28-02-2013 дата публикации
Номер: DE102011111190A1
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Präparation einer Probe für die Mikrostrukturdiagnostik, insbesondere für die Transmissionselektronenmikroskopie TEM, die Rasterelektronenmikroskopie oder die Rontgenabsorptionsspektroskopie, wobei eine flache, bevorzugt planparallele Scheibe entlang ihrer beiden gegenüberliegenden Oberflächen jeweils so mit einem energiereichen Strahl bestrahlt wird, dass durch strahlbedingten Materialabtrag in diese beiden Oberflächen jeweils eine bevorzugt parallel zu einer zentralen Scheibenebene verlaufende Vertiefung eingebracht wird, wobei diese beiden Vertiefungen beidseits dieser/einer zentralen Scheibenebene verlaufend so eingebracht werden, dass sich ihre Längsachsen, bei Projektion dieser Längsachsen auf diese zentrale Scheibenebene gesehen, unter einem vordefinierten Winkel α > 0°, bevorzugt α ≥ 10°, bevorzugt α ≥ 20°, bevorzugt α ≥ 30°, schneiden und dass im Schnittbereich der beiden Vertiefungen zwischen diesen ein bevorzugt bereits elektronenstrahltransparenter Materialabschnitt vordefinierter minimaler Dicke, gesehen senkrecht zu dieser zentralen Scheibenebene, als Probe verbleibt. Die Erfindung bezieht sich auch auf eine entsprechend ausgebildete Vorrichtung. The present invention relates to a method for the preparation of a sample for microstructure diagnostics, in particular for transmission electron microscopy TEM, scanning electron microscopy or X-ray absorption spectroscopy, wherein a flat, preferably plane-parallel disc is irradiated along its two opposite surfaces each with a high-energy beam that a recess extending preferably parallel to a central disk plane is introduced by beam-induced removal of material into these two surfaces, wherein these two depressions are introduced running on both sides of this / a central disk plane such that their longitudinal axes, viewed in projection of these longitudinal axes on this central disk plane, at a predefined angle α> 0 °, preferably α ≥ 10 °, ...
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