20-08-2006 дата публикации
Номер: SU1840204A1
Принадлежит:
Изобретение относится к микроэлектронике и может найти широкое применение в технологии полупроводниковых приборов, в частности МДП-приборов на полупроводниках типа АIIIВV. Сущность: способ осуществляется путем анодного окисления полупроводниковой пластины, погруженной в электролит. При этом полупроводниковую пластину погружают последовательно в два электролита, первый их которых характеризуется величиной вводимого в пленку заряда на 0,5 -10 В меньше заданной, а второй - на 0,5-10 В больше заданной. Для МДП-структур на основе InSb в качестве первого электролита используют электролит состава, вес.%: аммоний надсернокислый 1-3, глицерин 30-70, диметилформамид - остальное. Анодное окисление проводят в квазивольтстатическом режиме, а в качестве второго электролита используют электролит состава, вес.%: кислота пирофосфорная 0,3-3,0, углерод четыреххлористый 5-15, ацетонитрил - остальное. Технический результат: получение диэлектрических пленок с заданным по величине и знаку встроенным зарядом.
Подробнее