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30-09-2022 дата публикации

천공 장치를 이용한 세라믹 기판 천공 방법

Номер: KR102448182B1
Автор: 김건수, 조일수
Принадлежит: (주) 대명테크놀러지

... 본 발명은 높이 방향으로 연장되는 연결 하우징과, 바닥면에 위치하는 상기 연결 하우징의 일단에서 너비 방향으로 연장되는 하부 하우징과, 상기 연결 하우징의 타단에서 상기 하부 하우징과 대면하도록 연장되는 상부 하우징을 구비하는 본체 하우징에 설치되는 제어 유닛이 천공 개시 정보의 입력 여부를 판단하는 단계; 상기 천공 개시 정보가 입력되는 경우, 제어 유닛이 상기 하부 하우징 상에 설치되며 내부 공간인 제1 흡입 공간을 형성하는 지지 유닛의 상기 제1 흡입 공간과 연통되도록 상기 하부 하우징에 설치되는 흡입 유닛을 구동하여 상기 제1 흡입 공간에 대한 흡입 구동을 실시하도록 제어하는 단계; 및 상기 제어 유닛이 상기 상부 하우징에 설치되어 압축 기체를 분사하도록 형성되는 압축 분사 유닛을 통해, 상기 지지 유닛 상에 배치되어 세라믹 기판을 고정하도록 형성되고 일면 및 타면을 관통하는 복수의 천공홀 구비하는 가이드 유닛의 상기 천공홀을 향해 상기 압축 기체를 분사하도록 제어하는 단계;를 포함하는, 천공 장치를 이용한 세라믹 기판 천공 방법에 관한 것이다.

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Номер записи: 1
28-12-2020 дата публикации

MODULE FOR LOCATING OBJECT FOR SPINNING PROCESSING AT RIGHT POSITION

Номер: KR102195819B1
Автор: 김건수, 조일수
Принадлежит: (주) 대명테크놀러지

... 본 발명은, 대상물에 대한 스피닝 작업을 수행하는 롤링 유닛의 작업 영역에 대응하는 높이에 위치하고, 상기 대상물이 접촉하여 정위치하게 하는 기준면을 제공하는 기준 샤프트; 상기 기준 샤프트를 상기 롤링 유닛의 작업 영역으로 향해 전진시키거나 그 반대로 후퇴시키도록 구성되는 진퇴구동 유닛; 상기 진퇴구동 유닛에 대해 작용하여, 상기 진퇴구동 유닛의 진퇴 위치를 제한하도록 구성되는 위치제한 유닛; 및 상기 진퇴구동 유닛 및 상기 위치제한 유닛에 연결되어, 상기 기준 샤프트 및 상기 위치제한 유닛의 작동을 제어하는 제어 유닛을 포함하는, 스피닝 가공을 위한 대상물 정위치설정 모듈을 제공한다.

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Номер записи: 2
30-09-2022 дата публикации

반도체용 세라믹 기판 천공 장치

Номер: KR102448183B1
Автор: 김건수, 조일수
Принадлежит: (주) 대명테크놀러지

... 본 발명은 높이 방향으로 연장되는 연결 하우징과, 바닥면에 위치하는 상기 연결 하우징의 일단에서 너비 방향으로 연장되는 하부 하우징과, 상기 연결 하우징의 타단에서 상기 하부 하우징과 대면하도록 연장되는 상부 하우징을 구비하는 본체 하우징; 상기 하부 하우징 상에 설치되며 내부 공간인 제1 흡입 공간을 형성하는 지지 유닛; 상기 지지 유닛 상에 배치되어 세라믹 기판을 고정하도록 형성되고, 일면 및 타면을 관통하는 복수의 천공홀을 구비하는 가이드 유닛; 상기 상부 하우징에 설치되어 상기 천공홀을 향해 압축 기체를 분사하도록 형성되는 압축 분사 유닛; 상기 제1 흡입 공간과 연통되도록 상기 하부 하우징에 설치되어, 상기 제1 흡입 공간으로 유입되는 상기 세라믹 기판의 파티클을 흡입하도록 형성되는 흡입 유닛; 및 천공 개시 정보가 입력되는 경우, 이에 따라 상기 세라믹 기판에 대한 천공을 실시하도록 상기 압축 분사 유닛의 상기 압축 기체 분사 및 상기 흡입 유닛의 상기 파티클 흡입 구동을 제어하도록 형성되는 제어 유닛;을 포함하는, 반도체용 세라믹 기판 천공 장치에 관한 것이다.

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Номер записи: 3