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14-06-2017 дата публикации

METHOD FOR PREPARING HYDROGEN PLASMA ANNEALING TREATMENT, METHOD FOR TREATING HYDROGEN PLASMA ANNEALING, AND HYDROGEN PLASMA ANNEALING APPARATUS

Номер: KR1020170066081A
Автор: KANG, SUNG HO, KIM, KI CHUL, KIM, UN KI, MOON, PYUNG, LEE, SUN YOUNG, LEE, YONG HUN
Принадлежит:

The present invention relates to a method for preparing hydrogen plasma annealing treatment, a method for treating hydrogen plasma annealing, and a hydrogen plasma annealing apparatus. The present invention provides a method which includes a step of passivating the surfaces of insulating components inside a reaction chamber as pre-stage of hydrogen plasma treatment. At this time, the passivation step may include a step of introducing a nitrogen-based process gas into a reaction chamber; and a step of exciting the nitrogen-based process gas inside the reaction chamber by using a plasma generating device. The present invention has the effect of protecting insulating components and significantly reducing the particle contamination of the substrate. COPYRIGHT KIPO 2017 (AA) Start (BB) End (S1) Passivating the surfaces of insulating components inside a reaction chamber (S2) Hydrogen plasma annealing of the substrate (HPA) ...

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Номер записи: 1
28-02-2023 дата публикации

수소 플라스마 어닐링 처리 준비 방법, 수소 플라스마 어닐링 처리 방법, 및 수소 플라스마 어닐링 장치

Номер: KR102504290B1
Автор: 강성호, 김기철, 김언기, 문평, 이선영, 이용훈
Принадлежит: 삼성전자 주식회사

... 본 발명은 수소 플라스마 어닐링 처리 준비 방법, 수소 플라스마 어닐링 처리 방법, 및 수소 플라스마 어닐링 장치에 관한 것으로서, 수소 플라스마 처리의 전단계로서 반응 챔버 내부의 절연성 부품들의 표면을 패시베이션시키는 단계를 포함하는 방법을 제공한다. 이 때, 상기 패시베이션시키는 단계는, 상기 반응 챔버 내부로 질소계 처리 가스를 도입하는 단계; 및 플라스마 발생 장치를 이용하여 상기 반응 챔버 내부의 상기 질소계 처리 가스를 여기시키는 단계를 포함한다. 본 발명은 절연성 부품들을 보호하고 기판의 파티클 오염을 현저히 줄일 수 있는 효과가 있다.

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Номер записи: 2
06-01-2023 дата публикации

지면과 벽을 주행할 수 있는 다목적 차량

Номер: KR102486418B1
Автор: 장동영, 김승호, 김언기, 조준혁, 이다희, 박성재, 류지현
Принадлежит: 서울과학기술대학교 산학협력단

... 본 발명은 지면과 벽을 주행할 수 있는 다목적 차량에 관한 것으로, 차체 프레임; 상기 차체 프레임에 결합되어 차체 프레임이 주행할 수 있도록 마련되는 복수의 바퀴부 및 상기 차체 프레임에 결합되며 풍력의 방향과 세기를 조절하여 상기 바퀴부의 주행 동력을 발생시키고 주행 위치에 따른 차체 프레임의 자세를 유지하는 풍력조절부를 포함하여 구성될 수 있다.

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Номер записи: 3
17-03-2023 дата публикации

멀티 브릿지 채널 전계 효과 트랜지스터 및 그 제조 방법

Номер: KR20230037989A
Автор: 김창현, 김언기, 정아름, 변경은
Принадлежит:

... 멀티 브릿지 채널 전계 효과 트랜지스터는 기판, 기판 상에서 제공되는 제1 소스/드레인 패턴, 기판 상에서 제1 소스/드레인 패턴으로부터 제1 방향을 따라 이격되는 제2 소스/드레인 패턴, 제1 소스/드레인 패턴 및 제2 소스/드레인 패턴 사이에 제공되는 제1 채널층 및 제2 채널층, 제1 채널층과 제1 소스/드레인 패턴 사이에 제공되는 제1 그래핀 배리어, 제1 채널층을 둘러싸는 게이트 절연막, 및 게이트 절연막을 사이에 두고 상기 제1 채널층을 둘러싸는 게이트 전극을 포함한다.

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Номер записи: 4
14-06-2017 дата публикации

BAFFLE PLATE, PLASMA CHAMBER USING SAME, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE

Номер: KR1020170066080A
Автор: KANG, SUNG HO, KIM, KI CHUL, KIM, UN KI, MOON, PYUNG, LEE, JAE HYUN, LEE, HAN KI
Принадлежит:

The present invention relates to a baffle plate, a plasma chamber, and a method of processing a substrate and, more specifically, provides a plasma chamber which comprises: a susceptor in which a substrate can be mounted; and a chamber housing surrounding the susceptor and defining a reaction space. The plasma chamber may comprise a baffle plate annularly surrounding the surroundings of the susceptor. The baffle plate includes a first layer that includes a conductive material and a second layer that includes a non-conductive material, and the second layer is closer to the reaction space than the first layer. According to the present invention, with the baffle plate, arc occurrence is prevented or is significantly reduced to reduce particle pollution. Moreover, higher power can be applied. COPYRIGHT KIPO 2017 ...

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Номер записи: 5
22-01-2018 дата публикации

PLASMA MONITORING APPARATUS

Номер: KR1020180007027A
Автор: MOON, PYUNG, KANG, SUNG HO, KIM, KI CHUL, KIM, UN KI, SONG, YONG SEOK, LEE, YONG HUN, LEE, JAE HEE, PARK, HANG MOOK, OH, JE HOON
Принадлежит:

The present invention relates to a plasma monitoring apparatus capable of reducing measurement error and deviation. According to one embodiment of the present invention, the plasma monitoring apparatus comprises: a fixation unit coupled to a side wall to be in contact with an observation window disposed on the side wall of a reaction chamber having a reaction space where plasma is formed; a plasma measurement unit disposed by coming in contact with the rear end of the fixation unit and measuring the quantity of emitted light of the plasma displayed through the observation window to output a light quantity measurement value; a reference light source unit to emit reference light of a uniform light quantity to the plasma measurement unit at a predetermined time interval; and a control unit receiving the light quantity measurement value to calculate the light quantity value of the emitted light, controlling the voltage applied to the reference light source unit to uniformly adjust the light ...

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Номер записи: 6