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07-11-2016 дата публикации

RAPID THERMAL PROCESSING APPARATUS INCLUDING SUSCEPTOR UNIT

Номер: KR1020160127867A
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus for rapid thermal processing (RTP) which performs thermal processing of a substrate. The technical substance of the present invention is to provide the RTP apparatus including a susceptor unit comprising: a first susceptor where the substrate is mounted; and a second susceptor which is formed to be elevated by penetrating the first susceptor while being combined to the first susceptor, and loads and unloads the substrate. Hereupon, the RTP apparatus of the present invention has the advantage of realizing the process stably by improving temperature uniformity of the substrate and optimizing the apparatus by integrating a configuration to load and unload the substrate for supporting and elevating the substrate, and by realizing the first susceptor and the second susceptor. COPYRIGHT KIPO 2016 ...

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17-09-2018 дата публикации

APPARATUS FOR SPRAYING GAS AND FACILITY FOR PROCESSING SUBSTRATE INCLUDING SAME AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING SAME

Номер: KR1020180102404A
Принадлежит:

According to an embodiment of the present invention, an apparatus for spraying a gas comprises: a spray unit having a plurality of nozzles spraying a gas to a substrate by being arranged to a width direction of the substrate at one outside of the substrate; and a spraying control unit automatically controlling whether each of the nozzles sprays so that gas density distribution in the width direction of the substrate by the gas sprayed through the nozzles becomes target gas density distribution. Therefore, according to an embodiment of the present invention, the apparatus is easy to carry out a process with a plurality of process types or a plurality of gas density distribution types and shorten time for adjusting open or close operations of the nozzles. Accordingly, a production rate is improved, and the apparatus can be universally used to cope with various kinds of process conditions. COPYRIGHT KIPO 2018 ...

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13-02-2024 дата публикации

박막 제조 장치 및 방법

Номер: KR102635841B1
Принадлежит: 에이피시스템 주식회사

... 본 발명은 박막 제조 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 내부에 기판의 처리 공간을 형성하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 기판을 지지하도록 상기 챔버에 연결되는 기판지지부; 상기 기판지지부와 대향하도록 상기 챔버에 연결되는 열원부; 및 적어도 2개의 지점에서 상기 기판지지부와 상기 열원부 사이로 라디칼을 공급하도록 상기 챔버에 연결되는 플라즈마 발생부;를 포함하고, 기판에 형성되는 박막의 균일도를 개선할 수 있다.

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21-04-2022 дата публикации

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING THIN FILM

Номер: WO2022080688A1
Принадлежит:

The present invention relates to an apparatus and method for forming a thin film, the apparatus comprising: a chamber having inside a substrate processing space; a substrate support unit connected to the chamber so as to support a substrate inside the chamber; a heat source unit connected to the chamber to face the substrate support unit; and a plasma generation unit connected to the chamber at at least two points so as to supply radicals between the substrate support unit and the heat source unit. The present invention can improve the uniformity of a thin film formed on the substrate.

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11-03-2025 дата публикации

히터 블록 및 이를 포함하는 기판 가열장치

Номер: KR102779288B1
Принадлежит: 에이피시스템 주식회사

... 본 발명은 히터 블록 및 이를 포함하는 기판 가열장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 정밀한 가열 온도의 제어가 가능한 히터 블록 및 이를 포함하는 기판 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 히터 블록은 복수의 레이저 셀을 갖는 제1 레이저 모듈; 복수의 레이저 셀을 가지며, 상기 제1 레이저 모듈의 주변에 제공되는 제2 레이저 모듈; 및 상기 제1 레이저 모듈과 상기 제2 레이저 모듈에 각각 독립적으로 전력을 공급하는 제1 및 제2 전원부;를 포함하고, 상기 제1 레이저 모듈과 상기 제2 레이저 모듈 중 적어도 하나는 전력이 입력되는 입력단자를 공유하는 하나 이상의 상기 레이저 셀로 각각 구성되는 복수의 제어영역으로 분할되며, 상기 복수의 제어영역은 서로 독립적으로 제어될 수 있다.

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24-02-2011 дата публикации

HEATER BLOCK FOR A RAPID THERMAL PROCESSING APPARATUS

Номер: KR2011021796A2
Принадлежит:

The present invention relates to a heater block for a rapid thermal processing apparatus, and more particularly, to a heater block in which heating lamps are densely arranged in a tessellation. The tessellation has a structure such that the plurality of heating lamps are arranged at right angles to form a zigzagged line, and the thus-formed zigzagged line is repeated such that the zigzagged line is combined with the adjacent zigzagged line. According to the present invention, a temperature gradient caused by a void between heating lamps is prevented, and heating lamps are closely arranged to increase heat density for a heat radiation area as opposed to conventional heater blocks, thus achieving improved heat treatment efficiency using less energy. In addition, fully uniform temperature control is enabled, in terms of sector allocated temperature control, even when the area to be independently controlled is enlarged as opposed to conventional heater blocks, thereby simplifying the configuration ...

