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28-01-2021 дата публикации

패턴 형성 방법, 가공 기판의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품의 제조 방법, 임프린트 몰드의 제조 방법

Номер: KR102208728B1
Принадлежит: 캐논 가부시끼가이샤

... 중합성 화합물인 성분 (a1) 및 계면활성제인 성분 (c1)을 포함하는 경화성 조성물 (A1)의 층을 기판의 표면에 적층하고, 상기 경화성 조성물 (A1)의 층 상에, 적어도 중합성 화합물인 성분 (a2) 및 계면활성제인 성분 (c2)을 포함하는 경화성 조성물 (A2)의 액적을 이산적으로 적하하고, 패턴을 갖는 몰드와 상기 기판 사이에 상기 경화성 조성물 (A1) 및 상기 경화성 조성물 (A2)의 혼합층을 샌드위치하고, 상기 혼합층을 광을 조사함으로써 경화시켜, 상기 몰드를 경화 후의 상기 혼합층으로부터 분리함으로써, 상기 기판 상에 패턴을 형성하는 방법이다. 상기 경화성 조성물 (A1)은 상기 계면활성제인 성분 (c1)을 적어도 0.5중량% 이상 함유하고, 상기 경화성 조성물 (A2)은 상기 계면활성제인 성분 (c2)을 적어도 0.5중량% 이상 함유한다.

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28-05-2018 дата публикации

나노임프린트 리소그래피 프로세스에서 정전하를 방전시키기 위한 시스템 및 방법

Номер: KR1020180056422A
Принадлежит:

... 임프린트 리소그래피 템플릿 및/또는 기판의 작업 표면에 축적된 정전하를 방전시키기 위해서 알파 이온화 장치를 사용하는 장치, 시스템 및 방법.

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26-11-2018 дата публикации

패턴 형성 방법, 가공 기판의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품의 제조 방법, 임프린트 몰드의 제조 방법

Номер: KR1020180126030A
Принадлежит:

... 중합성 화합물인 성분 (a1) 및 계면활성제인 성분 (c1)을 포함하는 경화성 조성물 (A1)의 층을 기판의 표면에 적층하고, 상기 경화성 조성물 (A1)의 층 상에, 적어도 중합성 화합물인 성분 (a2) 및 계면활성제인 성분 (c2)을 포함하는 경화성 조성물 (A2)의 액적을 이산적으로 적하하고, 패턴을 갖는 몰드와 상기 기판 사이에 상기 경화성 조성물 (A1) 및 상기 경화성 조성물 (A2)의 혼합층을 샌드위치하고, 상기 혼합층을 광을 조사함으로써 경화시켜, 상기 몰드를 경화 후의 상기 혼합층으로부터 분리함으로써, 상기 기판 상에 패턴을 형성하는 방법이다. 상기 경화성 조성물 (A1)은 상기 계면활성제인 성분 (c1)을 적어도 0.5중량% 이상 함유하고, 상기 경화성 조성물 (A2)은 상기 계면활성제인 성분 (c2)을 적어도 0.5중량% 이상 함유한다.

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