thin film transistor has a semiconductor layer made of oxide semiconductor. The photoresist siloxane compound contains at least two kinds of poly siloxane with different velocity of alkaline dissolution, photoresist, and solvent. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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11-10-2018 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 조성물

Номер: KR1020180112070A
Принадлежит:

... 벤젠과 같은 유해한 휘발성 물질을 방출하지 않고 고 해상도, 고 내열성 및 고 투명성의 패턴을 형성할 수 있으며, 패턴 형성시에 남아 있는 현상 잔사, 미용해된 잔사 또는 재부착된 난용물에 의해 야기되는 패턴 결함을 감소시킬 수 있으며, 추가로 저장 안정성이 탁월할 수 있는 포지티브형 감광성 실록산 조성물을 제공한다. 본 발명은 다음을 포함하는 포지티브형 감광성 실록산 조성물을 제공한다: 페닐 그룹을 갖는 폴리실록산, 디아조나프토퀴논 유도체, 특정 질소-함유 헤테로사이클릭 구조를 갖는 광 염기-발생제의 수화물 또는 용매화물, 및 유기 용매.

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18-01-2021 дата публикации

NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CURABLE AT LOW TEMPERATURE

Номер: KR102203303B1

... [과제] 저온 경화가 가능하며, 투명성, 내약품성이 높은 경화막을 수득할 수 있는 네거티브형 감광성 조성물, 및 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 폴리실록산, (메트)아크릴 중합체, (메트)아크릴로일기를 2개 이상 함유하는 화합물, 중합 개시제, 및 용제를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 네거티브형 감광성 조성물.

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02-09-2015 дата публикации

규소 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체 및 그의 제조 방법, 및 그 복합체를 사용하여 제조한 복합 재료

Номер: KR1020150100817A
Принадлежит:

... [과제] 저렴하게 저굴절률의 경화막을 형성시킬 수 있는, 규소 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체의 제공. [해결수단] 말단에 실라놀기를 갖는 실세스퀴옥산 중합체 또는 실란 단량체와, 표면에 수산기 또는 알콕시기를 갖는 규소 산화물 나노 입자를, 수성 용매와 유기성 용매의 혼합 용매 중, 상간 이동 촉매의 존재 하에 반응시키는 규소 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체의 제조 방법, 및 그것에 의해 제조된 복합체.

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01-10-2018 дата публикации

포지티브형 감광성 실록산 조성물

Номер: KR0101902164B1
Принадлежит: 메르크 파텐트 게엠베하

... 화학식 1로 표시되는 실란 화합물을 가수분해·축합시켜서 수득되는, (A) 프리베이크 후의 막이 5중량% TMAH 수용액에 가용이며, 그 용해 속도가 1,000Å/초 이하인 폴리실록산, (B) 프리베이크 후의 막의 2.38중량% TMAH 수용액에 대한 용해 속도가 4,000Å/초 이상인 폴리실록산, (C) 프리베이크 후의 막의 2.38중량% TMAH 수용액에 대한 용해 속도가 20OÅ/초 이상, 3,000Å/초 이하인 폴리실록산의 3종류의 폴리실록산을 각각 적어도 1종, 디아조나프토퀴논 유도체, 및 용제를 함유하는 포지티브형 감광성 실록산 조성물. 화학식 1 상기 화학식 1에서, R1은 임의의 메틸렌이 산소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 직쇄상, 분기상 또는 환상 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 20이고 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 아릴기를 나타내고, n은 0 또는 1이고, R2는 탄소수 1 내지 5의 알킬기를 나타낸다.

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