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18-04-2023 дата публикации

박막 제조 장치

Номер: KR102522687B1
Принадлежит: 에이피시스템 주식회사

... 본 발명은 박막 제조 장치에 관한 것으로서, 내부에 기판의 처리 공간을 형성하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 기판을 지지하도록 상기 챔버에 연결되는 기판지지부; 상기 기판지지부와 대향하도록 상기 챔버에 연결되는 열원부; 상기 기판지지부와 상기 열원부 사이로 라디칼을 공급하도록 상기 챔버의 일측에 연결되는 플라즈마 발생부; 및 내부에 라디칼의 이동 통로를 형성하고, 상부면에 상기 이동 통로와 연통되는 복수 개의 제1배기구가 형성되며, 상기 챔버에 연결되는 배플;을 포함하고, 기판에 형성되는 박막의 균일도를 개선할 수 있다.

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24-02-2011 дата публикации

HEATER BLOCK FOR A RAPID THERMAL PROCESSING APPARATUS

Номер: WO2011021796A3
Принадлежит:

The present invention relates to a heater block for a rapid thermal processing apparatus, and more particularly, to a heater block in which heating lamps are densely arranged in a tessellation. The tessellation has a structure such that the plurality of heating lamps are arranged at right angles to form a zigzagged line, and the thus-formed zigzagged line is repeated such that the zigzagged line is combined with the adjacent zigzagged line. According to the present invention, a temperature gradient caused by a void between heating lamps is prevented, and heating lamps are closely arranged to increase heat density for a heat radiation area as opposed to conventional heater blocks, thus achieving improved heat treatment efficiency using less energy. In addition, fully uniform temperature control is enabled, in terms of sector allocated temperature control, even when the area to be independently controlled is enlarged as opposed to conventional heater blocks, thereby simplifying the configuration ...

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09-11-2015 дата публикации

FABRICATION METHOD OF MICROLENS ARRAY FOR OLED OUT-COUPLING EFFICIENCY

Номер: KR0101567312B1
Автор: 김창교, 김현수
Принадлежит: 순천향대학교 산학협력단

OLED 광추출용 마이크로 렌즈 어레이 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 광추출용 마이크로 렌즈 어레이 제조방법은 기판 상에 피라미드형 오목부와 평탄부를 갖는 마이크로 패턴을 형성하는 1단계; 마이크로 패턴 상에 제1 성형체 형성용 수지를 도포 및 경화시킴으로써 일면에 피라미드형 오목부와 평탄부에 대응하는 표면을 가진 제1 성형체를 형성하는 2단계; 및 제1 성형체를 상기 기판으로부터 분리하는 3단계를 포함한다.

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03-09-2015 дата публикации

FABRICATION METHOD OF MICROLENS ARRAY FOR OLED LIGHT EXTRACTION

Номер: KR1020150101080A
Принадлежит:

Disclosed is a fabrication method of a microlens array for OLED light extraction. The fabrication method of a microlens array for OLED light extraction according to an embodiment of the present invention comprises a first step of forming a micro pattern having a pyramid concave part and flat part on a substrate; a second step of forming a first molded article having a surface corresponding to the pyramid concave part and flat part on one surface coating a resin for forming the first molded article on the micro pattern and curing; and a third step separating the first molded article from the substrate. COPYRIGHT KIPO 2015 ...

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24-02-2016 дата публикации

ELECTRONIC ASSEMBLY BONDING METHOD USING ADHESIVE

Номер: KR1020160020643A
Принадлежит:

The present invention relates to an electronic assembly bonding method using an adhesive, wherein the method comprises the processes of: preparing a plurality of assemblies constituting an electronic device; preparing an adhesive applied to bonding surfaces of the assemblies; modifying the bonding surfaces using a plasma; and applying the adhesive on the modified bonding surfaces. The adhesive is uniformly applied without bubbles on the bonding surfaces by improving spreading properties on a surface which the adhesive has. COPYRIGHT KIPO 2016 (AA) Start (BB) End (S100) Controlling adhesive viscosity (S200) Modifying adhesive applied surface on an electronic assembly (S300) Applying an adhesive (S400) Curing the adhesive (S500) Completing electronic assembly adhesion ...

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29-10-2018 дата публикации

가스 분사 장치, 이를 포함하는 기판 처리 설비 및 이를 이용한 기판 처리 방법

Номер: KR0101912886B1
Автор: 지상현, 김창교
Принадлежит: 에이피시스템 주식회사

... 본 발명의 실시예에 따른 가스 분사 장치는 기판의 일측 외측에서, 기판의 폭 방향으로 나열 배치되어, 기판을 향해 가스를 분사하는 복수의 노즐을 구비하는 분사부, 복수의 노즐을 통해 분사된 가스에 의한 기판 폭 방향으로의 가스 밀도 분포가 목표로하는 가스 밀도 분포 타입이 되도록, 상기 복수의 노즐 각각의 가스 분사 여부를 자동으로 제어하는 분사 제어 유닛을 포함한다. 따라서, 본 발명의 실시형태에 의하면, 복수종의 공정 타입 또는 복수종 가스 밀도 분포 타입으로 공정을 진행하는 것이 용이하며, 복수의 노즐의 오픈(open) 또는 닫힘(close) 동작을 조절하기 위한 시간을 단축할 수 있다. 이로 인해 생산율이 향상되고, 여러 종의 공정 조건에 대응할 수 있도록 범용적으로 사용할 수 있는 장점이 있다.

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