Настройки

Укажите год
-

Небесная энциклопедия

Космические корабли и станции, автоматические КА и методы их проектирования, бортовые комплексы управления, системы и средства жизнеобеспечения, особенности технологии производства ракетно-космических систем

Подробнее
-

Мониторинг СМИ

Мониторинг СМИ и социальных сетей. Сканирование интернета, новостных сайтов, специализированных контентных площадок на базе мессенджеров. Гибкие настройки фильтров и первоначальных источников.

Подробнее

Форма поиска

Поддерживает ввод нескольких поисковых фраз (по одной на строку). При поиске обеспечивает поддержку морфологии русского и английского языка
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Ведите корректный номера.
Укажите год
Укажите год
Применить Всего найдено 2. Отображено 2.
02-04-2024 дата публикации

마이크로웨이브 산란층을 포함하는 기판 처리 장치

Номер: KR20240042949A
Автор: 강한림, 최윤석, 봉윤근, 신재원, 이상정, 장경훈, 조현우, 박종원
Принадлежит:

... 본 발명은 마이크로웨이브 산란층을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 장치는, 내부에 처리 공간을 가지는 챔버; 상기 처리 공간에 배치되며 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 처리 공간으로 마이크로웨이브를 공급하여 기판을 가열하기 위한 마이크로웨이브 유닛; 및 상기 마이크로웨이브 유닛과 상기 기판 지지 유닛 사이에 배치되어, 상기 마이크로웨이브 유닛으로부터 상기 처리 공간으로 공급되는 마이크로웨이브를 산란시키기 위한 투명 부재를 포함할 수 있다.

Подробнее
Номер записи: 1
03-10-2013 дата публикации

HYBRID RADICAL PLASMA GRAPHENE ETCHING APPARATUS

Номер: WO2013147437A1
Автор: KIM, Duk Jae, BONG, Yoon Geun, SHIM, Yun Keun
Принадлежит:

The present invention relates to a hybrid radical plasma graphene etching apparatus that moves a polymer material coated with graphene by means of a stage return technique so as to etch graphene by using atmospheric pressure plasma. With respect to a hybrid radical plasma graphene etching apparatus that includes a driving unit for moving a substrate mounted for etching by means of a stage return technique, the hybrid radical plasma graphene etching apparatus comprises: an atmospheric pressure plasma electrode for generating and emitting neutral radical plasma when power for plasma is applied; and an etching unit having a polymer substrate coated with graphene having an etched mask mounted thereon, disposed at a lower portion of the atmospheric pressure plasma electrode, and etching the graphene of the polymer substrate in the pattern of the mask by means of atmospheric pressure radical plasma emitted from the atmospheric pressure plasma electrode. The etching unit includes: a main body ...

Подробнее
Номер записи: 2